[發(fā)明專利]光學(xué)測試方法及光學(xué)測試系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811003344.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109470159B | 公開(公告)日: | 2021-03-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李承宗;羅益全;林訓(xùn)鵬;洪志明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01B11/14 | 分類號(hào): | G01B11/14 |
| 代理公司: | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 黃艷 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 測試 方法 系統(tǒng) | ||
本公開提供一種光學(xué)測試方法以及一種光學(xué)測試系統(tǒng),該光學(xué)測試方法包括發(fā)射光通過設(shè)置在一固持器上的一被測光學(xué)元件的兩個(gè)基板之間的一間隙,以產(chǎn)生多個(gè)光束。所述光學(xué)測試方法還包括驅(qū)動(dòng)固持器及其上的被測光學(xué)元件移動(dòng)到N個(gè)位置。所述光學(xué)測試方法還包括接收來自在所述N個(gè)位置的被測光學(xué)元件的所述光束中的一者,以產(chǎn)生N個(gè)第一強(qiáng)度信號(hào)。此外,所述光學(xué)測試方法包括根據(jù)所述N個(gè)第一強(qiáng)度信號(hào)和參考數(shù)據(jù)來確定被測光學(xué)元件的間隙的大小。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明實(shí)施例關(guān)于一種半導(dǎo)體技術(shù),特別涉及一種用于確定光學(xué)元件的兩個(gè)基板之間的間隙的大小的光學(xué)測試方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
三維(three-dimensional,3D)光學(xué)成像系統(tǒng)能夠提供距離測量和捕捉區(qū)域內(nèi)的物體的深度影像(depth image)的功能。這種系統(tǒng)目前可以用于游戲和多媒體應(yīng)用中,例如,提供人類辨識(shí)和手勢(shì)識(shí)別,以及各種其他應(yīng)用中,例如,半導(dǎo)體和其他商品的檢查、電腦輔助設(shè)計(jì)驗(yàn)證、機(jī)器人視覺以及地理調(diào)查。3D光學(xué)成像系統(tǒng)通常包括光學(xué)圖案投影系統(tǒng)(optical pattern projection system),其包括用于照射物體的光源。3D光學(xué)成像系統(tǒng)還包括光接收器,例如3D相機(jī),其用于接收從物體反射的光并從反射光來形成物體的3D影像。
在某些應(yīng)用中,光學(xué)圖案投影系統(tǒng)中使用了繞射光學(xué)元件(diffractive opticalelement)來產(chǎn)生所需的投影圖案。繞射光學(xué)元件的構(gòu)造(configuration)將與繞射光學(xué)元件和光學(xué)圖案投影系統(tǒng)的光學(xué)特性有關(guān)。雖然現(xiàn)有用于檢查繞射光學(xué)元件的測試系統(tǒng)和測試方法已經(jīng)足以應(yīng)付其需求,然而仍未全面滿足。
發(fā)明內(nèi)容
本公開一些實(shí)施例提供一種光學(xué)測試方法。所述光學(xué)測試方法包括發(fā)射光通過設(shè)置在一固持器上的一被測光學(xué)元件的兩個(gè)基板之間的一間隙,以產(chǎn)生多個(gè)光束。所述光學(xué)測試方法還包括驅(qū)動(dòng)固持器及其上的被測光學(xué)元件移動(dòng)到N個(gè)位置,其中N是大于2的自然數(shù)。所述光學(xué)測試方法還包括接收來自在所述N個(gè)位置的被測光學(xué)元件的所述光束中的一者,以產(chǎn)生N個(gè)第一強(qiáng)度信號(hào)。此外,所述光學(xué)測試方法包括根據(jù)所述N個(gè)第一強(qiáng)度信號(hào)和參考數(shù)據(jù)來確定被測光學(xué)元件的間隙的大小。
本公開一些實(shí)施例提供一種光學(xué)測試方法。所述光學(xué)測試方法包括收集對(duì)應(yīng)于多個(gè)光學(xué)元件模型的多組樣本強(qiáng)度信號(hào)來做為參考數(shù)據(jù),其中所述光學(xué)元件模型在各光學(xué)元件模型的兩個(gè)基板之間分別具有一間隙,且所述光學(xué)元件模型的間隙的大小不同,以及各組樣本強(qiáng)度信號(hào)包括對(duì)應(yīng)于所述光學(xué)元件模型中的一者在N個(gè)位置的N個(gè)第二強(qiáng)度信號(hào),其中N是大于2的自然數(shù)。所述光學(xué)測試方法還包括測量對(duì)應(yīng)于一被測光學(xué)元件在所述N個(gè)位置的N個(gè)第一強(qiáng)度信號(hào)。此外,所述光學(xué)測試方法包括根據(jù)所述N個(gè)第一強(qiáng)度信號(hào)和所述參考數(shù)據(jù)來確定被測光學(xué)元件的兩個(gè)基板之間的一間隙的大小。
本公開一些實(shí)施例提供一種光學(xué)測試系統(tǒng)。所述光學(xué)測試系統(tǒng)包括一固持器、一光源、一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、一感測器以及一控制器。固持器配置用以固持一光學(xué)元件。光源配置用以(is configured to)發(fā)射光通過光學(xué)元件,以產(chǎn)生多個(gè)光束。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)配置用以驅(qū)動(dòng)固持器及其上的光學(xué)元件移動(dòng)到N個(gè)位置。感測器配置用以接收來自在所述N個(gè)位置的光學(xué)元件的所述光束中的一者,以產(chǎn)生N個(gè)第一強(qiáng)度信號(hào)。控制器配置用以根據(jù)所述N個(gè)第一強(qiáng)度信號(hào)和參考數(shù)據(jù)確定光學(xué)元件的兩個(gè)基板之間的一間隙的大小。
附圖說明
圖1顯示根據(jù)一些實(shí)施例的一光學(xué)圖案投影系統(tǒng)的示意圖。
圖2顯示根據(jù)一些實(shí)施例的圖1中的繞射光學(xué)元件的剖視示意圖。
圖3顯示根據(jù)一些實(shí)施例的用于確定一光學(xué)元件的兩個(gè)基板之間的間隙的大小的一光學(xué)測試系統(tǒng)的示意圖。
圖4顯示根據(jù)一些實(shí)施例的用于確定一光學(xué)元件的兩個(gè)基板之間的間隙的大小的一光學(xué)測試方法的簡化流程圖。
圖5顯示根據(jù)一些實(shí)施例的在測試期間固持器(及其上的光學(xué)元件模型)被移動(dòng)到多個(gè)位置的示意圖。
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