[發(fā)明專利]一種碳化硅石墨載盤的激光清洗方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811009430.4 | 申請日： | 2018-08-31 |
| 公開（公告）號： | CN109261647A | 公開（公告）日： | 2019-01-25 |
| 發(fā)明（設計）人： | 徐明升;楊彪 | 申請（專利權）人： | 融銓半導體（蘇州）有限公司 |
| 主分類號： | B08B7/00 | 分類號： | B08B7/00;B08B5/02 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 張俊范 |
| 地址： | 215500 江蘇省蘇州市常熟*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 石墨載盤 碳化硅 污染物表面 激光清洗 惰性氣體風刀 激光照射區(qū)域 污染物吸收 激光波長 激光發(fā)射 激光焦距 綠色環(huán)保 清洗效率 吹掃 廢液 匹配 清洗 污染物 激光 損傷 | ||
1.一種碳化硅石墨載盤的激光清洗方法，其特征在于，包括固定待清洗的碳化硅石墨載盤；調(diào)整激光焦距至污染物表面并設定與污染物匹配的激光波長使所述污染物吸收所述激光；開啟激光發(fā)射至污染物表面同時采用惰性氣體風刀對激光照射區(qū)域吹掃。
2.根據(jù)權利要求1所述的碳化硅石墨載盤的激光清洗方法，其特征在于，所述設定與污染物匹配的激光波長是設定激光波長使污染物對所述激光的吸收系數(shù)大于碳化硅石墨載盤基體對所述激光的吸收系數(shù)的1.2倍以上。
3.根據(jù)權利要求1所述的碳化硅石墨載盤的激光清洗方法，其特征在于，所述調(diào)整激光焦距前先測定所述碳化硅石墨載盤表面的污染物厚度及污染物種類。
4.根據(jù)權利要求1所述的碳化硅石墨載盤的激光清洗方法，其特征在于，所述開啟激光發(fā)射至污染物表面同時采用惰性氣體風刀對激光照射區(qū)域吹掃經(jīng)過設定時間后，停止激光發(fā)射并采用惰性氣體風淋碳化硅石墨載盤。
5.根據(jù)權利要求4所述的碳化硅石墨載盤的激光清洗方法，其特征在于，所述停止激光發(fā)射并采用惰性氣體風淋碳化硅石墨載盤后，測定碳化硅石墨載盤污染物，如仍然存在污染物則繼續(xù)調(diào)整激光焦距至污染物表面并設定與污染物匹配的激光波長并重復清洗步驟至碳化硅石墨載盤表面清潔。
6.根據(jù)權利要求4所述的碳化硅石墨載盤的激光清洗方法，其特征在于，所述惰性氣體風刀為氮氣風刀，所述惰性氣體風淋為氮氣風淋。
7.根據(jù)權利要求6所述的碳化硅石墨載盤的激光清洗方法，其特征在于，所述氮氣風刀吹掃時，氮氣流量不小于15L/min。
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