[發(fā)明專利]一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811000306.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108866503A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王燕麗;王昕濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東莞市典雅五金制品有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/54 | 分類號(hào): | C23C14/54;C23C14/50 |
| 代理公司: | 東莞眾業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44371 | 代理人: | 何恒韜 |
| 地址: | 523000 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 傳動(dòng)軸 導(dǎo)向桿 基片架 加熱 驅(qū)動(dòng)電機(jī) 法蘭 滑座 齒輪組件 控制組件 驅(qū)動(dòng)組件 移動(dòng)組件 加熱器 滑動(dòng)安裝 加熱均勻 平行設(shè)置 臺(tái)本發(fā)明 旋轉(zhuǎn)基片 襯底臺(tái) 功能膜 均勻性 輸出軸 沉積 襯底 鍍膜 膜層 制備 裝設(shè) 穿過(guò) 移動(dòng) | ||
1.一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái),其特征在于:包括基片架和控制基片架加熱、旋轉(zhuǎn)及前后來(lái)回移動(dòng)的控制組件,所述控制組件包括CF法蘭、驅(qū)動(dòng)基片架旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動(dòng)組件和用于使基片架前后來(lái)回移動(dòng)的移動(dòng)組件,所述第一驅(qū)動(dòng)組件包括傳動(dòng)軸、齒輪組件和第一驅(qū)動(dòng)電機(jī),所述基片架與傳動(dòng)軸的一端固定連接,所述傳動(dòng)軸的另一端穿過(guò)CF法蘭通過(guò)齒輪組件與第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸固定連接,所述移動(dòng)組件包括滑座和導(dǎo)向桿,所述導(dǎo)向桿沿水平橫向裝設(shè)于CF法蘭上,所述導(dǎo)向桿與傳動(dòng)軸平行設(shè)置,所述滑座滑動(dòng)安裝于導(dǎo)向桿上,所述第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)固定安裝于滑座上,所述基片架上設(shè)有用于對(duì)基片進(jìn)行加熱的加熱器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái),其特征在于:所述移動(dòng)組件還包括驅(qū)動(dòng)滑座沿導(dǎo)向桿方向來(lái)回移動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)組件,所述第二驅(qū)動(dòng)組件包括渦輪、蝸桿、絲桿和第二驅(qū)動(dòng)電機(jī),所述絲桿固定安裝于滑座上,所述蝸桿套設(shè)于絲桿上,所述第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)固定安裝于CF法蘭上,所述渦輪與第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸固定連接,所述渦輪和蝸桿相互嚙合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái),其特征在于:所述導(dǎo)向桿為三個(gè),兩個(gè)導(dǎo)向桿分設(shè)于傳動(dòng)軸的兩側(cè),另外一個(gè)導(dǎo)向桿平行設(shè)置于傳動(dòng)軸的下方。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái),其特征在于:所述齒輪組件包括傳送齒輪和主動(dòng)齒輪,所述傳動(dòng)齒輪與傳動(dòng)軸固定連接,所述主動(dòng)齒輪與第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸固定連接,所述傳動(dòng)齒輪與主動(dòng)齒輪相互嚙合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái),其特征在于:所述基片架的外側(cè)周圍裝設(shè)有熱屏蔽件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái),其特征在于:所述控制組件還包括溫控器,所述溫控器固定安裝于滑座上,所述加熱器與溫控器電連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái),其特征在于:所述基片架內(nèi)裝設(shè)有熱電偶傳感器,所述熱電偶傳感器與溫控器電連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái),其特征在于:所述基片架與傳動(dòng)軸之間設(shè)有冷卻塊。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái),其特征在于:還包括密封套和密封圈,所述傳動(dòng)軸與CF法蘭之間裝設(shè)有軸承,所述密封套軸向開(kāi)設(shè)有與軸承適配的第一容置槽、與密封圈適配的第二容置槽和與傳動(dòng)軸適配的通槽,所述第一容置槽、第二容置槽和通槽相互連通,所述密封圈裝設(shè)于第二容置槽中。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái),其特征在于:所述控制組件還包括用于向溫控器輸入直流電的輸入端子,所述輸入端子與溫控器電連接。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





