[發(fā)明專利]單晶硅同心圓及黑角的檢測前預(yù)處理方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811020607.0 | 申請日: | 2018-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN109273377B | 公開(公告)日: | 2020-09-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張浩強;楊紅濤;柳志強;楊建勇;焦鵬;李雙凱;李春輝 | 申請(專利權(quán))人: | 寧晉晶興電子材料有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京慕達星云知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 李冉 |
| 地址: | 054000 河北*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 單晶硅 同心圓 檢測 預(yù)處理 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種單晶硅同心圓的檢測前預(yù)處理方法,切取單晶硅頭部圓形的樣塊;將獲取的單晶硅頭部樣塊用金剛筆刻制出1/4圓以上的樣片;將獲取的樣片退火處理;將退火處理后的樣片經(jīng)過堿性溶液煮制;然后將煮制后的樣片浸泡到酸液中;將浸泡酸液后的樣片純水沖洗、晾干;將晾干的樣片進行樣片少子壽命測試。本發(fā)明還提供了一種單晶硅黑角的檢測前預(yù)處理方法,切取任一單晶硅尾部圓形樣塊;將獲取的單晶硅頭部樣塊用金剛筆刻制出1/3圓以上的樣片;將獲取的樣片酸性溶液腐蝕;將酸性溶液腐蝕后的樣片清洗酸液殘留;將清洗酸液殘留的樣片退火處理;將退火處理的樣片自然風干后,使用堿性溶液煮制;將煮制處理后的樣片進行少子壽命測試。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及直拉法單晶生長領(lǐng)域及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,更具體的說是涉及單晶硅同心圓及黑角的檢測前預(yù)處理方法。
背景技術(shù)
隨著單晶硅光伏產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展,單晶硅產(chǎn)量逐年增加;而對于單晶硅光伏的轉(zhuǎn)換效率日漸提高,對單晶硅品質(zhì)要求越來越高。
而單晶硅的同心圓、黑角(黑邊)缺陷嚴重影響光伏的轉(zhuǎn)換效率;其中同心圓為:單晶硅片經(jīng)過EL測試儀測試,由于硅片內(nèi)部存在缺陷,測試時在硅片中心處呈圓環(huán)形,簡稱同心圓。同心圓產(chǎn)生原因在于:由于直拉法硅單晶生長過程中,間隙富集區(qū)與空位富集區(qū)之間會形成環(huán)狀區(qū)域,如果氧含量提高到一定水平,會形成空位氧缺陷環(huán);空位氧缺陷環(huán)位置在晶體冷卻過程中會形成熱施主,影響少子壽命;而晶棒頭部氧含量偏高,一般空位氧缺陷環(huán)在晶棒頭部位置明顯。黑角為:單晶硅片經(jīng)過EL測試儀測試,由于硅片內(nèi)部缺陷,測試四個邊角發(fā)黑,簡稱黑角。黑角產(chǎn)生原因:單晶有氧熱處理過程中產(chǎn)生自間隙硅原子,從表面向體內(nèi)擴散形成氧化層錯,在晶棒尾部表現(xiàn)更明顯。其中EL測試儀為是一種太陽能電池或電池組件的內(nèi)部缺陷檢測設(shè)備。
單晶硅的同心圓及黑角缺陷容易導(dǎo)致單晶硅質(zhì)量變差,在單晶硅產(chǎn)品上形成色差等問題,嚴重影響了晶體硅和器件的性能,降低了硅太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率;目前沒有一種有效的檢測方式,判斷單晶硅樣件的同心圓及黑角缺陷。
因此,如何提供一種能夠檢測出單晶硅同心圓及黑角缺陷的方法是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供了一種單晶硅同心圓及黑角缺陷的檢測方法,能夠檢測出同心圓及黑角缺陷,提高單晶硅的出廠合格率。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
本發(fā)明提供的單晶硅同心圓的檢測前預(yù)處理方法,包括以下步驟:
S1、切取單晶硅頭部圓形的樣塊;
S2、將S1中獲取的單晶硅頭部樣塊用金剛筆刻制出1/4圓以上的樣片;
S3、將S2中獲取的樣片退火處理;
S4、將S3中退火處理后的樣片經(jīng)過堿性溶液煮制;
S5、然后將S4中煮制后的樣片浸泡到酸液中;
S6、將S5浸泡酸液后的樣片經(jīng)純水沖洗、晾干;
S7、將S6中晾干的樣片進行樣片少子壽命測試。
經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明公開提供了一種單晶硅同心圓的檢測前預(yù)處理方法,在檢測之前進行退火處理,有利于單晶硅中雜質(zhì)(氧)的擴散,然后通過堿性溶液煮制處理,脫去樣片表面的氧化膜。酸液浸泡中和堿殘留,使樣片的缺陷在檢測儀器下能夠顯現(xiàn),提高了測量的樣片的內(nèi)部缺陷的精度,進而有效控制了產(chǎn)品出廠合格率。
可以采用匈牙利WT2000PVN少子壽命測試儀進行樣片表面壽命測試。
優(yōu)選地,S1中切取單晶硅頭部圓形的樣塊直徑為210-216mm,厚度為 0.8-1.5mm;方便切割及滿足測試需要。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





