[發(fā)明專利]一種高導(dǎo)電順排碳納米管紡絲連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備及制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811042095.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-09-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109295424B | 公開(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 丁建寧;袁寧一 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 常州大學(xué);江蘇大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/30 | 分類號(hào): | C23C14/30;C23C14/18;C23C16/26;C23C16/54;D01F9/12;B82Y40/00 |
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| 地址: | 213164 *** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 導(dǎo)電 順排碳 納米 紡絲 連續(xù)生產(chǎn) 設(shè)備 制造 方法 | ||
1.一種順排碳納米管紡絲連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備,包括依次排列的進(jìn)樣系統(tǒng)、金屬催化膜制備系統(tǒng)、碳納米管生長(zhǎng)系統(tǒng)以及拉膜鍍膜紡絲卷繞系統(tǒng),金屬催化膜制備系統(tǒng)與碳納米管生長(zhǎng)系統(tǒng)之間設(shè)有納米結(jié)構(gòu)過(guò)渡系統(tǒng),碳納米管生長(zhǎng)系統(tǒng)與拉膜鍍膜紡絲卷繞系統(tǒng)之間設(shè)有轉(zhuǎn)移過(guò)渡系統(tǒng),其特征是:
所述進(jìn)樣系統(tǒng):包括真空腔體,真空腔體內(nèi)設(shè)有兩邊帶卡槽用于夾持硅片的樣品托,樣品托上方設(shè)有可將夾持有硅片的樣品托向后續(xù)系統(tǒng)傳遞的第一機(jī)械手;
所述金屬催化膜制備系統(tǒng):包括真空腔室,真空腔室內(nèi)設(shè)有放置硅片的基片架,位于基片架下方設(shè)有電子束蒸發(fā)源,基片架上方設(shè)有基片加熱器;
所述碳納米管生長(zhǎng)系統(tǒng):包括真空的生長(zhǎng)腔體和設(shè)在生長(zhǎng)腔體內(nèi)的基片架,基片架上方設(shè)有雙層氣孔勻氣裝置,基片架下方設(shè)有加熱裝置,生長(zhǎng)腔體頂部連接有通入四路氣體加以混合的混氣腔;
所述拉膜鍍膜紡絲卷繞系統(tǒng):包括真空腔,真空腔內(nèi)設(shè)有基片架、紡絲裝置和收卷裝置,基片架上方設(shè)有納米顆粒沉積系統(tǒng),基片架出料端處設(shè)有從硅片上碳納米管陣列拉出碳膜的刀片機(jī)械手,刀片機(jī)械手與紡絲裝置之間設(shè)有導(dǎo)向碳膜移動(dòng)的羅拉滾輪,紡絲裝置加捻制出的紗線由收卷裝置旋轉(zhuǎn)收卷。
所述納米結(jié)構(gòu)過(guò)渡系統(tǒng):包括真空過(guò)渡腔,真空過(guò)渡腔內(nèi)設(shè)有在真空腔室與生長(zhǎng)腔體之間傳遞樣品托的第二機(jī)械手;
所述轉(zhuǎn)移過(guò)渡系統(tǒng):包括真空過(guò)渡室,真空過(guò)渡室內(nèi)設(shè)有在生長(zhǎng)腔體與真空腔之間傳遞樣品托的第三機(jī)械手。
2.如權(quán)利要求1所述的順排碳納米管紡絲連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備,其特征是:所述的真空腔體、真空過(guò)渡腔、生長(zhǎng)腔體以及真空過(guò)渡室底部均連接有抽取真空的機(jī)械泵;真空腔室和真空腔底部均連接有實(shí)現(xiàn)真空腔室和真空腔內(nèi)部高真空或低真空的真空系統(tǒng)。
3.如權(quán)利要求1所述的順排碳納米管紡絲連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備,其特征是:所述的真空腔體、真空腔室、真空過(guò)渡腔、生長(zhǎng)腔體和真空過(guò)渡室兩側(cè)分別通過(guò)可控制啟閉的過(guò)渡艙門接通。
4.如權(quán)利要求1所述的順排碳納米管紡絲連續(xù)生產(chǎn)設(shè)裝備,其特征是:所述的真空腔體內(nèi)設(shè)有放置樣品托的多層架,多層架內(nèi)設(shè)有上下升降樣品托的升降裝置。
5.如權(quán)利要求1所述的順排碳納米管紡絲連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備,其特征是:所述的電子束蒸發(fā)源與基片架之間設(shè)有防止雜質(zhì)沉積于硅片表面的擋板,真空腔室四周纏繞有冷卻真空腔室壁的冷凝水管。
6.如權(quán)利要求1所述的順排碳納米管紡絲連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備,其特征是:所述的混氣腔上連接有通入四種氣體的四路進(jìn)氣系統(tǒng),
7.一種使用如權(quán)利要求1所述連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備進(jìn)行順排碳納米管紡絲生產(chǎn)的制造方法,具有如下步驟:
a、將硅片從進(jìn)樣系統(tǒng)的真空腔體傳遞進(jìn)金屬催化膜制備系統(tǒng)的真空腔室內(nèi);
b、沉積金屬催化膜:利用電子束蒸發(fā)源將Fe或Ni材料蒸發(fā)到沉積有1微米厚度的氧化硅的硅片上,F(xiàn)e或者Ni的厚度在5~10nm,沉積過(guò)程中開啟基片加熱器;
c、將沉積有金屬催化膜的硅片,傳遞到納米結(jié)構(gòu)過(guò)渡系統(tǒng),在硅片上形成納米顆粒;
d、碳納米管陣列生長(zhǎng);打開加熱裝置,將基片架溫度升高到700~80℃,混氣腔內(nèi)的四路混合氣體進(jìn)入雙層氣孔勻氣裝置,到達(dá)基片架上的硅片樣品,利用氣流方向和溫度梯度方向垂直于硅片而促進(jìn)碳納米管的垂直生長(zhǎng);
e、將碳納米管陣列傳遞到轉(zhuǎn)移過(guò)渡系統(tǒng)的真空過(guò)渡室內(nèi);
f、拉膜、納米顆粒沉積、紡絲、卷繞;刀片機(jī)械手水平移動(dòng)到碳納米管陣列邊緣處沿著垂直方向壓在碳納米管上,拉出碳絲,然后納米顆粒沉積系統(tǒng)開始蒸發(fā)金屬納米顆粒或者氧化物納米顆粒沉積到碳納米管膜上,碳納米管膜一邊移動(dòng),納米顆粒一邊被蒸發(fā)上去,紡絲裝置的旋轉(zhuǎn)電機(jī)開始旋轉(zhuǎn),碳納米管跟隨進(jìn)行加捻紡絲,一邊紡絲一邊由收卷裝置旋轉(zhuǎn)收卷。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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