[發明專利]具有消耗品識別的等離子處理系統有效
| 申請號: | 201811037651.2 | 申請日: | 2018-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN109511210B | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發明(設計)人: | 布萊恩·K·懷特 | 申請(專利權)人: | 林肯環球股份有限公司 |
| 主分類號: | H05H1/34 | 分類號: | H05H1/34 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 陸建萍;楊明釗 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 消耗品 識別 等離子 處理 系統 | ||
一種等離子處理系統包括炬,該炬具有消耗品。氣體壓力調節器包括輸入壓力傳感器,該輸入壓力傳感器被配置成用于感測該氣體壓力調節器的輸入壓力。氣體導管將氣體從該氣體壓力調節器供應至該炬。控制器被可操作地連接至該氣體壓力調節器,以從該輸入壓力傳感器接收輸入壓力信號并且向該氣體壓力調節器提供控制信號以控制該氣體壓力調節器的操作并設定該氣體壓力調節器的輸出壓力。該控制器被配置成基于該氣體壓力調節器的輸入壓力和提供至該氣體壓力調節器的控制信號二者來識別消耗品。
發明背景
技術領域
本發明的實施例涉及采用炬的等離子處理系統,炬在其內具有消耗品。
背景技術
等離子炬可以用于在工件上進行等離子處理操作,例如切割或熔刮操作。這些炬包括可以在使用一段時間之后或者為使得消耗品的安培額定值與有待進行的等離子處理相匹配而進行更換的多種不同的消耗品。實例消耗品包括電極、渦流環、噴嘴、固持帽、和防護帽。消耗品通常成包括這些消耗品中的兩個或兩個以上的組地安裝。例如,更換用電極、渦流環、以及噴嘴(所有這些都具有相同的安培額定值)可能一起被同時安裝在炬上。
單個炬可以利用具有不同安培額定值(諸如50A、100A等)的消耗品。如果在較高安培值等離子處理中使用具有過低安培額定值的消耗品,則可能損壞消耗品并可能損壞炬,從而導致增加的費用和停機時間。因此,用來檢測消耗品針對等離子操作恰當地還是不恰當地確定大小的能力將是有益的。
發明內容
下面的概述呈現了簡化的概述,以提供對本文所討論的裝置、系統和/或方法的一些方面的基本理解。本概述不是本文所討論的裝置、系統和/或方法的廣泛的綜述。其并不旨在識別關鍵的元件或劃定這類裝置、系統和/或方法的范圍。其唯一的目的是以簡化的形式呈現一些概念,作為稍后呈現的更詳細的說明的序言。
根據本發明的一方面,提供一種等離子處理系統。等離子處理系統包括炬,并且炬包括消耗品。氣體壓力調節器包括輸入壓力傳感器,輸入壓力傳感器被配置成用于感測氣體壓力調節器的輸入壓力。氣體導管將氣體從氣體壓力調節器供應至炬。控制器被可操作地連接至氣體壓力調節器,以從輸入壓力傳感器接收輸入壓力信號并且向氣體壓力調節器提供控制信號以控制氣體壓力調節器的操作并設定氣體壓力調節器的輸出壓力。控制器被配置成基于氣體壓力調節器的輸入壓力和提供至氣體壓力調節器的控制信號二者來識別消耗品。等離子處理系統可以包括存儲器,存儲器是控制器可訪問的,其中,存儲器存儲氣體壓力調節器的輸入壓力與所述位置信號的相應的位置信號水平之間的相關性。在某些實施例中,氣體壓力調節器可以包括比例閥,控制信號是比例閥的位置信號。等離子處理系統可以進一步包括輸出壓力傳感器,輸出壓力傳感器在氣體壓力調節器下游、并且被配置成用于感測氣體壓力調節器的輸出壓力,其中,控制器被可操作地連接至輸出壓力傳感器,以從輸出壓力傳感器接收輸出壓力信號,并且其中,控制器被配置成基于氣體壓力調節器的輸入壓力、被提供至氣體壓力調節器的控制信號、以及氣體壓力調節器的輸出壓力來識別消耗品。在某些實施例中,控制器執行比例積分微分(PID)控制例程以產生控制信號。等離子處理系統可以進一步包括用戶接口,用戶接口被可操作地連接至控制器,其中,當消耗品的安培額定值不與等離子處理操作的安培值水平相匹配時,用戶接口顯示警報消息。在某些實施例中,消耗品是渦流環,在某些實施例中,消耗品包括渦流環和噴嘴。在某些實施例中,被提供至氣體壓力調節器的控制信號具有占空比,并且控制器被配置成基于氣體壓力調節器的輸入壓力以及控制信號的占空比來識別消耗品。
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