[發明專利]一種碳化硅石墨載盤的激光清洗方法

在審

• 申請號: 201811009430.4
• 申請日: 2018-08-31
• 公開（公告）號: CN109261647A
• 公開（公告）日: 2019-01-25
• 發明（設計）人: 徐明升;楊彪
• 申請（專利權）人: 融銓半導體（蘇州）有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;B08B5/02
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 張俊范

本發明公開了一種碳化硅石墨載盤的激光清洗方法，包括固定待清洗的碳化硅石墨載盤；調整激光焦距至污染物表面并設定與污染物匹配的激光波長使所述污染物吸收所述激光；開啟激光發射至污染物表面同時采用惰性氣體風刀對激光照射區域吹掃。本發明方法不容易對碳化硅石墨載盤的基體產生損傷，無廢液產生，綠色環保，清洗效率高，節省時間。

技術領域

本發明涉及一種石墨載盤清洗方法，特別是涉及一種碳化硅石墨載盤的激光清洗方法。

背景技術

傳統工業清洗方法包括機械摩擦清洗法、化學腐蝕清洗法、液體固體噴射清洗法和高頻超聲清洗法，高溫烘烤吹掃，盡管它們在工業清洗行業得到了廣泛的應用，但在我國環境保護法規要求越來越嚴格和高精密器件應用越來越廣泛的情況下傳統清洗方法的應用受到了很大的限制。機械方法清潔度高，但易損傷基材，化學腐蝕清洗方法屬于無應力清洗，但污染較重，特別是當污垢成分復雜時，必須選用多種清洗劑反復清洗才能滿足表面清潔度的要求。液體固體噴射清洗靈活度較高，但相對成本較高，需要消耗大量的水及固體摻雜物，后期廢液處理工作也較復雜；高頻超聲波清洗法盡管清洗效果不錯，但對附著力強的亞微米級污粒的清洗無能為力，清洗槽的尺寸限制了被清洗工件尺寸范圍，而且清洗后的干燥亦是一大難題。

發明內容

針對上述現有技術缺陷，本發明的任務在于提供一種碳化硅石墨載盤的激光清洗方法，解決現有清洗方式容易造成基體損傷，產生廢液污染的問題。

本發明技術方案是這樣的：一種碳化硅石墨載盤的激光清洗方法，包括固定待清洗的碳化硅石墨載盤；調整激光焦距至污染物表面并設定與污染物匹配的激光波長使所述污染物吸收所述激光；開啟激光發射至污染物表面同時采用惰性氣體風刀對激光照射區域吹掃。

進一步的，所述設定與污染物匹配的激光波長是設定激光波長使污染物對所述激光的吸收系數大于碳化硅石墨載盤基體對所述激光的吸收系數的1.2倍以上。

進一步的，所述調整激光焦距前先測定所述碳化硅石墨載盤表面的污染物厚度及污染物種類。

進一步的，所述開啟激光發射至污染物表面同時采用惰性氣體風刀對激光照射區域吹掃經過設定時間后，停止激光發射并采用惰性氣體風淋碳化硅石墨載盤。

進一步的，所述停止激光發射并采用惰性氣體風淋碳化硅石墨載盤后，測定碳化硅石墨載盤污染物，如仍然存在污染物則繼續調整激光焦距至污染物表面并設定與污染物匹配的激光波長并重復清洗步驟至碳化硅石墨載盤表面清潔。

優選的，所述惰性氣體風刀為氮氣風刀，所述惰性氣體風淋為氮氣風淋。

優選的，所述氮氣風刀吹掃時，氮氣流量不小于15L/min。

本發明與現有技術相比的優點在于：

SiC表面污染物激光清洗是一種“綠色”的清洗方法，采用與污染物匹配的激光波長，污染物對特定波長的激光的吸收系數比基材大，而且污染物比基體的熔點、沸點低，從而污染物吸收大部分的激光能量而脫離基材。不需使用任何化學藥劑和清洗液，清洗下來的廢料基本上都是固體粉末，體積小，易于存放，可回收，可以輕易解決化學清洗帶來的環境污染問題；傳統的清洗方法往往是接觸式清洗，對清洗物體表面有機械作用力，損傷物體的表面或者清洗的介質附著于被清洗物體的表面，無法去除，產生二次污染，激光清洗的無研磨和非接觸性使這些問題迎刃而解；激光可以通過光纖傳輸，與機器手和機器人相配合，方便地實現遠距離操作，能清洗傳統方法不易達到的部位，這在一些危險的場所使用可以確保人員的安全；激光清洗能夠清除各種材料表面的各種類型的污染物，達到常規清洗無法達到的清潔度。而且還可以在不損傷材料表面的情況下有選擇性地清洗材料表面的污染物；激光清洗效率高，節省時間。

具體實施方式

下面結合實施例對本發明作進一步說明，但不作為對本發明的限定。