[發明專利]他唑巴坦二苯甲酯的合成方法在審
| 申請號: | 201811005991.7 | 申請日: | 2018-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN109053767A | 公開(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發明(設計)人: | 洪浩;盧江平;包登輝;袁龍 | 申請(專利權)人: | 凱萊英醫藥集團(天津)股份有限公司 |
| 主分類號: | C07D499/87 | 分類號: | C07D499/87;C07D499/04 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 韓建偉;謝湘寧 |
| 地址: | 300457 天津市*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 合成 他唑巴坦 苯甲酯 雙氧水 副產物 氧化劑 后處理 放大生產 合成路線 氧化反應 環保性 收率 催化劑 申請 | ||
本發明提供了一種他唑巴坦二苯甲酯的合成方法。該合成方法包括:在催化劑的作用下,使化合物A和雙氧水進行氧化反應,得到他唑巴坦二苯甲酯(合成路線如下)。本申請提供的合成方法中,采用雙氧水做氧化劑,唯一的副產物為水,這一方面能夠大大減少廢固的生成,使三廢量得到極大減少,提高工藝的環保性,另一方面由于反應的副產物僅為水,因而采用該合成方法還有利于提高他唑巴坦二苯甲酯產品的純度。此外,上述合成方法還具有產品的純度可達98%,后處理操作簡單,分離收率高達95.7%及易于放大生產等優點。
技術領域
本發明涉及藥物合成領域,具體而言,涉及一種他唑巴坦二苯甲酯的合成方法。
背景技術
他唑巴坦是日本大鵬制藥公司開發的新型青霉烷砜類β-內酰胺酶抑制劑。1992年他唑巴坦鈉/哌拉西林那的復合制劑(1:8)首次在法國上市,用于治療多種細菌感染。他唑巴坦具有穩定性好、毒性低、抑酶活性強等特點,是目前臨床評價最有前途的β-內酰胺酶抑制劑。由于他唑巴坦的優異性能,國內外已有多家科研單位和生產廠家對其合成進行了廣泛的研究,并取得了一定的成果。
現有文獻報道了以6-APA為原料,經重氮化、溴代等反應制得關鍵中間體青霉烷酸二苯甲酯-1α-氧化物,再與2-巰基苯并噻唑縮合后,經氯代得2β-氯甲基-2α-甲基-6,6-二氫青霉烷酸二苯甲酯,該中間體再經縮合、氧化等步驟得到他唑巴坦酸,總收率為16.3%。該法的缺點是合成路線較長,總收率不理想。
現有文獻報道了以2α-甲基-2β-氯甲基-青霉烷酸二苯甲酯為原料,經碘代、1,2,3-三氮唑取代、氧化、脫保護4步反應得到他唑巴坦,4步總收率為51.3%。該法雖然反應步驟少,總收率高,但起始原料價格昂貴,成本較高,不適合工業化大生產。
另一篇文獻以青霉烷-3α羧酸二苯甲酯-1β-氧化物為原料經開環、氯甲基化、疊氮化、高錳酸鉀氧化、1,3-偶極環加成、脫保護等步驟合成他唑巴坦。該路線步驟較短,但原料價格較高,對設備要求也高,而且需要使用汞氧化物,環境污染較為嚴重。
另一篇文獻以6-氨基青霉烷酸為原料,以酯化、氧化反應制得關鍵中間體6,6-二氫青霉烷亞砜酸二苯甲酯,再與2-羥基苯并噻唑縮合后,經氯代、成環、氧化、水解等反應得到他唑巴坦,總收率達8%以上。該合成路線較長,工藝過程復雜,收率低,不適于工業化大生產。
另一篇文獻報道了以青霉素G鉀鹽為原料合成他唑巴坦的合成路線。雖然青霉素G鉀鹽相對于6-氨基青霉烷酸價格便宜,但在該合成工藝中使用了危險易爆的物質,并且在親核取代反應中生成了六元環異構化副產物,總收率低。
又一篇文獻報道了以50%雙氧水和乙酸酐作氧化劑,替代高錳酸鉀合成他唑巴坦二苯甲酯,減少了固廢的生成。但反應機理是現場生成危險易爆的過氧乙酸實現底物的氧化,不適于工業化大生產。
綜上所述,目前他唑巴坦的合成路線存在合成步驟長,合成技術復雜,副產物較多,收率低,生產成本高,環境污染嚴重等問題。國內對他唑巴坦的研究尚未取得令人滿意的結果,因此,研究出切實可行的適合于工業化大生產的工藝路線具有重要意義。
發明內容
本發明的主要目的在于提供一種他唑巴坦二苯甲酯的合成方法,以解決現有的合成他唑巴坦二苯甲酯的方法存在副產物較多、產品收率低及環境污染嚴重的問題。
為了實現上述目的,本發明提供了一種他唑巴坦二苯甲酯的合成方法,合成方法包括:在催化劑的作用下,使化合物A和雙氧水進行氧化反應,得到他唑巴坦二苯甲酯,合成路線如下:
進一步地,化合物A和雙氧水的摩爾比為1:1~10。
進一步地,化合物A和雙氧水的摩爾比為1:2~10。
進一步地,氧化反應的反應溫度為20~100℃。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于凱萊英醫藥集團(天津)股份有限公司,未經凱萊英醫藥集團(天津)股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811005991.7/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:噻吩并嘧啶衍生物的制備方法
- 下一篇:一種無定型頭孢妥侖酯的制備方法
- 同類專利
- 專利分類
C07D 雜環化合物
C07D499-00 雜環化合物,含有4-硫雜-1-氮雜雙環[3.2.0]庚烷環系,即含有下式環系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;這類環系進一步稠合,例如與含氧、含氮或含硫雜環2,3-稠合
C07D499-04 .制備
C07D499-21 .有氮原子直接連在位置6和3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2
C07D499-86 .只有1個除氮原子外的原子直接連在位置6,3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3連有除僅兩個甲基外的取代基,并有3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之間有雙鍵并有3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基和氰基,直接連在位置2的化合物





