[發明專利]穿透率檢測方法、裝置和計算機可讀存儲介質有效
| 申請號: | 201811024525.3 | 申請日: | 2018-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN109142284B | 公開(公告)日: | 2021-10-01 |
| 發明(設計)人: | 何洋 | 申請(專利權)人: | 重慶惠科金渝光電科技有限公司;惠科股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/59 | 分類號: | G01N21/59 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人: | 胡海國 |
| 地址: | 400000 *** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 穿透 檢測 方法 裝置 計算機 可讀 存儲 介質 | ||
本發明公開了一種穿透率檢測方法,所述穿透率檢測方法包括以下步驟:獲取待測試偏光片在測試點處的初始穿透率;獲取與所述測試點處對應的穿透率修正值;根據所述初始穿透率和所述測試點對應的穿透率修正值確定所述待測試偏光片的穿透率。本發明還公開了一種穿透率檢測裝置和計算機可讀存儲介質。本發明使得偏光片的穿透率檢測減小了背光波動和對位偏差導致的誤差,提高了偏光片檢測的準確性。
技術領域
本發明涉及液晶顯示技術領域,尤其涉及穿透率檢測方法、裝置和計算機可讀存儲介質。
背景技術
顯示技術領域中,偏光片對面板的穿透率、亮度、對比度、視角、色度、色調等光學品味有著重要影響,特別是面板穿透率一直是顯示領域關注的焦點;偏光片主要由PVA膜、TAC膜、保護膜、離型膜和壓敏膠等復合制成,再加上眾多的表面處理方式:如防眩處理(AG)、低反射處理(AR)、透明硬化處理(CHC)等,因此在眾多的偏光片架構篩選一種高穿透率的偏光片具有重要意義。
已知檢測技術:
目前偏光片穿透率的驗證常用方法為選定測試點位置,然后逐次偏貼不同的測試樣品,從而達到比較不同偏光片樣品穿透率的目的。當我們逐次偏貼偏光片測量其穿透率時,測量結果容易受背光亮度波動,人為更換OC產生的Bending、測量點對位偏差等不同程度的影響,這樣不但測量誤差大而且需要花費大量的時間,也降低了穿透率檢測的準確性。
綜上,目前的穿透率檢測方式受其他因素影響大,導致檢測的穿透率誤差大,準確率差。
發明內容
本發明的主要目的在于提供一種穿透率檢測方法、裝置和計算機可讀存儲介質,旨在解決目前的穿透率檢測方式受其他因素影響大,導致檢測的穿透率誤差大,準確率差的問題。
為實現上述目的,本發明一方面提供一種穿透率檢測方法,所述穿透率檢測方法包括以下步驟:
獲取待測試光學膜片在測試點處的初始穿透率;
獲取與所述測試點處對應的穿透率修正值;
根據所述初始穿透率和所述測試點對應的穿透率修正值確定所述待測試光學膜片的穿透率。
可選地,所述獲取待測試光學膜片在測試點處的初始穿透率的步驟之前,還包括:
獲取一片待測試光學膜片在各個測試點上的穿透率;
確定各個測試點中的基準測試點的穿透率;
將其他測試點的穿透率與所述基準測試點的穿透率比較,計算得到每個測試點的穿透率修正值,其中其他測試點為除基準測試點之外的測試點。
可選地,所述將其他測試點的穿透率與所述基準測試點的穿透率比較,計算得到每個測試點的穿透率修正值,其中其他測試點為除基準測試點之外的測試點的步驟之前,還包括:
確定每個測試點的位置信息和背光信息;
根據所述位置信息和背光信息確定每個測試點對應的穿透率趨勢信息;
判斷每個測試點的穿透率是否符合所述穿透率趨勢信息;
在符合時,執行將其他測試點的穿透率與所述基準測試點的穿透率比較,計算得到每個測試點的穿透率修正值的步驟。
可選地,在存在多片待檢測的光學膜片時,所述根據所述初始穿透率和所述測試點對應的穿透率修正值確定所述待測試光學膜片的穿透率的步驟包括:
在確定所述多片待檢測的光學膜片的穿透率后,將檢測到的各待檢測光學膜片的穿透率比較,得到各待檢測光學膜片的穿透率的差值。
可選地,所述獲取待測試光學膜片在測試點處的初始穿透率的步驟之前,還包括:
確定各個測試點對應的背光信息;
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