[發明專利]一種通用掩模版盒在審
| 申請號: | 201811041483.4 | 申請日: | 2018-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN109116677A | 公開(公告)日: | 2019-01-01 |
| 發明(設計)人: | 朱希進;尤春;劉維維;季書鳳;楊長華;薛文卿;張月圓;劉浩;陳青;劉孝君 | 申請(專利權)人: | 無錫中微掩模電子有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66 |
| 代理公司: | 連云港聯創專利代理事務所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人: | 劉剛 |
| 地址: | 214000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩模版 掩模版盒 合蓋 存放盒 限板 通用掩模版 限位板 四邊中心位置 綠色環保 防塵 防水霧 傾斜面 軟鉸鏈 限位槽 限位桿 加工 | ||
1.一種通用掩模版盒,包括掩模版盒上合蓋(1),其特征在于,所述掩模版盒上合蓋(1)一側設有掩模版存放盒(2),所述掩模版盒上合蓋(1)和掩模版存放盒(2)之間通過兩個軟鉸鏈(3)連接,所述掩模版盒上合蓋(1)和掩模版存放盒(2)上均設有5009掩模版限板(6),所述5009掩模版限板(6)分別設置于掩模版盒上合蓋(1)和掩模版存放盒(2)的四邊中心位置,每個所述(6)設有兩個限位桿,所述(6)上的限位板之間設有5009掩模版限位槽(7),所述掩模版盒上合蓋(1)和掩模版存放盒(2)四周均設有6025掩模版限位板(8),所述5009掩模版限板(6)內側設有互為直角的傾斜面,四個所述5009掩模版限板(6)之間的傾斜面之間形成5009掩模版存放區(10),四個所述6025掩模版限位板(8)之間形成6025掩模版存放區(5),每個所述掩模版存放盒(2)上的6025掩模版限位板(8)內兩側各設有一個卡接槽(9),每個所述掩模版盒上合蓋(1)上的6025掩模版限位板(8)內兩側各設有一個卡接柱(4),所述卡接柱(4)卡接于卡接槽(9)上,所述掩模版盒上合蓋(1)和掩模版存放盒(2)通過卡接柱(4)和卡接槽(9)互相連接。
2.根據權利要求書1所述一種通用掩模版盒,其特征在于,所述軟鉸鏈(3)為軟質韌性橡膠材質制成。
3.根據權利要求書1所述一種通用掩模版盒,其特征在于,所述掩模版盒上合蓋(1)和掩模版存放盒(2)的相接處設有乳膠封邊。
4.根據權利要求書1所述一種通用掩模版盒,其特征在于,所述掩模版盒上合蓋(1)和掩模版存放盒(2)均采用PVE環保材質制成。
5.根據權利要求書1所述一種通用掩模版盒,其特征在于,所述卡接柱(4)為橡膠材質制成的圓柱體,所述卡接槽(9)內部的槽的體積與卡接柱(4)相同。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





