[發明專利]光學元件的處理方法

有效

• 申請號: 201811027802.6
• 申請日: 2018-09-04
• 公開（公告）號: CN109226044B
• 公開（公告）日: 2020-03-31
• 發明（設計）人: 蔣安國;鄧江;鐘欽;楊建坤
• 申請（專利權）人: 湖南莊耀光電科技有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/12;B08B3/10;B08B3/02
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 黃曉慶

本申請涉及一種光學元件的處理方法，包括如下清洗步驟：將待處理的光學元件依次置于航空汽油中浸泡，擦洗；丙酮中浸泡，超聲清洗，水沖洗；四氯化碳中浸泡，超聲清洗，水沖洗；鹽酸溶液中煮沸，水浸泡，水沖洗；水超聲清洗；過氧化氨超聲清洗，水沖洗；水超聲清洗；水浸泡，水沖洗等。上述光學元件的處理方法，可實現光學元件的高潔凈度清洗，有效去除光學元件表面殘留的松香、瀝青、蜂蠟、鹽、氧化鈰、氧化鐵、氧化鋁等污染物。

技術領域

本發明涉及光學加工處理技術領域，特別是涉及一種光學元件的處理方法。

背景技術

光學元件在精密拋光后，表面大多殘留有多種有機物和拋光粉微粒，如松香、瀝青、蜂蠟、氧化鈰、氧化鐵、氧化鋁微粒等，這些表面殘留的污染物直接影響著光學元件鍍膜后的膜片質量，具體表現為不但對元件表面產生腐蝕，影響薄膜的光譜特性，而且在紫外激光輻照下極易吸收熱量，引起周圍薄膜的燒蝕，從而大幅度降低薄膜對高功率激光的承受能力，成為元件損傷的誘發源和短板。

因此，尋找一種能有效去除光學元件表面殘留污染物的光學元件的處理方法成為人們研究的熱點。

發明內容

基于此，有必要提供一種能有效去除光學元件表面殘留污染物的光學元件的處理方法。

一種光學元件的處理方法，包括如下清洗步驟：

(1)提供待處理的光學元件；

(2)將步驟(1)所得光學元件在航空汽油中浸泡50～70分鐘，對光學元件柱面外的粘結膠進行擦洗；

(3)將步驟(2)所得光學元件在丙酮中浸泡10～20分鐘，超聲清洗3～5分鐘，取出，用40℃～50℃的水沖洗；

(4)將步驟(3)所得光學元件在四氯化碳中浸泡30～50分鐘，超聲清洗3～5分鐘，取出，用40℃～50℃的水沖洗；

(5)將步驟(4)所得光學元件在鹽酸溶液中煮沸8～10分鐘，取出，在40℃～50℃的水中浸泡5～10分鐘，用40℃～50℃的水沖洗1～2分鐘；

(6)將步驟(5)所得光學元件在40℃～50℃的水中超聲清洗2～3分鐘；

(7)將步驟(6)所得光學元件在過氧化氨中超聲清洗5～7分鐘，取出，用40℃～50℃的水沖洗，至沖洗后的水呈中性；

(8)將步驟(7)所得光學元件在80℃～90℃的水中超聲清洗3～5分鐘；

(9)將步驟(8)所得光學元件在80℃～90℃的水中浸泡，取出，用40℃～50℃的水沖洗1～2分鐘，得到處理后的光學元件。

在其中一個實施例中，所述待處理的光學元件為研磨拋光機下盤后置于80℃～90℃的水中取下的光學元件；

在其中一個實施例中，所述光學元件為一個或多個。

在其中一個實施例中，所述步驟(2)和步驟(3)之間還包括以下步驟：

將步驟(2)所得光學元件置于清洗架上，所述步驟(2)所得光學元件遠離工作面的一面與所述清洗架接觸。

在其中一個實施例中，所述步驟(2)所得光學元件工作面朝上置于丙酮中浸泡，步驟(2)所得光學元件的工作面與所述丙酮液面之間的距離為10mm～15mm；

所述步驟(3)所得光學元件工作面朝上置于四氯化碳中浸泡，步驟(3)所得光學元件的工作面與四氯化碳液面之間的距離為10mm～15mm；

所述步驟(6)所得光學元件工作面朝上置于過氧化氨中超聲清洗，步驟(6)所得光學元件的工作面與過氧化氨液面之間的距離為15mm～20mm；