[發(fā)明專利]一種平面衍射光柵的復(fù)制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810982790.6
• 申請(qǐng)日: 2018-08-27
• 公開（公告）號(hào): CN108828703B
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 歐仕明;歐旭良;石礦
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 宜興市晶科光學(xué)儀器有限公司
• 主分類號(hào): G02B5/18
• 分類號(hào): G02B5/18
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責(zé)任公司 32218
• 代理人: 李德濺

1.一種平面衍射光柵的復(fù)制方法，其特征在于：該方法步驟如下：

a、對(duì)光柵母版和復(fù)制基板進(jìn)行清潔處理，處理過的復(fù)制基板放入恒溫電熱干燥箱內(nèi)；

b、螺旋狀鎢絲以及用鉬片做成的鉬舟進(jìn)行清潔后分別固定在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)的兩組電極上，在鉬舟內(nèi)加入硅油，把經(jīng)過清潔處理的純度為99.99%的鋁絲掛在鎢絲上，把純度為99.99%的三氧化鋁和氟化鎂分別放入坩鍋；

c、將清潔處理好的光柵母版裝在鍍膜機(jī)真空室的旋轉(zhuǎn)支架上，然后放下鍍膜機(jī)鐘罩抽真空，當(dāng)真空度抽到1*10^-3pa時(shí)，即可在光柵母板上鍍硅油膜；

d、當(dāng)真空度達(dá)到1*10^-3pa時(shí)，在硅油膜上鍍?nèi)趸X厚膜；

e、當(dāng)真空度達(dá)到1*10^-3pa時(shí)，在三氧化二鋁厚膜上鍍氟化鎂膜；

f、當(dāng)真空度達(dá)到1*10^-3pa時(shí)，在氟化鎂膜上鍍鋁膜；

g、當(dāng)真空度達(dá)到1*10^-3pa時(shí)，在鋁膜上鍍?nèi)趸X薄膜；

h、將已鍍?nèi)趸X薄膜的光柵母版放入恒溫電熱干燥箱內(nèi)保持20min～25min后用于粘接；

i、將添加甲基咪唑的環(huán)氧樹脂膠的膠粘劑放入恒溫電熱干燥箱內(nèi)；

j、待步驟（a）中的復(fù)制基板、步驟（g）中的已鍍?nèi)趸X薄膜的光柵母版、步驟（i）中的膠粘劑溫度一致后，將光柵母板放在鋪著一張電容器紙的工裝上，將所述的膠粘劑滴在光柵母板后壓上復(fù)制基板，使膠液展開充滿光柵母板與復(fù)制基板之間的夾層，待膠膜厚度為80nm～120nm后用酒精棉擦去多余的膠粘劑后用工裝固定住靜止一段時(shí)間，然后放入恒溫電熱干燥箱內(nèi)，待膠粘劑固化后讓電熱干燥箱自然冷卻至室溫；

k、沿著刻線方向分離光柵母板和復(fù)制基板，獲得復(fù)制的平面衍射光柵；

所述的步驟（c）中的硅油膜厚度為6nm～9nm、步驟（d）中的三氧化二鋁厚膜厚度為12nm～14nm、步驟（e）中的氟化鎂膜厚度為15nm～20nm、步驟（f）中的鋁膜厚度為80nm～100nm、步驟（g）中的三氧化二鋁薄膜厚度為5nm～7nm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面衍射光柵的復(fù)制方法，其特征在于：所述步驟（a）中的光柵母版的清潔方法為：用吹氣球吹去光柵母版表面的灰塵并將光柵母版的四周邊緣修刮干凈；或者在上述清潔方法的基礎(chǔ)上，采用乙醚稀釋過的膠棉液石油醚混合液揭掉吹氣球無法吹去的灰塵，然后放入恒溫電熱干燥箱中保持15min～20min。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面衍射光柵的復(fù)制方法，其特征在于：膠棉液石油醚混合液采用體積比為1～1.25:1的膠棉液石油醚和乙醚勾兌而成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面衍射光柵的復(fù)制方法，其特征在于：所述步驟（a）中的復(fù)制基板的清潔方法為：把復(fù)制基板在超聲波清洗機(jī)中清洗干凈，然后再用無水乙醇稀釋過的硅烷偶聯(lián)劑混合液滴在絲綢布上并均勻地涂抹在復(fù)制基板的復(fù)制工作面上，處理過的復(fù)制基板放入電熱干燥箱內(nèi)恒溫。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的平面衍射光柵的復(fù)制方法，其特征在于：硅烷偶聯(lián)劑混合液采用質(zhì)量比為1～5:100的硅烷偶聯(lián)劑與無水乙醇勾兌而成。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面衍射光柵的復(fù)制方法，其特征在于：所述步驟（b）中的鉬舟內(nèi)加入的硅油重量為1mg～1.5mg。

7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4任一所述的平面衍射光柵的復(fù)制方法，其特征在于：所述恒溫電熱干燥箱內(nèi)的溫度為50℃～60℃。