[發明專利]噴墨打印方法和顯示基板的制備方法在審
| 申請號: | 201811031391.8 | 申請日: | 2018-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN109166983A | 公開(公告)日: | 2019-01-08 |
| 發明(設計)人: | 代青;侯文軍 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 汪源;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理基板 像素開口 墨滴 噴墨打印 距離增大 顯示基板 顯示面板 相鄰像素 拉伸 預設 制備 開口 干燥成膜 混色問題 精度誤差 拉伸狀態 噴墨工藝 最大像素 容忍度 分辨率 噴入 恢復 | ||
1.一種噴墨打印方法,其特征在于,包括:
拉伸待處理基板,以使得所述待處理基板內在預設方向上相鄰的像素開口之間的距離增大;
向所述像素開口中噴入墨滴;
對所述像素開口中的墨滴進行干燥成膜處理,并將處于拉伸狀態的待處理基板恢復至初始狀態。
2.根據權利要求1所述的噴墨打印方法,其特征在于,所述待處理基板內的所述像素開口呈行列陣列排布;
所述預設方向包括:行方向和/或列方向。
3.根據權利要求1所述的噴墨打印方法,其特征在于,處于初始狀態的所述待處理基板內在預設方向上相鄰的所述像素開口之間的距離為L1;
經過拉伸后的所述待處理基板內在預設方向上相鄰的所述像素開口之間的距離為L2,L2與L1的比值為Q;
Q的取值范圍包括:(1,3]。
4.根據權利要求1所述的噴墨打印方法,其特征在于,在拉伸待處理基板的過程中,還使得所述像素開口的尺寸增大。
5.根據權利要求4所述的噴墨打印方法,其特征在于,處于初始狀態的所述待處理基板內的所述像素開口的面積為S1;
經過拉伸后的所述待處理基板內的所述像素開口的面積為S2,S2與S1的比值為P;
P的取值范圍包括:(1,4]。
6.根據權利要求1所述的噴墨打印方法,其特征在于,在所述拉伸待處理基板的步驟和所述向所述像素開口中噴入墨滴的步驟之間,還包括:
將處于拉伸狀態的所述待處理基板固定于托盤上。
7.根據權利要求6所述的噴墨打印方法,其特征在于,處于拉伸狀態的所述待處理基板的四周邊緣與所述托盤固定。
8.根據權利要求6所述的噴墨打印方法,其特征在于,所述對所述像素開口中的墨滴進行干燥成膜處理,并將處于拉伸狀態的待處理基板恢復至初始狀態的步驟包括:
將處于拉伸狀態的所述待處理基板與所述托盤之間解除固定,處于拉伸狀態的所述待處理基板在自身彈力的作用下恢復至初始狀態;
將所述待處理基板置于干燥腔室中,并對所述待處理基板中的墨滴進行干燥成膜處理,以使得所述墨滴轉變為薄膜。
9.根據權利要求6所述的噴墨打印方法,其特征在于,所述對所述像素開口中的墨滴進行干燥成膜處理,并將處于拉伸狀態的待處理基板恢復至初始狀態的步驟包括:
將處于拉伸狀態的所述待處理基板和與所述待處理基板固定的所述托盤置于干燥腔室中;
將處于拉伸狀態的所述待處理基板與所述托盤之間解除固定;
對所述待處理基板中的墨滴進行干燥成膜處理,以使得所述墨滴轉變為薄膜,與此同時,處于拉伸狀態的所述待處理基板在自身彈力的作用下恢復至初始狀態。
10.一種顯示基板的制備方法,其特征在于,包括:
在襯底基板上形成像素驅動電路和像素界定層,所述像素界定層上形成有若干個像素開口;
采用上述權利要求1-9中任一所述的噴墨打印方法在所述像素開口中形成發光層薄膜。
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H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
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H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
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H01L51-54 .. 材料選擇





