[發(fā)明專利]具有最小化膨脹、起皺或撕裂的銅箔，包括其的電極，包括其的二次電池，及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811032829.4 | 申請日： | 2018-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN110880602B | 公開（公告）日： | 2023-04-07 |
| 發(fā)明（設計）人： | 金星玟;李廷吉 | 申請（專利權(quán)）人： | SK納力世有限公司 |
| 主分類號： | H01M4/66 | 分類號： | H01M4/66;H01M4/70;H01M4/131;H01M4/133;H01M4/134;H01M10/058 |
| 代理公司： | 隆天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人： | 于磊;張福根 |
| 地址： | 韓國全*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 最小化 膨脹 起皺 撕裂 銅箔 包括 電極 二次 電池 及其 制造 方法 | ||
1.一種銅箔，其包括銅層，并且其抗拉強度為29至65kgf/mm2，粗糙度輪廓單元的平均寬度為18至148μm，織構(gòu)系數(shù)偏誤[TCB(220)]為0.52或更小，
其中織構(gòu)系數(shù)偏誤[TCB(220)]根據(jù)下面的等式1來計算：
[等式1]
[TCB(220)]＝TCmax–TCmin
在銅箔的寬度方向上的左側(cè)、中間和右側(cè)各自的點處測量三次[TCB(220)]，最高的[TC(220)]值用TCmax表示，最低的[TC(220)]值用TCmin表示。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅箔，其還包括設置在所述銅層上的防腐蝕膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的銅箔，其中所述防腐蝕膜包括鉻、硅烷化合物和氮化合物中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅箔，其中所述銅箔的最大高度粗糙度為0.6μm或更大。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅箔，其中所述銅箔的重量偏差為5％或更小。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅箔，其中所述銅箔在25±15℃的室溫下具有2％或更高的伸長率。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅箔，其中所述銅箔的厚度為4μm至30μm。
8.一種用于二次電池的電極，其包括：
根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的銅箔；和
設置在所述銅箔上的活性材料層。
9.一種二次電池，其包括：
陰極；
面對陰極的陽極；
設置在所述陰極和所述陽極之間的電解液，用于提供使離子能夠移動的環(huán)境；和
分隔物，用于使所述陰極與所述陽極電絕緣，
其中所述陽極包括：
根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的銅箔；和
設置在所述銅箔上的活性材料層。
10.一種柔性銅箔層壓膜，其包括：
聚合物膜；和
設置在所述聚合物膜上的根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的銅箔。
11.一種用于制造銅箔的方法，其包括將30至80A/dm2的電流密度施加到在含有銅離子的電解液中彼此隔開的電極板和旋轉(zhuǎn)電極鼓以形成銅層，
其中所述電解液包含：
70至100g/L的銅離子；
80至130g/L的硫酸；
2至20mg/L的2-巰基噻唑啉；
2至20mg/L的雙-(3-磺丙基)二硫化物；和
50mg/L或更少的聚乙二醇。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述電解液包含10至30mg/L的氯。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述電解液的每秒流速偏差為5％或更小。
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