[發明專利]對準裝置和方法、成膜裝置和方法及電子器件的制造方法

有效

• 申請號: 201811006627.2
• 申請日: 2018-08-31
• 公開（公告）號: CN109722626B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: 小林康信
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54;H01L51/56
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 劉楊

1.一種對準裝置，為了進行基板和掩模的位置對齊而進行對準標記的檢測和位置的測量，其特征在于，

該對準裝置包括：

升降部件，使基板相對于掩模升降；以及

測量部，利用上述升降部件使上述基板移動到該基板的一部分與上述掩模接觸的對準測量位置，并對上述基板的對準標記和上述掩模的對準標記進行拍攝，從而對該基板和該掩模的相對的偏移量進行測量，

該對準裝置包括存儲與根據上述基板的種類而被設定的多個上述對準測量位置相關的信息的對準測量位置信息存儲部。

2.根據權利要求1所述的對準裝置，其特征在于，

上述對準測量位置信息存儲部以關聯表的形式存儲與上述基板的識別編號、上述基板的種類和該基板的上述對準測量位置相關的信息。

3.根據權利要求2所述的對準裝置，其特征在于，

上述關聯表還包括上述對準工序中的與照度、快門速度和照相機的高度相關的信息中的至少一個。

4.根據權利要求1所述的對準裝置，其特征在于，

上述基板的種類包括與是否是生產用基板相關的信息。

5.根據權利要求1所述的對準裝置，其特征在于，

上述對準測量位置根據通過上述基板的識別編號確認的上述基板的種類和通過上述掩模的識別編號確認的該掩模的種類而被設定成不同。

6.根據權利要求5所述的對準裝置，其特征在于，

上述對準測量位置信息存儲部以關聯表的形式存儲上述基板的識別編號、上述掩模的識別編號、上述基板的種類、上述掩模的種類和該基板的上述對準測量位置。

7.根據權利要求6所述的對準裝置，其特征在于，

上述關聯表還包括上述對準工序中的與照度、快門速度和照相機的高度相關的信息中的至少一個。

8.根據權利要求5所述的對準裝置，其特征在于，

上述基板的種類包括與是否是生產用基板相關的信息，上述掩模的種類包括與掩模的厚度相關的信息。

9.一種成膜裝置，用于經由掩模在基板上成膜蒸鍍物質，其特征在于，

該成膜裝置包括：

升降部件，使基板相對于掩模升降；

對準測量位置信息存儲部，存儲利用上述升降部件使上述基板的一部分與上述掩模接觸的對準工序中的上述基板的對準測量位置信息；以及

控制部，基于從上述對準測量位置信息存儲部讀取出的上述對準測量位置信息，對成膜裝置進行控制，

上述對準測量位置信息包括基于上述基板的種類而被設定的信息。

10.根據權利要求9所述的成膜裝置，其特征在于，

上述對準測量位置信息存儲部以關聯表的形式存儲與基板的識別編號、基板的種類和該基板的上述對準測量位置相關的信息。

11.根據權利要求10所述的成膜裝置，其特征在于，

上述關聯表還包括上述對準工序中的與照度、快門速度和照相機的高度相關的信息中的至少一個。

12.根據權利要求9所述的成膜裝置，其特征在于，

上述基板的種類包括與是否是生產用基板相關的信息。

13.根據權利要求9所述的成膜裝置，其特征在于，

上述對準測量位置根據通過上述基板的識別編號確認的該基板的種類和通過上述掩模的識別編號確認的該掩模的種類而被設定成不同。

14.根據權利要求13所述的成膜裝置，其特征在于，

上述對準測量位置信息存儲部以關聯表的形式存儲基板的識別編號、掩模的識別編號、基板的種類、掩模的種類和該基板的對準測量位置。