[發(fā)明專利]X射線衍射測量中的測量結(jié)果的顯示方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810996814.3 | 申請日: | 2018-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN109425626B | 公開(公告)日: | 2022-11-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 佐佐木明登;姬田章宏;池田由紀子;長尾圭悟 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社理學 |
| 主分類號: | G01N23/207 | 分類號: | G01N23/207 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱美紅;劉林華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 射線 衍射 測量 中的 結(jié)果 顯示 方法 | ||
目的是能夠在視覺上明確且準確地識別德拜環(huán)的周向上的X射線信息與2θ角度位置的對應關(guān)系。本發(fā)明提供一種X射線衍射測量中的測量結(jié)果的顯示方法,X射線衍射測量是向試樣照射X射線并用X射線檢測器檢測由該試樣衍射的X射線的測量,基于X射線檢測器的輸出數(shù)據(jù),在坐標內(nèi),顯示2θ-I分布圖,從而形成一維衍射分布圖,坐標在正交坐標軸的一個取2θ角度值,在正交坐標軸的另一個取X射線強度值;基于X射線檢測器的輸出數(shù)據(jù),將由試樣衍射的X射線在各2θ角度形成的多個德拜環(huán)的周向上的X射線強度數(shù)據(jù)在各2θ角度值以直線狀顯示,從而形成二維衍射圖案;二維衍射圖案和一維衍射分布圖以兩者的2θ角度值相互一致的方式排列顯示。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及X射線衍射測量中的測量結(jié)果的顯示方法,所述X射線衍射測量是向試樣照射X射線并用X射線檢測器檢測由該試樣衍射的X射線的測量。
背景技術(shù)
大部分固體物質(zhì)都以結(jié)晶狀態(tài)存在。處于結(jié)晶狀態(tài)或處于結(jié)晶狀態(tài)的物質(zhì)一般被稱作雛晶。大多固體物質(zhì)是許多微細的結(jié)晶粒子聚集而形成的。許多結(jié)晶粒子聚集而形成的物質(zhì)被稱作多結(jié)晶體。
在X射線衍射測量中,存在粉末X射線衍射測量、薄膜測量、微小部測量、小角散射測量等的各種測量方法。例如,粉末X射線衍射測量是以粉末狀的結(jié)晶或多結(jié)晶體為試樣而進行的X射線衍射測量。
在粉末X射線衍射測量中,通過使用X射線衍射裝置的測量,能得到試樣的X射線衍射圖案。該X射線衍射圖案是每個晶相所固有的。通過分析該X射線衍射圖案,能夠鑒別試樣中包含的晶相。這里,所謂晶相是試樣中包含的物質(zhì)為結(jié)晶狀態(tài)的情況下的表示該物質(zhì)的概念。
通常,如果試樣中的結(jié)晶粒子的數(shù)量足夠多并且晶格面的方向是隨機的,則必定存在對于向試樣入射的X射線擁有滿足衍射條件的角度的晶格面。并且,由晶格面以衍射角度2θ衍射的X射線如圖3所示,當2θ<90°時沿著半頂角是2θ的圓錐的母線行進,在2θ>90°時沿著半頂角是180°-2θ的圓錐的母線行進。即,由通過粉末狀的結(jié)晶或多結(jié)晶體構(gòu)成的試樣衍射的X射線形成中心角不同的許多圓錐C。如果由X射線檢測器10的X射線檢測面在區(qū)域A0的范圍中接受到這些X射線,則能得到由圖7的二維衍射圖案P2表示那樣的同心圓狀的衍射圖樣。這樣的圓弧狀的衍射圖樣被稱作德拜-謝樂環(huán)(Debye-Scherrer ring)或德拜環(huán)(Debye ring)。
以往,在專利文獻1(美國專利第7885383號說明書)中表示了X射線衍射測量。在專利文獻1的圖1中,表示了沿著與德拜環(huán)的2θ方向正交的周向(γ(伽馬)方向)測量貢獻于德拜環(huán)的形成的X射線的強度。
此外,在專利文獻1的圖4中,表示了將包含多個德拜環(huán)的二維衍射圖案和γ-I分布圖排列顯示。γ-I分布圖是在橫軸取γ方向的角度值在縱軸取X射線強度值的坐標上表示的X射線強度分布。在專利文獻1中表示了顯示德拜環(huán)的周向的X射線強度數(shù)據(jù),但是有其周向的X射線強度數(shù)據(jù)的顯示沒有被充分地有效利用的問題。
在先技術(shù)文獻
專利文獻
專利文獻1:美國專利第7885383號說明書。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題
本發(fā)明是鑒于上述以往的問題點而做出的,目的是使得能夠在視覺上明確且準確地識別德拜環(huán)的周向上的X射線信息與2θ角度位置的對應關(guān)系。
用于解決課題的手段
(本發(fā)明的前提技術(shù))
在考慮到粉末X射線衍射測量的情況下,以往以來知道有使用粉末衍射數(shù)據(jù)的晶相鑒別。這里,所謂“粉末衍射數(shù)據(jù)”例如是由圖7的附圖標記P1表示那樣的一維分布圖。根據(jù)該一維分布圖P1中的峰位置和強度(高度、積分強度)分析在試樣中包含怎樣的物質(zhì)(結(jié)晶性物質(zhì))是使用粉末衍射圖案的晶相鑒別。
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