[發明專利]一種用于柔性ITO的打印圖案化刻蝕方法在審
| 申請號: | 201811040477.7 | 申請日: | 2018-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN110890479A | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
| 發明(設計)人: | 呂文理;彭應全;丁思晗;周震康 | 申請(專利權)人: | 中國計量大學 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310018 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 柔性 ito 打印 圖案 刻蝕 方法 | ||
1.一種用于柔性ITO的打印圖案化刻蝕方法,包括如下操作:
利用打印機在柔性ITO基底上打印出高質量的待刻蝕圖案,然后將打印好圖案的柔性ITO基底用強酸溶液進行快速腐蝕,最后脫去打印圖案的油墨層,進行清洗和干燥,從而得到圖案化刻蝕的柔性ITO基底。
2.如權利要求1所述的用于柔性ITO的打印圖案化刻蝕方法,其特征在于:刻蝕的ITO采用柔性襯底,包括但不限于聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚對苯二甲酸二醇酯、聚對萘二甲酸乙二醇酯和聚酰亞胺等柔性襯底。
3.如權利要求1所述的用于柔性ITO的打印圖案化刻蝕方法,其特征在于:將所需刻蝕圖案直接打印在ITO基底上進行腐蝕。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





