[發明專利]光刻設備、抗氣流擾動的方法及裝置

有效

• 申請號: 201811014164.4
• 申請日: 2018-08-31
• 公開（公告）號: CN110874021B
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 劉偉;劉劍
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

本發明提供了一種光刻設備、抗氣流擾動的方法及裝置。抗氣流擾動的裝置包括：抗氣流擾動組件，位于光柵尺測量組件遠離運動臺的一側，用于當運動臺相對光柵尺測量組件運動時，執行所述抗氣流擾動操作。本發明提供的光刻設備、抗氣流擾動的方法及裝置中，光柵尺測量組件的測量精度較高，最終形成的半導體器件的性能較好。

技術領域

本發明涉及光刻設備，特別涉及一種光刻設備、抗氣流擾動的方法及裝置。

背景技術

在半導體制造過程中，一般需要運用到光刻機來完成一系列復雜而耗時的光刻工藝。

現有技術中，光刻機一般包括有運動臺、測量系統以及投影物鏡，其中，運動臺主要包括硅片臺和掩膜臺，其中硅片臺主要用于承載硅片。測量系統主要用于計算運動臺的運動參數，以使得硅片臺基于該運動參數攜帶硅片在投影物鏡下完成與掩膜臺相匹配的曝光運動，從而使得硅片上涂覆的光刻膠層形成相應的圖案。

但是，當硅片臺和掩膜臺運動時，會在其運動區域形成氣流沖擊，使得測量系統區域形成不均勻壓力場，則會使得測量系統中的平面光柵發生位置偏移，從而會影響測量系統的測量精度，進而影響到最終形成的半導體器件的性能。

發明內容

本發明的目的在于提供一種光刻設備、抗氣流擾動的方法及裝置，以解決現有的光刻設備中測量系統的測量精度不高的問題。

為解決上述技術問題，本發明提供了一種抗氣流擾動裝置，包括抗氣流擾動組件，設置在一光柵尺測量組件上并用于對所述光柵尺測量組件執行抗氣流擾動操作，以及所述光柵尺測量組件和一運動臺相對設置，所述光柵尺測量組件用于測量所述運動臺的運動參數，所述抗氣流擾動組件位于所述光柵尺測量組件遠離所述運動臺的一側，所述抗氣流擾動操作包括增加或減少所述抗氣流擾動組件在面對所述運動臺的方向上的長度；

其中，當所述運動臺相對所述光柵尺測量組件運動時，所述光柵尺測量組件受到的氣流壓力發生變化，所述抗氣流擾動組件執行所述抗氣流擾動操作，以對所述光柵尺測量組件施加作用力，用于抵抗所述光柵尺測量組件由于受到的氣流壓力的變化而產生的位置偏移。

可選的，所述抗氣流擾動組件包括主動阻尼器，所述主動阻尼器在執行所述抗氣流擾動操作時，所述主動阻尼器在面對所述運動臺的方向上的長度增加或減少，以抵制所述光柵尺測量組件由于受到的氣流壓力的變化而產生位置偏移。

可選的，還包括：同步控制器，所述同步控制器連接所述運動臺和所述抗氣流擾動組件，用于當所述運動臺運動時，同步指示所述抗氣流擾動組件執行所述抗氣流擾動操作。

可選的，所述抗氣流擾動裝置還包括抗氣流擾動控制器，所述抗氣流擾動控制器用于指示所述抗氣流擾動組件執行抗氣流擾動操作；以及，所述運動臺與一運動臺控制器連接，以利用所述運動臺控制器指示所述運動臺運動；

其中，所述同步控制器分別與所述抗氣流擾動控制器和所述運動臺控制器連接，所述同步控制器用于向所述抗氣流擾動控制器和所述運動臺控制器發送同步控制時序信息，以便所述運動臺控制器根據所述同步控制時序信息指示所述運動臺運動的同時，所述抗氣流擾動控制器根據所述同步控制時序信息同步指示所述抗氣流擾動組件執行抗氣流擾動操作。

可選的，所述抗氣流擾動裝置還包括整機控制器，所述整機控制器與所述抗氣流擾動控制器、所述運動臺控制器和所述光柵尺測量組件均連接；

所述整機控制器用于接收所述光柵尺測量組件發送的所述運動參數，并將所述運動參數分別發送至所述抗氣流擾動控制器和所述運動臺控制器，以使所述運動臺控制器基于所述運動參數指示所述運動臺運動，以及所述抗氣流擾動控制器基于所述運動參數指示所述抗氣流擾動組件執行抗氣流擾動操作。

可選的，所述光柵尺測量組件包括平面光柵和光柵安裝板，并且所述平面光柵面對所述運動臺，所述光柵安裝板位于所述平面光柵背離所述運動臺的一側。