[發(fā)明專利]掩膜版、顯示基板及其制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811010166.6
• 申請日: 2018-08-31
• 公開（公告）號: CN109212890B
• 公開（公告）日: 2022-01-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 肖宇;李景陽;張國華;汪棟;宋勇志
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F1/38
• 分類號: G03F1/38;G02F1/13;G02F1/1339
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;胡影

1.一種掩膜版，其特征在于，包括：

透明襯底，以及，設(shè)置于所述透明襯底上的遮光層，所述遮光層上具有第一開口圖形；

所述透明襯底包括：第一區(qū)域，所述第一區(qū)域在所述遮光層上的正投影與所述第一開口圖形重疊，所述第一區(qū)域的全部邊緣區(qū)域具有光線匯聚結(jié)構(gòu)，所述光線匯聚結(jié)構(gòu)用于將入射至所述全部邊緣區(qū)域的光線向所述第一開口圖形的中心區(qū)域匯聚；

所述光線匯聚結(jié)構(gòu)為開設(shè)于所述第一區(qū)域的頂面的凹槽，所述頂面為所述第一區(qū)域的遠(yuǎn)離所述第一開口圖形的一側(cè)表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一開口圖形的橫截面形狀為矩形或圓形，所述第一開口圖形的中心區(qū)域的寬度為所述第一開口圖形的寬度的2/5～4/5。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一區(qū)域為長方體或圓柱體，所述凹槽的縱截面形狀為直角三角形，所述直角三角形的第一直角邊位于所述第一區(qū)域的頂面上，第二直角邊垂直于所述第一區(qū)域的頂面。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第二直角邊位于所述長方體或圓柱體的側(cè)面上。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版，其特征在于，采用如下公式確定所述直角三角形的尺寸：

Tanα＝y(tǒng)/x；

Sinα/Sinβ＝n；

Tan(α-β)＝L1/(h-y)；

Tan(α-β)＝(L1+L2-x)/h；

其中，x為所述第一直角邊，y為所述第二直角邊，n為光從空氣斜射入所述透明襯底時的相對折射率，L2為所述第一開口圖形的中心區(qū)域的寬度，L1為(L-L2)/2，L為所述第一開口圖形的寬度，h為所述透明襯底的厚度，α為所述直角三角形的斜邊的入射光與法線的夾角，β為從所述直角三角形的斜邊進(jìn)入所述第一區(qū)域的折射光與法線的夾角。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，還包括：

部分透光膜，設(shè)置于所述第一開口圖形上，所述第一開口圖形用于形成輔隔墊物；

所述遮光層上還具有第二開口圖形，所述第二開口圖形用于形成主隔墊物。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的掩膜版，其特征在于，所述第一開口圖形的寬度大于或等于30μm。

8.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括：

采用如權(quán)利要求1-7任一項所述的掩膜版形成隔墊物的步驟。

9.一種顯示基板，其特征在于，包括隔墊物，所述隔墊物采用如權(quán)利要求8所述的制作方法制作而成。