[發(fā)明專利]一種SIW平面濾波器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811022672.7 | 申請日： | 2018-09-03 |
| 公開（公告）號： | CN108987860A | 公開（公告）日： | 2018-12-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張丹;丁振東;宗楚菁;徐晨月 | 申請（專利權(quán)）人： | 南京林業(yè)大學(xué) |
| 主分類號： | H01P1/20 | 分類號： | H01P1/20;H01P1/203 |
| 代理公司： | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 王清義 |
| 地址： | 210037 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 金屬 頂層金屬 引出線 微帶 平面濾波器 間隙凹槽 介質(zhì)板 金屬箔 右端口 左端口 信號傳輸損耗 垂直中心線 水平中心線 插入損耗 傳輸性能 回波損耗 體積小 右側(cè)邊 重量輕 左側(cè)邊 偏移 貫穿 | ||
1.一種SIW平面濾波器，其特征在于：包括頂層金屬箔（1）、介質(zhì)板（2）和底部金屬箔（3），所述頂層金屬箔（1）、介質(zhì)板（2）和底部金屬箔（3）從上之下緊密貼合，所述頂層金屬箔（1）的左側(cè)邊設(shè)有左端口微帶引出線（4），右側(cè)邊設(shè)有右端口微帶引出線（5）且左端口微帶引出線（4）和右端口微帶引出線（5）相對頂層金屬箔（1）的水平中心線發(fā)生偏移，頂層金屬箔（1）的左側(cè)邊開設(shè)有第一槽線（6）和第二槽線（7）且左端口微帶引出線（4）位于第一槽線（6）和第二槽線（7）中間，頂層金屬箔（1）的右側(cè)邊開設(shè)有第三槽線（8）和第四槽線（9）且右端口微帶引出線（5）位于第三槽線（8）和第四槽線（9）中間，所述頂層金屬箔（1）的四周設(shè)置有若干個(gè)第一金屬過孔（10）且第一金屬過孔（10）位于左端口微帶引出線（4）和右端口微帶引出線（5）的上下兩側(cè)，所述頂層金屬箔（1）中心的左側(cè)開設(shè)有左金屬過孔（11）且中心的右側(cè)開設(shè)有右金屬過孔（12），所述左金屬過孔（11）和右金屬過孔（12）均位于頂層金屬箔（1）的水平中心線上，所述頂層金屬箔（1）的垂直中心線上的中部設(shè)有多個(gè)中金屬過孔（13），所述頂層金屬箔（1）的表面開設(shè)有左間隙凹槽（14）和右間隙凹槽（15），左間隙凹槽（14）位于左金屬過孔（11）和第一槽線（6）之間，右間隙凹槽（15）位于右金屬過孔（12）和第三槽線（8）之間，所述頂層金屬箔（1）的表面開設(shè)有左上金屬過孔（16）和右上金屬過孔（17），左上金屬過孔（16）位于第一槽線（6）的上方且位于左間隙凹槽（14）的左側(cè)，右上金屬過孔（17）位于第三槽線（8）的上方且位于右間隙凹槽（15）的右側(cè)，所述第一金屬過孔（10）、左金屬過孔（11）、右金屬過孔（12）、中金屬過孔（13）、左上金屬過孔（16）以及右上金屬過孔（17）均貫穿于頂層金屬箔（1）、介質(zhì)板（2）和底部金屬箔（3）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的SIW平面濾波器，其特征在于：所述左端口微帶引出線（4）和右端口微帶引出線（5）相對頂層金屬箔（1）的垂直中心線對稱布置，所述左金屬過孔（11）和右金屬過孔（12）相對頂層金屬箔（1）的垂直中心線對稱布置，所述左間隙凹槽（14）和右間隙凹槽（15）相對頂層金屬箔（1）的垂直中心線對稱布置，所述左上金屬過孔（16）和右上金屬過孔（17）相對頂層金屬箔（1）的垂直中心線對稱布置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的SIW平面濾波器，其特征在于：所述第一槽線（6）、第二槽線（7）、第三槽線（8）和第四槽線（9）的結(jié)構(gòu)相同且均為L型，所述第一槽線（6）和第二槽線（7）相對水平方向?qū)ΨQ布置，所述第三槽線（8）和第四槽線（9）相對水平方向?qū)ΨQ布置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的SIW平面濾波器，其特征在于：所述左端口微帶引出線（4）和右端口微帶引出線（5）均連接有SMA接頭。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的SIW平面濾波器，其特征在于：所述左端口微帶引出線（4）和右端口微帶引出線（5）為50歐姆的SIW特性阻抗匹配微帶線。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的SIW平面濾波器，其特征在于：所述第一金屬過孔（10）、左金屬過孔（11）、右金屬過孔（12）、中金屬過孔（13）、左上金屬過孔（16）以及右上金屬過孔（17）均為圓形，且貫穿于頂層金屬箔（1）、介質(zhì)板（2）和底部金屬箔（3）的孔內(nèi)做金屬化處理并與頂層金屬箔（1）以及底部金屬箔（3）相連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的SIW平面濾波器，其特征在于：所述第一金屬過孔（10）的直徑為0.6mm，兩個(gè)相鄰的第一金屬過孔（10）之間的圓心距為1mm，內(nèi)部加載的左金屬過孔（11）、右金屬過孔（12）、中金屬過孔（13）、左上金屬過孔（16）以及右上金屬過孔（17）的直徑均為0.4mm，中金屬過孔（13）有3個(gè)。
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