[發明專利]晶振探頭結構和蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201811042628.2
• 申請日: 2018-09-07
• 公開（公告）號: CN108823545B
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發明（設計）人: 楊一帆;曹鵬;趙明;卿萬梅
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/24
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 趙國榮

1.一種晶振探頭結構，包括：

導流罩，包括帶有導流口的腔室，所述導流口使得所述腔室與外界連通；

晶振頭，固定于所述腔室內，所述晶振頭包括基座以及至少一個晶振片，所述晶振片固定在所述基座的面向所述導流口的一側；

網篩結構，包括多個開孔，所述網篩結構設置于所述導流罩且位于所述晶振頭的面向所述導流口的一側，以及

驅動單元，位于所述基座上，

其中，所述導流口和所述網篩結構為圓形，所述至少一個晶振片中的一個在所述基座上的正投影位于所述導流口在所述基座上的正投影之內，所述導流口的內徑與所述網篩結構的直徑相等，

所述至少一個晶振片包括至少兩個所述晶振片，設置在所述基座上，

所述基座上設置有遮擋板，所述遮擋板位于至少兩個所述晶振片和所述導流口之間，至少兩個所述晶振片中的一個在所述基座上的正投影位于所述遮擋板在所述基座上的正投影之外，至少兩個所述晶振片中的其它在所述基座上的正投影位于所述遮擋板在所述基座上的正投影之內，

所述驅動單元與所述遮擋板連接，并且所述驅動單元配置為驅動所述遮擋板旋轉，以使得至少兩個所述晶振片依次暴露于所述導流口。

2.根據權利要求1所述的晶振探頭結構，其中，

所述網篩結構固定于所述導流口。

3.根據權利要求2所述的晶振探頭結構，其中，

所述開孔以所述網篩結構的圓心為中心向外均勻排布。

4.根據權利要求1所述的晶振探頭結構，其中，

所述網篩結構的開口率為1/10～1/2。

5.根據權利要求1所述的晶振探頭結構，其中，

所述開孔的形狀包括三角形、圓形、矩形和多邊形之一。

6.根據權利要求3所述的晶振探頭結構，其中，

所述開孔為圓形，并且所述開孔的直徑為0.5～4毫米。

7.根據權利要求1所述的晶振探頭結構，其中，

所述導流罩為圓筒形。

8.根據權利要求1所述的晶振探頭結構，其中，所述腔室的內徑和所述導流口的內徑相等。

9.根據權利要求1-7任一項所述的晶振探頭結構，其中，

所述晶振片中的一個在所述基座上的正投影位于所述導流口在所述基座上的正投影之外，所述晶振片中的其它在所述基座上的正投影位于所述導流口在所述基座上的正投影之內。

10.一種蒸鍍裝置，包括權利要求1-9中任一項所述的晶振探頭結構。

11.根據權利要求10所述的蒸鍍裝置，還包括蒸鍍室、蒸發源和待蒸鍍基板固定結構，其中，

所述蒸發源、所述待蒸鍍基板固定結構和所述晶振探頭結構位于所述蒸鍍室中，所述待蒸鍍基板固定結構和所述晶振探頭結構并列設置于所述蒸發源的同一側，以及

所述晶振探頭結構的所述導流口面向所述蒸發源。