[發明專利]一種加熱旋轉襯底臺

在審

• 申請號: 201811000306.1
• 申請日: 2018-08-30
• 公開（公告）號: CN108866503A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 王燕麗;王昕濤
• 申請（專利權）人: 東莞市典雅五金制品有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/50
• 代理公司: 東莞眾業知識產權代理事務所(普通合伙) 44371
• 代理人: 何恒韜

本發明公開一種加熱旋轉襯底臺，包括基片架和控制基片架加熱、旋轉及前后來回移動的控制組件，所述控制組件包括CF法蘭、第一驅動組件和移動組件，所述第一驅動組件包括傳動軸、齒輪組件和第一驅動電機，所述基片架與傳動軸的一端固定連接，所述傳動軸的另一端穿過CF法蘭通過齒輪組件與第一驅動電機的輸出軸固定連接，所述移動組件包括滑座和導向桿，所述導向桿裝設于CF法蘭上，所述導向桿與傳動軸平行設置，所述滑座滑動安裝于導向桿上，所述第一驅動電機固定安裝于滑座上，所述基片架上設有加熱器。本發明能在沉積過程中能對基片進行加熱的同時旋轉基片，使基片加熱均勻，提高膜層的均勻性，提高鍍膜質量，有利于制備各種功能膜。

技術領域

本發明涉及濺射設備技術領域，特別涉及一種加熱旋轉襯底臺。

背景技術

眾所周知，濺射方法的執行過程如下。在濺射設備的真空室內，將基片設置成與薄膜沉積材料支撐的濺射靶相對，并且它們之間隔開預定距離。在此條件下，諸如惰性氣體離子的高能粒子撞擊濺射靶，以使濺射粒子（例如靶材的組成原子和離子）從濺射靶中飛出（發射）。然后，所述濺射粒子附著并沉積到基片表面上以形成各種功能膜，根據濺射方法形成在基片上的涂膜具有非常小的厚度和足夠強的附著性。相應地，所述濺射方法能夠提供具有高品質和高耐用性的各種功能膜。

現有的襯底臺通常僅能對基片進行加熱，不能同時旋轉，這樣在膜層沉積的過程中會導致基片加熱不均勻，如此便會影響膜層生長的均勻性，降低鍍膜質；而襯底臺不能前后移動，即基片與靶材之間的距離是固定的，如此鍍膜的沉積效率較低。

發明內容

本發明要解決的技術問題是，針對上述現有技術中的不足，提供一種加熱旋轉襯底臺，其能在沉積過程中能對基片進行加熱的同時旋轉基片，使基片加熱均勻，有利于膜層生長，提高膜層的均勻性，提高鍍膜質量。

為解決上述技術問題，本發明的技術方案是：

一種加熱旋轉襯底臺，包括基片架和控制基片架加熱、旋轉及前后來回移動的控制組件，所述控制組件包括CF法蘭、驅動基片架旋轉的第一驅動組件和用于使基片架前后來回移動的移動組件，所述第一驅動組件包括傳動軸、齒輪組件和第一驅動電機，所述基片架與傳動軸的一端固定連接，所述傳動軸的另一端穿過CF法蘭通過齒輪組件與第一驅動電機的輸出軸固定連接，所述移動組件包括滑座和導向桿，所述導向桿沿水平橫向裝設于CF法蘭上，所述導向桿與傳動軸平行設置，所述滑座滑動安裝于導向桿上，所述第一驅動電機固定安裝于滑座上，所述基片架上設有用于對基片進行加熱的加熱器。

作為一種優選方案，所述移動組件還包括驅動滑座沿導向桿方向來回移動的第二驅動組件，所述第二驅動組件包括渦輪、蝸桿、絲桿和第二驅動電機，所述絲桿固定安裝于滑座上，所述蝸桿套設于絲桿上，所述第二驅動電機固定安裝于CF法蘭上，所述渦輪與第二驅動電機的輸出軸固定連接，所述渦輪和蝸桿相互嚙合。

作為一種優選方案，所述導向桿為三個，兩個導向桿分設于傳動軸的兩側，另外一個導向桿平行設置于傳動軸的下方。

作為一種優選方案，所述齒輪組件包括傳送齒輪和主動齒輪，所述傳動齒輪與傳動軸固定連接，所述主動齒輪與第一驅動電機的輸出軸固定連接，所述傳動齒輪與主動齒輪相互嚙合。

作為一種優選方案，所述基片架的外側周圍裝設有熱屏蔽件。

作為一種優選方案，所述控制組件還包括溫控器，所述溫控器固定安裝于滑座上，所述加熱器與溫控器電連接。

作為一種優選方案，所述基片架內裝設有熱電偶傳感器，所述熱電偶傳感器與溫控器電連接。

作為一種優選方案，所述基片架與傳動軸之間設有冷卻塊。