[發明專利]具有消耗品識別的等離子處理系統

有效

• 申請號: 201811037651.2
• 申請日: 2018-09-06
• 公開（公告）號: CN109511210B
• 公開（公告）日: 2022-07-22
• 發明（設計）人: 布萊恩·K·懷特
• 申請（專利權）人: 林肯環球股份有限公司
• 主分類號: H05H1/34
• 分類號: H05H1/34
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 陸建萍;楊明釗

1.一種等離子處理系統，包括：

炬，所述炬包括炬消耗品；

氣體壓力調節器，其中，所述氣體壓力調節器包括輸入壓力傳感器，所述輸入壓力傳感器被配置成用于感測所述氣體壓力調節器的輸入壓力；

氣體導管，所述氣體導管將氣體從所述氣體壓力調節器供應至所述炬；以及

控制器，所述控制器包括處理器和存儲器，其中，所述控制器被可操作地連接至所述氣體壓力調節器，以從所述輸入壓力傳感器接收輸入壓力信號并且向所述氣體壓力調節器提供控制信號以控制所述氣體壓力調節器的操作并設定所述氣體壓力調節器的輸出壓力，

其中，所述存儲器存儲所述氣體壓力調節器的輸入壓力與用于多個消耗品的所述控制信號的相應的水平之間的相關性，并且其中，所述控制器被配置成基于所述氣體壓力調節器的輸入壓力和提供至所述氣體壓力調節器的控制信號二者來識別所述炬消耗品。

2.如權利要求1所述的等離子處理系統，其中，所述氣體壓力調節器包括比例閥，并且所述控制信號是所述比例閥的位置信號。

3.如權利要求1所述的等離子處理系統，進一步包括輸出壓力傳感器，所述輸出壓力傳感器在所述氣體壓力調節器下游并且被配置成用于感測所述氣體壓力調節器的輸出壓力，其中，所述控制器被可操作地連接至所述輸出壓力傳感器以從所述輸出壓力傳感器接收輸出壓力信號，并且其中，所述控制器被配置成基于所述氣體壓力調節器的輸入壓力、被提供至所述氣體壓力調節器的控制信號、以及所述氣體壓力調節器的輸出壓力來識別所述炬消耗品。

4.如權利要求1所述的等離子處理系統，其中，所述控制器執行比例積分微分(PID)控制例程以產生所述控制信號。

5.如權利要求1所述的等離子處理系統，進一步包括用戶接口，所述用戶接口被可操作地連接至所述控制器，其中，當所述炬消耗品的安培額定值不與等離子處理操作的安培值水平匹配時，所述用戶接口顯示警報消息。

6.如權利要求1所述的等離子處理系統，其中，所述炬消耗品是渦流環。

7.如權利要求1所述的等離子處理系統，其中，所述炬消耗品包括渦流環和噴嘴。

8.如權利要求1所述的等離子處理系統，其中，提供至所述氣體壓力調節器的控制信號具有占空比，并且所述控制器被配置成基于所述氣體壓力調節器的輸入壓力和所述控制信號的占空比來識別所述炬消耗品。

9.一種等離子處理系統，包括：

炬，所述炬包括安裝在所述炬上的消耗品；

氣體壓力調節器，所述氣體壓力調節器包括比例閥和在所述比例閥下游的壓力傳感器；

氣體導管，所述氣體導管將氣體從所述氣體壓力調節器供應至所述炬；

控制器，所述控制器包括處理器，其中，所述控制器被可操作地連接至所述氣體壓力調節器，以從所述壓力傳感器接收壓力信號并且向所述氣體壓力調節器提供位置信號以控制所述比例閥的操作并設定所述氣體壓力調節器的輸出壓力；以及

存儲器，所述存儲器是所述控制器可訪問的、并且存儲預期的消耗品參數，所述預期的消耗品參數包括預期的比例閥的位置，

其中，所述控制器被配置成基于所述比例閥的位置來確定安裝在所述炬上的消耗品是否對應于至少一個所預期的消耗品參數。

10.如權利要求9所述的等離子處理系統，其中，所述控制器從所述位置信號確定所述比例閥的位置。

11.如權利要求10所述的等離子處理系統，進一步包括輸入壓力傳感器，所述輸入壓力傳感器被配置成用于感測所述氣體壓力調節器的輸入壓力，其中，所述控制器被可操作地連接至所述輸入壓力傳感器以從所述輸入壓力傳感器接收輸入壓力信號，并且其中，所述控制器被配置成基于所述位置信號和所述輸入壓力信號來確定安裝在所述炬上的消耗品是否對應于所述至少一個所預期的消耗品參數。