[發明專利]光學元件的處理方法

有效

• 申請號: 201811027802.6
• 申請日: 2018-09-04
• 公開（公告）號: CN109226044B
• 公開（公告）日: 2020-03-31
• 發明（設計）人: 蔣安國;鄧江;鐘欽;楊建坤
• 申請（專利權）人: 湖南莊耀光電科技有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/12;B08B3/10;B08B3/02
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 黃曉慶

1.一種光學元件的處理方法，其特征在于，包括如下清洗步驟：

(1)提供待處理的光學元件；

(2)將步驟(1)所得光學元件置于航空汽油中浸泡50～70分鐘，對光學元件柱面外的粘結膠進行擦洗；

(3)將步驟(2)所得光學元件置于丙酮中浸泡10～20分鐘，超聲清洗3～5分鐘，去除附著于光學元件表面的拋光膠，取出，用40℃～50℃的水沖洗；

(4)將步驟(3)所得光學元件置于四氯化碳中浸泡30～50分鐘，超聲清洗3～5分鐘，取出，用40℃～50℃的水沖洗；

(5)將步驟(4)所得光學元件置于鹽酸溶液中煮沸8～10分鐘，取出，置于40℃～50℃的水中浸泡5～10分鐘，用40℃～50℃的水沖洗1～2分鐘；所述鹽酸溶液為質量含量36％～38％的氯化氫水溶液與水的組合，所述質量含量36％～38％的氯化氫水溶液和水的質量比為1:1；

(6)將步驟(5)所得光學元件置于40℃～50℃的水中超聲清洗2～3分鐘；

(7)將步驟(6)所得光學元件置于過氧化氨中超聲清洗5～7分鐘，取出，用40℃～50℃的水沖洗，至沖洗后的水呈中性；所述過氧化氨為氨水、過氧化氫和水的組合，所述氨水、過氧化氫和水的質量比為1:4:15；

(8)將步驟(7)所得光學元件置于80℃～90℃的水中超聲清洗3～5分鐘；

(9)將步驟(8)所得光學元件置于80℃～90℃的水中浸泡，取出，用40℃～50℃的水沖洗1～2分鐘，得到處理后的光學元件。

2.根據權利要求1所述的光學元件的處理方法，其特征在于，所述待處理的光學元件為研磨拋光機下盤后置于80℃～90℃的水中取下的光學元件。

3.根據權利要求1所述的光學元件的處理方法，其特征在于，所述光學元件為一個或多個。

4.根據權利要求1所述的光學元件的處理方法，其特征在于，所述步驟(2)和步驟(3)之間還包括以下步驟：

將步驟(2)所得光學元件置于清洗架上，所述步驟(2)所得光學元件遠離工作面的一面與所述清洗架接觸。

5.根據權利要求4所述的光學元件的處理方法，其特征在于，所述步驟(2)所得光學元件工作面朝上置于丙酮中浸泡，步驟(2)所得光學元件的工作面與丙酮液面之間的距離為10mm～15mm；

所述步驟(3)所得光學元件工作面朝上置于四氯化碳中浸泡，步驟(3)所得光學元件的工作面與四氯化碳液面之間的距離為10mm～15mm；

所述步驟(6)所得光學元件工作面朝上置于過氧化氨中超聲清洗，步驟(6)所得光學元件的工作面與過氧化氨液面之間的距離為15mm～20mm；

所述步驟(7)所得光學元件工作面朝上置于80℃～90℃的水中超聲清洗，步驟(7)所得光學元件的工作面與水面之間的距離為20mm～30mm；

所述步驟(8)所得光學元件工作面朝上置于80℃～90℃的水中浸泡，步驟(8)所得光學元件的工作面與水面之間的距離為20mm～30mm。

6.根據權利要求2所述的光學元件的處理方法，其特征在于，所述光學元件為超光滑石英玻璃基片。

7.根據權利要求1所述的光學元件的處理方法，其特征在于，所述水為去離子水。

8.根據權利要求1～7任一項所述的光學元件的處理方法，其特征在于，所述步驟(9)中用40℃～50℃的水沖洗1～2分鐘的步驟之后還包括以下步驟：

置于20℃～30℃的水中浸泡。

9.根據權利要求1～6任一項所述的光學元件的處理方法，其特征在于，還包括采用水膜法對處理后的光學元件進行檢驗的步驟。

10.根據權利要求9所述的光學元件的處理方法，其特征在于，所述采用水膜法對處理后的光學元件進行檢驗的步驟包括：

將處理后的光學元件用20℃～30℃的水沖洗1～2分鐘，得到沖洗后的光學元件；

將所述沖洗后的光學元件的工作面與水平面呈45°角，計時，至所述工作面上的水膜斷裂；

若水膜保持時間≥5秒，則清洗質量合格；

若水膜保持時間＜5秒，則重復所述步驟(2)～(9)中的至少一個步驟，直至清洗質量合格。