[發(fā)明專利]基板處理裝置及基板處理方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810993464.5
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN109545703B
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 巖尾通矩
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社斯庫林集團(tuán)
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/02
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 馬爽;臧建明

本發(fā)明提供一種基板處理裝置與方法，對基板實(shí)施使用處理液的處理，包括：基板保持單元，有自旋底座，并用以保持基板；隔斷構(gòu)件，有與由基板保持單元保持的基板的上表面相向的基板相向面，并有比自旋底座大的直徑；隔斷構(gòu)件升降單元，使隔斷構(gòu)件在隔斷位置與退避位置間升降，隔斷位置是將基板相向面與上表面間的空間從上表面上的側(cè)方隔斷的位置，退避位置是從隔斷位置向上方退避的位置，且空間未從上表面上的側(cè)方被隔斷；以及多個防護(hù)板，包括環(huán)繞在基板保持單元周圍的筒狀內(nèi)側(cè)防護(hù)板、及環(huán)繞在內(nèi)側(cè)防護(hù)板周圍的筒狀外側(cè)防護(hù)板，多個防護(hù)板用以捕獲從基板與隔斷構(gòu)件之間排出的處理液，外側(cè)防護(hù)板的內(nèi)周端相較于內(nèi)側(cè)防護(hù)板的內(nèi)周端而位于徑向外側(cè)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種基板處理裝置及基板處理方法。在作為處理對象的基板中，例如包括半導(dǎo)體晶片、液晶顯示裝置用基板、有機(jī)電致發(fā)光(electroluminescence，EL)顯示裝置等平板顯示器(Flat Panel Display，F(xiàn)PD)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩膜用基板、陶瓷基板、太陽能電池用基板等。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體裝置的制造工序中，為了對半導(dǎo)體晶片等基板的表面實(shí)施使用藥液等處理液的處理，有時使用對基板逐片進(jìn)行處理的單片式基板處理裝置。此單片式的基板處理裝置在腔室內(nèi)例如包括：使基板保持為大致水平并旋轉(zhuǎn)的自旋夾頭(spin chuck)、用于對通過此自旋夾頭而旋轉(zhuǎn)的基板供給處理液的噴嘴、在接近由自旋夾頭保持的基板的表面(上表面)的位置相向配置的隔斷構(gòu)件、以及用于捕獲從基板排出的處理液并進(jìn)行排液的處理杯(cup)。

如美國專利申請公開第2016/045938A1號公報所示，處理杯具備多個防護(hù)板(guard)。各防護(hù)板包括環(huán)繞在自旋夾頭周圍的圓筒狀的引導(dǎo)部、以及從引導(dǎo)部的上端向中心側(cè)朝斜上方延伸的圓筒狀的傾斜部。各傾斜部的上端構(gòu)成為各防護(hù)板的內(nèi)周端，并具有比基板與自旋底座大的直徑。各防護(hù)板的內(nèi)周端在徑向上一致。

另外，在美國專利申請公開第2017/186599A1號公報的基板處理裝置的基板處理例中，一面將隔斷構(gòu)件配置于從基板的表面向上方退避的退避位置，一面從配置于隔斷構(gòu)件與基板的上表面之間的噴嘴噴出藥液，由此進(jìn)行藥液處理。同樣地，一面將隔斷構(gòu)件配置于退避位置，一面從配置于隔斷構(gòu)件與基板的上表面之間的噴嘴噴出沖洗液，由此進(jìn)行沖洗處理。

沖洗處理后，使隔斷構(gòu)件接近基板的表面。在此狀態(tài)下，使自旋夾頭與隔斷構(gòu)件沿同一方向旋轉(zhuǎn)。由此，將附著于基板表面的沖洗液甩掉并去除(干燥)。

另外，美國專利申請公開第2015/234296A1號公報的隔斷構(gòu)件中，為了更有效地將基板上方的上方空間與上方空間的側(cè)方空間隔斷而具備配置于由自旋夾頭保持的基板上方的圓板部、以及從與圓板部的周緣下垂的圓筒部。即，此隔斷構(gòu)件包括：與由自旋夾頭保持的基板的上表面相向的基板相向面、以及與由自旋夾頭保持的基板的外周端相向的內(nèi)周面。

發(fā)明內(nèi)容

本申請發(fā)明人等對使用美國專利申請公開第2015/234296A1號公報的隔斷構(gòu)件來實(shí)施下述專利文獻(xiàn)2的基板處理例進(jìn)行了研究。

即，對于具有圓板部與圓筒部的隔斷構(gòu)件，一面將隔斷構(gòu)件配置于從基板的表面向上方退避的退避位置，一面從配置于隔斷構(gòu)件與基板的上表面之間的噴嘴噴出處理液(藥液或沖洗液)，由此進(jìn)行藥液處理或沖洗處理。此時，使多個防護(hù)板中的一個防護(hù)板(退避位置用防護(hù)板)與基板的周端面相向。利用退避位置用防護(hù)板來捕獲從基板的周緣部排出的處理液。

沖洗處理后，使隔斷構(gòu)件接近基板的表面。另外，使與退避位置用防護(hù)板不同的防護(hù)板(隔斷位置用防護(hù)板)與隔斷構(gòu)件的圓筒部的下端部相向。在該狀態(tài)下使基板干燥。利用隔斷位置用防護(hù)板來捕獲從隔斷構(gòu)件的圓筒部的下端部排出的處理液。

所述情況下，存在如下問題。即，美國專利申請公開第2015/234296A1號公報的隔斷構(gòu)件由于具有對內(nèi)周面進(jìn)行劃分的圓筒部，因此被設(shè)置成比自旋底座大的直徑。在使用這種大直徑的隔斷構(gòu)件的情況下，為了避免與防護(hù)板的內(nèi)周端的干擾，需要擴(kuò)大各防護(hù)板的內(nèi)徑。