[發明專利]一種液晶平板結構及液晶平板加工方法

在審

• 申請號: 201810991480.0
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN108897158A
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發明（設計）人: 朱常青;董海飛;曹永祥;胡迪
• 申請（專利權）人: 蕪湖長信科技股份有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;C23C14/06;C23C14/10;C23C14/35;C03C17/34;C03C23/00
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
• 代理人: 蔣兵魁

1.一種液晶平板加工方法，液晶平板包括玻璃本體，玻璃本體表面設置鍍膜層，其特征在于：所述的液晶平板加工方法的加工步驟為：1)將原料玻璃根據設定尺寸切割成多塊玻璃本體，采用磨邊機對每塊玻璃本體邊緣分別進行邊緣磨削處理，使得玻璃本體邊緣成圓弧狀結構；2)將玻璃本體批量投入LCD清洗機，LCD清洗機對波玻璃本體批量清洗；3)從LCD清洗機中取出玻璃本體，投入真空鍍膜設備中，真空鍍膜設備通過磁控濺射鍍膜工藝對玻璃本體表面進行鍍膜處理，從而在玻璃本體表面鍍上多組光學薄膜，完成液晶平板加工。

2.根據權利要求1所述的液晶平板加工方法，其特征在于：所述的LCD清洗機對波玻璃本體批量清洗時，LCD清洗機內的清洗液采用低泡堿性清洗劑，LCD清洗機對波玻璃本體批量清洗時，清洗液的溫度控制在35℃-45℃范圍之間。

3.根據權利要求1或2所述的液晶平板加工方法，其特征在于：所述的真空鍍膜設備通過磁控濺射鍍膜工藝對玻璃本體表面進行鍍膜處理時，玻璃本體在真空鍍膜設備中進行鍍膜處理的時間控制在40min-60min范圍之間，鍍膜處理后形成的四層光學薄膜。

4.根據權利要求1或2所述的液晶平板加工方法，其特征在于：所述的真空鍍膜設備通過磁控濺射鍍膜工藝對玻璃本體表面進行鍍膜處理后，對形成的液晶平板在凈化環境中進行外觀檢查。

5.根據權利要求1或2所述的液晶平板加工方法，其特征在于：所述的液晶平板的單面多層AR透光率設置為≥94％；液晶平板的波段范圍控制在400nm-700nm之間；液晶平板的硬度設置為≥9H。

6.一種液晶平板結構，其特征在于：所述的液晶平板結構包括多組光學薄膜，多組光學薄膜(4)的光學薄膜包括Si3N4層Ⅰ(1)、SiO2層Ⅰ(2)、Si3N4層Ⅱ(3)、SiO2層Ⅱ(5)，多組光學薄膜(4)從外側到內側依次為位于第一層的Si3N4層Ⅰ(1)、位于第二層的SiO2層Ⅰ(2)、位于第三層的Si3N4層Ⅱ(3)、位于第四層的SiO2層Ⅱ(5)，多組光學薄膜(4)的總厚度尺寸控制在220nm-250nm范圍之間。

7.根據權利要求6所述的液晶平板結構，其特征在于：所述的多組光學薄膜(4)位于第一層的Si3N4層Ⅰ(1)的厚度尺寸控制在30nm-35nm范圍之間，位于第二層的SiO2層Ⅰ(2)的厚度尺寸控制在30nm-35nm范圍之間，位于第三層的Si3N4層Ⅱ(3)的厚度尺寸控制在60nm-70nm范圍之間，位于第四層的SiO2層Ⅱ(5)的厚度尺寸控制在100nm-110nm范圍之間。