[發明專利]金屬膜蝕刻液組合物及利用其的導電圖案形成方法

有效

• 申請號: 201810975544.8
• 申請日: 2018-08-24
• 公開（公告）號: CN109423647B
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 沈慶輔;金童基;南基龍
• 申請（專利權）人: 東友精細化工有限公司
• 主分類號: C23F1/16
• 分類號: C23F1/16;C23F1/30;H01L21/306
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 金成哲;宋海花

1.一種金屬膜蝕刻液組合物，其為包含含銀膜的金屬膜的蝕刻用組合物，所述金屬膜蝕刻液組合物包含蝕刻引發劑、無機酸、有機酸、有機鹽以及余量的水，但不包含磷酸，

所述無機酸不包含硫酸，

組合物總重量中，所述有機酸的含量為10～60重量％，

所述金屬膜蝕刻液組合物在常溫下，粘度為1～3.3cp。

2.根據權利要求1所述的金屬膜蝕刻液組合物，所述蝕刻引發劑包含選自由硫化過氧化物、過氧化氫、過硫酸鹽和過硝酸鹽組成的組中的至少一種。

3.根據權利要求2所述的金屬膜蝕刻液組合物，所述蝕刻引發劑包含過硫酸氫鉀制劑。

4.根據權利要求1所述的金屬膜蝕刻液組合物，所述無機酸包含硝酸。

5.根據權利要求1所述的金屬膜蝕刻液組合物，所述有機酸包含第一有機酸以及酸性比所述第一有機酸弱的第二有機酸。

6.根據權利要求5所述的金屬膜蝕刻液組合物，所述第一有機酸包含乙酸，

所述第二有機酸包含選自由亞氨基二乙酸(IDA)、乙二胺四乙酸(EDTA)、甘氨酸、水楊酸、檸檬酸、甲酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、丁酸、葡糖酸、乙醇酸和戊酸組成的組中的至少一種。

7.根據權利要求1所述的金屬膜蝕刻液組合物，所述有機鹽包含乙酸鹽或草酸鹽系化合物。

8.根據權利要求7所述的金屬膜蝕刻液組合物，所述有機鹽包含乙酸鈉和乙酸銨中的至少一種。

9.根據權利要求1所述的金屬膜蝕刻液組合物，組合物總重量中，包含：

所述蝕刻引發劑0.5～20重量％；

所述無機酸1～10重量％；

所述有機鹽0.1～5重量％；以及

余量的水。

10.一種導電圖案形成方法，其包括：

在基板上形成金屬膜的步驟；以及

使用權利要求1～9中任一項所述的金屬膜蝕刻液組合物將所述金屬膜蝕刻的步驟，其中，

形成所述金屬膜的步驟包括形成含銀膜的步驟。

11.根據權利要求10所述的導電圖案形成方法，形成所述金屬膜的步驟進一步包括形成至少一層透明導電性氧化膜的步驟。

12.根據權利要求11所述的導電圖案形成方法，所述透明導電性氧化膜包含選自由氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化銦錫鋅(ITZO)、氧化鎵鋅(GZO)和氧化銦鎵鋅(IGZO)組成的組中的至少一種。

13.根據權利要求10所述的導電圖案形成方法，其進一步包括使形成了所述金屬膜的所述基板傾斜的步驟。

14.根據權利要求10所述的導電圖案形成方法，其進一步包括：

在所述基板上形成薄膜晶體管的步驟；

形成與所述薄膜晶體管電連接的像素電極的步驟；以及

在所述像素電極上形成顯示層的步驟，

所述金屬膜形成在所述顯示層上。

15.根據權利要求14所述的導電圖案形成方法，所述導電圖案作為圖像顯示裝置的公共電極、反射電極或配線而提供。

16.根據權利要求10所述的導電圖案形成方法，所述導電圖案作為觸摸傳感器的跡線或感應電極而提供。