[發(fā)明專利]一種元素檢測(cè)裝置、標(biāo)樣及元素檢測(cè)裝置校準(zhǔn)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810975879.X | 申請(qǐng)日: | 2018-08-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110857915A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-03-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 任曉艷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京鉑陽(yáng)頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/67 | 分類號(hào): | G01N21/67;G01N21/01;G01N1/28 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;黃燦 |
| 地址: | 100176 北京市大興區(qū)北京*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 元素 檢測(cè) 裝置 標(biāo)樣 校準(zhǔn) 方法 | ||
本發(fā)明提供一種元素檢測(cè)裝置、標(biāo)樣及元素檢測(cè)裝置校準(zhǔn)方法,所述元素檢測(cè)裝置的測(cè)試臺(tái)面上設(shè)置有檢測(cè)口,所述測(cè)試臺(tái)面上還設(shè)有距離標(biāo)識(shí),所述距離標(biāo)識(shí)用于標(biāo)識(shí)所述測(cè)試臺(tái)面上的目標(biāo)點(diǎn)距所述檢測(cè)口的中心的距離;所述標(biāo)樣的非測(cè)試面上設(shè)有角度標(biāo)識(shí),所述角度標(biāo)識(shí)用于標(biāo)識(shí)所述標(biāo)樣上的目標(biāo)點(diǎn)轉(zhuǎn)動(dòng)至所述標(biāo)樣上的基準(zhǔn)點(diǎn)的角度。這樣,通過(guò)在元素檢測(cè)裝置上設(shè)置距離標(biāo)識(shí),并在標(biāo)樣上設(shè)置角度標(biāo)識(shí),可以實(shí)現(xiàn)將標(biāo)樣上的目標(biāo)校準(zhǔn)點(diǎn)精確對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)口,從而不僅不易出現(xiàn)校準(zhǔn)測(cè)試失敗的現(xiàn)象,還能保證充分利用標(biāo)樣的測(cè)試面,避免造成標(biāo)樣的浪費(fèi);且由于元素檢測(cè)裝置得以精確校準(zhǔn),從而能夠有效提高使用該元素檢測(cè)裝置進(jìn)行元素檢測(cè)時(shí)的精確性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種元素檢測(cè)裝置、標(biāo)樣及元素檢測(cè)裝置校準(zhǔn)方法。
背景技術(shù)
輝光放電光譜技術(shù)(Glow Discharge-Optical Emission Spectrometer,簡(jiǎn)稱GD-OES)是一種基于輝光放電原理,對(duì)固體樣品成分(如噴涂、含金鍍層、半導(dǎo)體、有機(jī)涂層等)進(jìn)行檢測(cè)分析的技術(shù),其基本原理是:輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當(dāng)施加在放電兩極的電壓達(dá)到一定值,超過(guò)激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子,在電場(chǎng)的作用下,正電荷離子加速轟擊到樣品表面,產(chǎn)生陰極濺射,在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光,而不同元素所發(fā)射的光的波長(zhǎng)不同,從而可通過(guò)對(duì)光譜的分析,計(jì)算得出各元素的濃度。
由于GD-OES為破壞性的測(cè)試,標(biāo)樣上的每個(gè)位置在校準(zhǔn)測(cè)試一次后便會(huì)被正電荷離子刻蝕,因此,若再對(duì)該位置進(jìn)行測(cè)試,將導(dǎo)致測(cè)試失效,對(duì)于透明的標(biāo)樣,測(cè)試人員較容易通過(guò)肉眼判斷出標(biāo)樣上哪些點(diǎn)屬于已經(jīng)測(cè)試過(guò)的點(diǎn),因而也較容易避免測(cè)試失效的問(wèn)題。然而,對(duì)于非透明的標(biāo)樣(如金屬標(biāo)樣),則很難通過(guò)肉眼精準(zhǔn)定位標(biāo)樣上可供測(cè)試的位置,因此,也易出現(xiàn)因測(cè)試位置與之前已測(cè)試位置重疊而導(dǎo)致測(cè)試失效,例如如圖1中所示的無(wú)效測(cè)試點(diǎn)10。
這樣,由于現(xiàn)有校準(zhǔn)測(cè)試方式難以實(shí)現(xiàn)精確對(duì)準(zhǔn),從而不僅易導(dǎo)致校準(zhǔn)測(cè)試失敗,而且還會(huì)導(dǎo)致標(biāo)樣的測(cè)試面難以得到充分的利用,進(jìn)而造成標(biāo)樣的浪費(fèi),增加校準(zhǔn)測(cè)試成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例的目的在于提供一種元素檢測(cè)裝置、標(biāo)樣及元素檢測(cè)裝置校準(zhǔn)方法,解決了現(xiàn)有校準(zhǔn)測(cè)試方式難以實(shí)現(xiàn)精確對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明實(shí)施例提供一種元素檢測(cè)裝置,所述元素檢測(cè)裝置的測(cè)試臺(tái)面上設(shè)置有檢測(cè)口,所述測(cè)試臺(tái)面上還設(shè)有距離標(biāo)識(shí),所述距離標(biāo)識(shí)用于標(biāo)識(shí)所述測(cè)試臺(tái)面上的目標(biāo)點(diǎn)距所述檢測(cè)口的中心的距離。
可選的,所述距離標(biāo)識(shí)為沿所述檢測(cè)口的中心指向所述測(cè)試臺(tái)面的邊緣方向的標(biāo)識(shí)。
可選的,所述距離標(biāo)識(shí)采用刻度尺、弧線、直線、圓點(diǎn)或顏色進(jìn)行標(biāo)識(shí)。
可選的,所述檢測(cè)口的直徑為2.5mm,所述距離標(biāo)識(shí)上標(biāo)識(shí)有距所述檢測(cè)口的中心的距離為3jmm的目標(biāo)點(diǎn)所在位置,其中,j為大于或等于1的整數(shù)。
本發(fā)明實(shí)施例還提供一種標(biāo)樣,用于對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的元素檢測(cè)裝置進(jìn)行校準(zhǔn),所述標(biāo)樣的非測(cè)試面上設(shè)有角度標(biāo)識(shí),所述角度標(biāo)識(shí)用于標(biāo)識(shí)所述標(biāo)樣上的目標(biāo)點(diǎn)轉(zhuǎn)動(dòng)至所述標(biāo)樣上的基準(zhǔn)點(diǎn)的角度。
可選的,所述角度標(biāo)識(shí)分布在所述標(biāo)樣的非測(cè)試面的邊緣。
可選的,所述角度標(biāo)識(shí)采用刻度尺、直線、圓點(diǎn)或顏色進(jìn)行標(biāo)識(shí)。
可選的,所述標(biāo)樣的直徑為32mm,所述角度標(biāo)識(shí)上標(biāo)識(shí)有轉(zhuǎn)動(dòng)至所述基準(zhǔn)點(diǎn)的角度分別為15k°和18k°的目標(biāo)點(diǎn)所在位置,其中,k為大于或等于1的整數(shù),15k°<360°,18k°<360°。
可選的,所述標(biāo)樣的非測(cè)試面上還設(shè)有環(huán)線標(biāo)識(shí),所述環(huán)線標(biāo)識(shí)用于標(biāo)識(shí)所述標(biāo)樣上各校準(zhǔn)環(huán)線所在的位置,其中,相鄰校準(zhǔn)環(huán)線之間的間距大于所述元素檢測(cè)裝置的檢測(cè)口的直徑。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
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