[發明專利]成膜裝置、成膜方法、以及電子設備的制造方法

有效

• 申請號: 201811009947.3
• 申請日: 2018-08-31
• 公開（公告）號: CN109972084B
• 公開（公告）日: 2022-10-21
• 發明（設計）人: 柏倉一史;石井博;細谷映之
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社;阿奧依株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/50;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張寶榮

本發明提供一種成膜裝置、成膜方法、以及電子設備的制造方法，該成膜裝置包括：靜電卡盤，其用于保持基板；掩模臺，其設置在所述靜電卡盤的基板保持面側，用于保持掩模；磁力施加機構，其設置在所述靜電卡盤的與基板保持面相反的一側，用于對所述掩模施加磁力；以及控制部，其控制所述靜電卡盤、所述掩模臺以及所述磁力施加機構，在為了使所述基板與所述掩模緊貼而使所述磁力施加機構向所述掩模臺移動之前，所述控制部進行控制，以使被所述靜電卡盤保持的所述基板與被所述掩模臺保持的所述掩模具有規定的間隔。

技術領域

本發明涉及成膜裝置以及成膜方法，具體涉及在成膜裝置中用于使掩模與基板緊貼的方法以及裝置。

背景技術

最近，作為平板顯示裝置，有機EL顯示裝置備受關注。有機EL顯示裝置是自發光顯示器，其響應速度、視角、薄型化等特性均優于液晶面板顯示器，在監視器、電視機、以智能手機為代表的各種便攜式終端等中，正在快速地代替現有的液晶面板顯示器。另外，在汽車用顯示器等中也在擴展其應用領域。

有機EL顯示裝置的元件具備在兩個相向的電極(陰極、陽極)之間形成有產生發光的有機物層的基本構造。有機EL顯示元件的有機物層以及電極金屬層通過在真空腔室內使蒸鍍物質經由形成有像素圖案的掩模而蒸鍍到基板上來進行制造。

在這樣的成膜步驟中，為了將掩模上的像素圖案高精度地成膜于基板，在向基板進行蒸鍍之前必須精密地調整掩模與基板的相對位置，使掩模緊貼于基板的成膜面。

為了使掩模緊貼于基板的成膜面，使用磁性板，從基板上部對基板下部的金屬制的掩模施加磁力。即，在將調整了相對位置(對準)的基板載置到掩模的上表面的狀態下，通過使磁性板與基板的上表面抵接，利用磁性板的磁性，通過對金屬制的掩模施加的磁力而使基板與掩模緊貼。

發明內容

發明要解決的課題

例如，在圖7所圖示的現有技術中，在將由基板保持架721保持著下表面的周緣部的基板710載置到被保持于掩模臺722的掩模730上之后，使磁性板724以及冷卻板723下降，利用從磁性板724向掩模730施加的磁力而使掩模730與基板710相互吸引而緊貼。

但是，保持在掩模臺722上的掩模730因其自重而以撓曲狀態被保持。在此，當放置上基板710時，掩模730承受基板的重量而進一步撓曲。在該狀態下，使磁性板724以及冷卻板723下降直至冷卻板723的下表面與基板的上表面周緣部接觸，如果向掩模施加磁力將其吸引，則掩模與基板被整體吸引而減少撓曲。但是，當在基板710的上表面的周緣部與冷卻板723的下表面接觸的狀態下吸引掩模與基板時，基板與掩模的中央部的撓曲不能被完全消除，而是以在基板以及掩模的中央部殘留有褶皺的狀態進行緊貼。

另外，由于掩模與基板的撓曲程度不同，因此，即使具有磁性板724的磁力，掩模與基板也不能完全緊貼，在掩模與基板之間產生間隙。這樣的間隙會導致產生蒸鍍材料無法高精度地成膜于基板的成膜區域的成膜模糊。

另一方面，最近，為了防止由基板的自重引起的撓曲，研究了替代僅從下方保持基板的基板保持架(或者與基板保持架一起)，通過靜電卡盤的靜電引力來保持基板的上表面的方法。靜電卡盤由于通過靜電引力吸附基板的上表面，因此設置在基板的正上方。

從而，在使用靜電卡盤保持基板并通過磁性板使由靜電卡盤保持的基板與掩模緊貼的構造的成膜裝置中，靜電卡盤在磁性板之下保持基板。

例如，如圖8所示，為了使由靜電卡盤823吸附并保持的基板810與掩模830緊貼，在使靜電卡盤823下降直至基板810的下表面的周緣部與掩模830的上表面周緣部接觸之后，若使磁性板824下降而向掩模施加磁力，則掩模被磁力吸引，減少其撓曲。