[發(fā)明專利]激光測(cè)量的校驗(yàn)方法、裝置、系統(tǒng)、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811015335.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108827157B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-11-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賈瑋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣州視源電子科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01B11/00 | 分類號(hào): | G01B11/00 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 黃隸凡 |
| 地址: | 510530 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 激光 測(cè)量 校驗(yàn) 方法 裝置 系統(tǒng) 設(shè)備 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種激光測(cè)量的校驗(yàn)方法,其特征在于,包括:
啟動(dòng)校驗(yàn)板上的用于發(fā)光的發(fā)光裝置,并獲取針對(duì)所述校驗(yàn)板進(jìn)行拍攝得到的校驗(yàn)圖像;
識(shí)別所述校驗(yàn)圖像的多個(gè)校驗(yàn)點(diǎn),并獲取所述多個(gè)校驗(yàn)點(diǎn)的二維坐標(biāo);
根據(jù)所述多個(gè)校驗(yàn)點(diǎn)的二維坐標(biāo),計(jì)算內(nèi)參矩陣和外參矩陣,作為所述校驗(yàn)圖像的三維參數(shù);
獲取所述校驗(yàn)圖像對(duì)應(yīng)的激光圖像,并識(shí)別所述激光圖像的激光點(diǎn);
根據(jù)所述校驗(yàn)圖像對(duì)應(yīng)的三維參數(shù),獲取所述激光點(diǎn)的三維坐標(biāo);
根據(jù)所述激光點(diǎn)的三維坐標(biāo),擬合三維激光平面;所述三維激光平面用于校驗(yàn)測(cè)量精度;
所述識(shí)別所述激光圖像的激光點(diǎn),包括:在所述激光圖像中提取原始激光點(diǎn);采用所述校驗(yàn)圖像的畸變校正參數(shù),對(duì)所述原始激光點(diǎn)進(jìn)行畸變校正,得到校正激光點(diǎn);對(duì)所述校正激光點(diǎn)進(jìn)行去噪,得到候選激光點(diǎn);獲取二維坐標(biāo)符合設(shè)定的坐標(biāo)范圍的候選激光點(diǎn),作為所述激光點(diǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述三維參數(shù)包括內(nèi)參矩陣和外參矩陣,所述根據(jù)所述校驗(yàn)圖像對(duì)應(yīng)的三維參數(shù),獲取所述激光點(diǎn)的三維坐標(biāo),包括:
獲取所述激光點(diǎn)的二維坐標(biāo);
根據(jù)所述內(nèi)參矩陣和外參矩陣,將所述二維坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為三維坐標(biāo),作為所述激光點(diǎn)的三維坐標(biāo)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,在所述根據(jù)所述校驗(yàn)圖像對(duì)應(yīng)的三維參數(shù),獲取所述激光點(diǎn)的三維坐標(biāo)之前,還包括:
識(shí)別所述校驗(yàn)圖像的多個(gè)校驗(yàn)點(diǎn);
獲取所述多個(gè)校驗(yàn)點(diǎn)的二維坐標(biāo);
根據(jù)所述多個(gè)校驗(yàn)點(diǎn)的二維坐標(biāo),計(jì)算所述內(nèi)參矩陣和所述外參矩陣,作為所述三維參數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述激光圖像具有多個(gè),所述根據(jù)所述激光點(diǎn)的三維坐標(biāo),擬合三維激光平面,包括:
獲取多個(gè)激光圖像的激光點(diǎn),得到多組激光點(diǎn);
根據(jù)所述多組激光點(diǎn)的三維坐標(biāo),生成多個(gè)三維激光點(diǎn);
合成所述多個(gè)三維激光點(diǎn),得到所述三維激光平面。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述三維參數(shù)還包括畸變校正參數(shù),所述對(duì)所述校正激光點(diǎn)進(jìn)行去噪,得到候選激光點(diǎn),包括:
通過(guò)RANSAC直線擬合,對(duì)所述校正激光點(diǎn)進(jìn)行去噪處理,將余下的校正激光點(diǎn)作為所述候選激光點(diǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,還包括:
識(shí)別所述多個(gè)校驗(yàn)點(diǎn)的圖像特征;
篩選圖像特征符合預(yù)設(shè)圖像特征的校驗(yàn)點(diǎn),作為目標(biāo)校驗(yàn)點(diǎn);
采用所述目標(biāo)校驗(yàn)點(diǎn)的二維坐標(biāo),生成所述坐標(biāo)范圍。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述在所述激光圖像中提取原始激光點(diǎn),包括:
識(shí)別所述激光圖像的多個(gè)像素點(diǎn);
對(duì)所述多個(gè)像素點(diǎn)進(jìn)行上采樣,得到多個(gè)采樣像素點(diǎn);
計(jì)算所述多個(gè)采樣像素點(diǎn)的卷積值;
在同一列的采樣像素點(diǎn)中,確定最大卷積值的采樣像素點(diǎn),作為所述原始激光點(diǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在所述獲取校驗(yàn)圖像之前,還包括:
生成發(fā)光信息;
發(fā)送所述發(fā)光信息至校驗(yàn)板;所述校驗(yàn)板用于根據(jù)所述發(fā)光信息啟動(dòng)發(fā)光裝置;所述發(fā)光裝置用于發(fā)光。
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