[發明專利]一種蒸發源及蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201811034845.7
• 申請日: 2018-09-05
• 公開（公告）號: CN109136855B
• 公開（公告）日: 2021-03-02
• 發明（設計）人: 裴鳳巍
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/26
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種蒸發源，包括坩堝，所述坩堝的頂部設置有多個蒸鍍口，其特征在于，所述坩堝包括一端開口的坩堝本體、以及用于封閉所述坩堝本體的開口端的坩堝蓋子；多個所述蒸鍍口設置在所述坩堝蓋子上，且所述蒸鍍口為圓形；所述坩堝本體為條狀；所述蒸發源還包括：

旋轉裝置，設置于所述坩堝的底部，用于旋轉時帶動所述坩堝旋轉；所述旋轉裝置包括旋轉盤和與所述旋轉盤連接的驅動件；所述旋轉盤為橢圓形，且所述旋轉盤的長軸方向與所述坩堝本體的延伸方向相同；所述驅動件用于驅動所述旋轉盤旋轉；

承載槽，用于放置所述坩堝；所述承載槽與所述旋轉盤固定連接；以及，

頂部加熱結構，設置在所述坩堝本體內、且靠近所述開口端；所述頂部加熱結構包括設置在所述坩堝本體內側壁一圈的第一加熱絲和設置在所述第一加熱絲圍成區域內、且與所述第一加熱絲連接的多個圍成封閉圖形的第二加熱絲；其中，所述第二加熱絲圍成的圖形為圓形；所述蒸鍍口沿所述坩堝本體深度方向的正投影位于所述第二加熱絲圍成的區域內。

2.根據權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，多個所述蒸鍍口沿所述坩堝本體的延伸方向排布在所述坩堝蓋子上。

3.根據權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，所述坩堝本體卡入所述承載槽內。

4.根據權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，所述承載槽上設置有第一連接部，所述旋轉裝置上設置有第二連接部；所述第一連接部與所述第二連接部配合連接。

5.根據權利要求4所述的蒸發源，其特征在于，所述第一連接部為凸起，所述第二連接部為凹槽；

或者，所述第一連接部為凹槽，所述第二連接部為凸起。

6.根據權利要求5所述的蒸發源，其特征在于，所述凹槽的形狀和所述凸起的形狀均為十字型。

7.根據權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，所述驅動件為電機。

8.根據權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，所述蒸發源還包括底部加熱結構；所述底部加熱結構包括多個片狀加熱網，多個所述片狀加熱網兩兩交叉分布；

所述片狀加熱網與所述坩堝本體的底面垂直，且所述片狀加熱網的網格延伸至所述坩堝本體的內側壁。

9.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權利要求1-8中任意一項所述的蒸發源。