[發(fā)明專利]成膜裝置、成膜方法、以及電子設(shè)備的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811009947.3
• 申請(qǐng)日: 2018-08-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109972084B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-10-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柏倉(cāng)一史;石井博;細(xì)谷映之
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能特機(jī)株式會(huì)社;阿奧依株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/50;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 張寶榮

1.一種成膜裝置，用于經(jīng)由掩模在基板上成膜蒸鍍材料，其中，包括：

靜電卡盤，其用于保持基板；

掩模臺(tái)，其設(shè)置在所述靜電卡盤的基板保持面?zhèn)龋糜诒３盅谀＃?/p>

磁力施加機(jī)構(gòu)，其設(shè)置在所述靜電卡盤的與基板保持面相反的一側(cè)，用于對(duì)所述掩模施加磁力；以及

控制部，其控制所述靜電卡盤、所述掩模臺(tái)以及所述磁力施加機(jī)構(gòu)，

在為了使所述基板與所述掩模緊貼而控制所述磁力施加機(jī)構(gòu)之前，所述控制部控制所述靜電卡盤和所述掩模臺(tái)的至少一方，以使被所述靜電卡盤保持的所述基板與被所述掩模臺(tái)保持的所述掩模具有規(guī)定的間隔，

在使所述基板與所述掩模緊貼時(shí)，所述控制部控制所述磁力施加機(jī)構(gòu)，使得通過(guò)向所述掩模施加磁力而使所述掩模的一部分與所述基板接觸，之后，所述掩模的與所述基板接觸的部分以所述一部分為起點(diǎn)依次擴(kuò)展。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述控制部控制所述靜電卡盤或所述掩模臺(tái)的相對(duì)移動(dòng)，以使被所述靜電卡盤保持的所述基板與被所述掩模臺(tái)保持的所述掩模具有所述規(guī)定的間隔。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述規(guī)定的間隔基于所述掩模的中央部的撓曲量而確定。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述成膜裝置還包括用于使所述靜電卡盤移動(dòng)的靜電卡盤驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，

所述控制部控制所述靜電卡盤驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，以使所述靜電卡盤向所述掩模臺(tái)移動(dòng)至被所述靜電卡盤保持的所述基板與被所述掩模臺(tái)保持的所述掩模隔著所述規(guī)定的間隔而分離的位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述成膜裝置還包括用于使所述掩模臺(tái)移動(dòng)的掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，

所述控制部控制所述掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，以使所述掩模臺(tái)向所述靜電卡盤移動(dòng)至被所述靜電卡盤保持的所述基板與被所述掩模臺(tái)保持的所述掩模隔著所述規(guī)定的間隔而分離的位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述成膜裝置還包括用于使所述磁力施加機(jī)構(gòu)移動(dòng)的磁力施加機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，

所述控制部控制所述磁力施加機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，以便在被所述靜電卡盤保持的所述基板與被所述掩模臺(tái)保持的所述掩模具有規(guī)定的間隔的狀態(tài)下使所述磁力施加機(jī)構(gòu)向所述掩模臺(tái)移動(dòng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成膜裝置，其中，

所述控制部進(jìn)行控制，以使所述磁力施加機(jī)構(gòu)對(duì)于掩模的磁力從所述掩模的中央部開(kāi)始施加。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其中，

所述控制部控制所述磁力施加機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，以使所述磁力施加機(jī)構(gòu)在構(gòu)成V字形狀的狀態(tài)下朝向所述掩模臺(tái)下降。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其中，

所述磁力施加機(jī)構(gòu)包括多個(gè)電磁鐵模塊，

所述控制部進(jìn)行控制，以便從配置成與所述掩模的中央部對(duì)應(yīng)的電磁鐵模塊開(kāi)始到配置成與所述掩模的相向的兩條邊對(duì)應(yīng)的電磁鐵模塊地對(duì)電磁鐵模塊依次供給電源。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其中，

所述磁力施加機(jī)構(gòu)包括能夠單獨(dú)移動(dòng)的多個(gè)磁鐵模塊，

所述控制部控制所述磁力施加機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，以使所述磁鐵模塊按照從配置成與所述掩模的中央部對(duì)應(yīng)的磁鐵模塊開(kāi)始朝向配置成與所述掩模的相向的兩條邊對(duì)應(yīng)的磁鐵模塊的順序向所述掩模臺(tái)移動(dòng)。

11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成膜裝置，其中，

所述控制部進(jìn)行控制，以便從所述掩模的一端開(kāi)始施加所述磁力施加機(jī)構(gòu)對(duì)于所述掩模的磁力。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的成膜裝置，其中，

所述控制部控制所述磁力施加機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，以使所述磁力施加機(jī)構(gòu)以傾斜的狀態(tài)向所述掩模移動(dòng)。