[發(fā)明專利]光學測試方法及光學測試系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811003344.2 | 申請日: | 2018-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN109470159B | 公開(公告)日: | 2021-03-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李承宗;羅益全;林訓鵬;洪志明 | 申請(專利權(quán))人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/14 | 分類號: | G01B11/14 |
| 代理公司: | 隆天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 黃艷 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學 測試 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種光學測試方法,包括:
發(fā)射光通過設置在一固持器上的一被測光學元件的兩個基板之間的一間隙,以產(chǎn)生多個光束;
驅(qū)動該固持器及其上的該被測光學元件移動到N個位置,其中,N是大于2的自然數(shù);
接收來自在該N個位置的該被測光學元件的所述光束中的一者,以產(chǎn)生N個第一強度信號;以及
根據(jù)該N個第一強度信號和參考數(shù)據(jù)確定該被測光學元件的該間隙的大小。
2.如權(quán)利要求1所述的光學測試方法,其中,該參考數(shù)據(jù)包括對應于多個光學元件模型的多個組樣本強度信號,所述光學元件模型在各該光學元件模型的兩個基板之間分別具有一間隙,且所述光學元件模型的所述間隙的大小不同,以及各該組樣本強度信號包括對應于所述光學元件模型中的一者在該N個位置的N個第二強度信號。
3.如權(quán)利要求2所述的光學測試方法,其中,確定該被測光學元件的該間隙的大小的操作還包括:
計算該N個第一強度信號與各該組樣本強度信號中的該N個第二強度信號之間的強度差;以及
當該N個第一強度信號與對應于所述光學元件模型中的一者的該N個第二強度信號之間的所述強度差的和為最小時,確定該被測光學元件的該間隙的大小與所述光學元件模型中的該者的該間隙的大小是相同的。
4.如權(quán)利要求1所述的光學測試方法,其中,該固持器及其上的該被測光學元件由多個驅(qū)動馬達驅(qū)動。
5.如權(quán)利要求1所述的光學測試方法,其中,該被測光學元件是一繞射光學元件。
6.如權(quán)利要求5所述的光學測試方法,其中,用于產(chǎn)生該第一強度信號的接收的該光束是來自該繞射光學元件的一正或負繞射光束。
7.如權(quán)利要求5所述的光學測試方法,其中,該繞射光學元件包括彼此堆疊的一第一基板和一第二基板,至少一繞射光柵結(jié)構(gòu)形成在該第一和第二基板的相對表面中的至少一者上,以及該間隙形成在該第一和第二基板的所述相對表面之間。
8.一種光學測試方法,包括:
收集對應于多個光學元件模型的多個組樣本強度信號來做為參考數(shù)據(jù),其中,所述光學元件模型在各該光學元件模型的兩個基板之間分別具有一間隙,且所述光學元件模型的所述間隙的大小不同,以及各該組樣本強度信號包括對應于所述光學元件模型中的一者在N個位置的N個第二強度信號,其中,N是大于2的自然數(shù);
測量對應于一被測光學元件在該N個位置的N個第一強度信號;以及
根據(jù)該N個第一強度信號和該參考數(shù)據(jù)確定該被測光學元件的兩個基板之間的一間隙的大小。
9.如權(quán)利要求8所述的光學測試方法,其中,確定該被測光學元件的該兩個基板之間的該間隙的大小的操作還包括:
計算該N個第一強度信號與各該組樣本強度信號中的該N個第二強度信號之間的強度差;以及
當該N個第一強度信號與對應于所述光學元件模型中的一者的該N個第二強度信號之間的所述強度差的和為最小時,確定該被測光學元件的該兩個基板之間的該間隙的大小與所述光學元件模型中的該者的該兩個基板之間的該間隙的大小是相同的。
10.如權(quán)利要求8所述的光學測試方法,還包括:在該測量期間將固持該被測光學元件的一固持器沿一第一方向移動到該N個位置,其中,該第一方向垂直于一感測器的一光接收面。
11.如權(quán)利要求8所述的光學測試方法,其中,該N個位置中的任兩個相鄰位置之間的距離是相同的。
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