[發明專利]一種液晶平板結構及液晶平板加工方法

在審

• 申請號: 201810991480.0
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN108897158A
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發明（設計）人: 朱常青;董海飛;曹永祥;胡迪
• 申請（專利權）人: 蕪湖長信科技股份有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;C23C14/06;C23C14/10;C23C14/35;C03C17/34;C03C23/00
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
• 代理人: 蔣兵魁

本發明提供一種液晶平板技術領域的液晶平板加工方法，所述的液晶平板加工方法的加工步驟為：將原料玻璃根據設定尺寸切割成多塊玻璃本體，采用磨邊機對每塊玻璃本體邊緣分別進行邊緣磨削處理；將玻璃本體批量投入LCD清洗機，對波玻璃本體批量清洗；從LCD清洗機中取出玻璃本體，投入真空鍍膜設備中，真空鍍膜設備通過磁控濺射鍍膜工藝對玻璃本體表面進行鍍膜處理，從而在玻璃本體表面鍍上多組光學薄膜，完成液晶平板加工。本發明所述的液晶平板加工方法，步驟簡單，能夠有效提高液晶平板整體性能，使得液晶平板的透光率、硬度性能指標全面提升，同時有效提高液晶平板加工效率，不再需要復雜的鍍膜設備，降低制造成本，提升產品良率。

技術領域

本發明屬于液晶平板(液晶顯示屏)技術領域，更具體地說，是涉及一種液晶平板加工方法。

背景技術

隨著生活水平的提高，人們對電子產品的外觀及性能要求越來越高，而現有的電子產品，現有技術中，液晶平板抗撞擊能力差，指甲、筆尖等一些硬物的接觸，或用布擦試都有可能劃傷液晶屏表面，留下終身無法擦去的痕跡。同時還存在反射率過高問題。而現有技術中的超硬多層AR膜主要是通過Batch鍍膜設備HSP-160進行鍍膜，這樣的設備加工效率很低，成本高，而采用IN-LINE鍍膜設備，效率很高，成本低，但IN-LINE鍍膜鍍多層超硬膜有以下問題：1、多層光學薄膜連續沉積的氣路設計是很難的設備問題；2、多層光學薄膜連續沉積的濺射靶材布置是很難的設備問題；3、多層光學薄膜大面積鍍膜的膜層均勻性控制是很難的工藝問題；4、多層光學薄膜的膜系設計與膜厚控制，材料選擇是很難的工藝問題，無法滿足需求。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是：針對現有技術的不足，提供一種步驟簡單，能夠有效提高液晶平板整體性能，使得液晶平板的透光率、硬度性能指標全面提升，同時有效提高液晶平板加工效率，不再需要復雜的鍍膜設備，降低制造成本，提升產品良率的液晶平板加工方法。

要解決以上所述的技術問題，本發明采取的技術方案為：

本發明為一種液晶平板加工方法，液晶平板包括玻璃本體，玻璃本體表面設置鍍膜層，所述的液晶平板加工方法的加工步驟為：1)將原料玻璃根據設定尺寸切割成多塊玻璃本體，采用磨邊機對每塊玻璃本體邊緣分別進行邊緣磨削處理，使得玻璃本體邊緣成圓弧狀結構；2)將玻璃本體批量投入LCD清洗機，LCD清洗機對波玻璃本體批量清洗；3)從LCD清洗機中取出玻璃本體，投入真空鍍膜設備中，真空鍍膜設備通過磁控濺射鍍膜工藝對玻璃本體表面進行鍍膜處理，從而在玻璃本體表面鍍上多組光學薄膜，完成液晶平板加工。

所述的LCD清洗機對波玻璃本體批量清洗時，LCD清洗機內的清洗液采用低泡堿性清洗劑，LCD清洗機對波玻璃本體批量清洗時，清洗液的溫度控制在35℃-45℃范圍之間。

所述的真空鍍膜設備通過磁控濺射鍍膜工藝對玻璃本體表面進行鍍膜處理時，玻璃本體在真空鍍膜設備中進行鍍膜處理的時間控制在40min-60min范圍之間，鍍膜處理后形成的四層光學薄膜。

所述的真空鍍膜設備通過磁控濺射鍍膜工藝對玻璃本體表面進行鍍膜處理后，對形成的液晶平板在凈化環境中進行外觀檢查；

所述的液晶平板的單面多層AR透光率設置為≥94％；液晶平板的波段范圍控制在400nm-700nm之間；液晶平板的硬度設置為≥9H。

本發明還涉及一種結構簡單，能夠有效提高液晶平板整體性能，使得液晶平板的透光率、硬度性能指標全面提升，同時有效提高液晶平板加工效率，不再需要復雜的鍍膜設備，降低成本的液晶平板結構。

所述的液晶平板結構包括多組光學薄膜，多組光學薄膜的光學薄膜包括Si3N4層Ⅰ、SiO2層Ⅰ、Si3N4層Ⅱ、SiO2層Ⅱ，多組光學薄膜從外側到內側依次為位于第一層的Si3N4層Ⅰ、位于第二層的SiO2層Ⅰ、位于第三層的Si3N4層Ⅱ、位于第四層的SiO2層Ⅱ，多組光學薄膜的總厚度尺寸控制在220nm-250nm范圍之間。