[發明專利]成膜裝置

有效

• 申請號: 201811029582.0
• 申請日: 2018-09-05
• 公開（公告）號: CN109468609B
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發明（設計）人: 小野大祐;神戶優
• 申請（專利權）人: 芝浦機械電子裝置株式會社
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/34
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

1.一種成膜裝置，其特征在于，具有：

腔室，能夠使內部為真空，并在上部具有能夠開閉的蓋體；

搬運部，設于所述腔室內，具有對工件進行保持的旋轉平臺與旋轉軸，并以所述旋轉軸為中心在圓周的軌跡對所述工件進行旋轉搬運；

成膜部，通過濺射而使成膜材料堆積于由所述搬運部搬運的所述工件以進行成膜；

屏蔽構件，在供所述工件通過的一側具有開口，形成供利用所述成膜部進行成膜的成膜室；以及

支撐部，對所述屏蔽構件進行支撐，相對于所述腔室為不動且獨立于所述蓋體，

所述支撐部具有：

外周支撐部，在所述旋轉平臺的旋轉外周側對所述屏蔽構件進行支撐；以及

內周支撐部，在所述旋轉平臺的旋轉內周側對所述屏蔽構件進行支撐，

所述內周支撐部為支撐所述旋轉軸且相對于所述腔室為不動的支柱，

通過將所述屏蔽構件支撐在所述外周支撐部與所述內周支撐部之間，在所述屏蔽構件的所述開口的下端與所述旋轉平臺之間形成有所述旋轉平臺上的所述工件能夠通過的間隔。

2.根據權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，所述旋轉軸貫穿所述腔室的底部而豎立設置在所述腔室的內部_。

3.根據權利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于，在所述支撐部與所述屏蔽構件之間設有第1防振材。

4.根據權利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于，在所述屏蔽構件與所述蓋體之間設有第2防振材。

5.根據權利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于，在所述屏蔽構件與所述蓋體之間設有散熱構件。

6.根據權利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于，所述屏蔽構件具有：

頂面部，安裝于所述蓋體；以及

側面部，與所述頂面部分開而設置。

7.根據權利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于，具有：調整構件，拆裝自如地設于所述屏蔽構件，對所述屏蔽構件與所述工件之間的間隔進行調整。

8.根據權利要求7所述的成膜裝置，其特征在于，所述調整構件通過多個分割構件的組合而構成。

9.根據權利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于，具有：修正板，拆裝自如地設于所述屏蔽構件，對所形成的膜的膜厚分布進行調整。