[發明專利]光刻設備以及光刻方法有效
| 申請號： | 201810973109.1 | 申請日： | 2018-08-24 |
| 公開（公告）號： | CN110858058B | 公開（公告）日： | 2022-01-25 |
| 發明（設計）人： | 張俊霖;張漢龍;傅中其;劉柏村;陳立銳;鄭博中 | 申請（專利權）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人： | 李玉鎖;章侃銥 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 設備 以及 方法 | ||
1.一種光刻設備，包括：
一激發腔；
一標的發射器，用以沿一第一方向朝向該激發腔內的一激發區域發射一標的；
一主激光發射器，用以發射一主脈沖激光至該激發區域內的該標的；以及
一激光真空裝置，用以大致沿該第一方向發射一真空激光至該激發腔內，以于該激發腔內形成一真空通道；
其中于該激光真空裝置發射該真空激光之后，該標的發射器發射該標的通過該真空通道進入該激發區域。
2.如權利要求1所述的光刻設備，其中該主激光發射器發射該主脈沖激光的頻率、該標的發射器發射該標的的頻率、以及該激光真空裝置發射該真空激光的頻率相同。
3.如權利要求1所述的光刻設備，還包括一預激光發射器，用以發射一預脈沖激光至該激發區域內的該標的，其中該標的發射器發射該標的之后，該預脈沖激光以及該主激光發射器按序發射該預脈沖激光以及該主脈沖激光。
4.如權利要求3所述的光刻設備，其中該預激光發射器發射該預脈沖激光的頻率與該激光真空裝置發射該真空激光的頻率相同。
5.如權利要求3所述的光刻設備，其中該真空激光的功率小于該預脈沖激光的功率以及該主脈沖激光的功率。
6.如權利要求1所述的光刻設備，其中該主激光發射器沿一第二方向發射該主脈沖激光，其中該第一方向不同于該第二方向。
7.一種光刻設備，包括：
一激光真空裝置，用以大致沿一第一方向發射一真空激光至于一激發腔內，以使該激發腔內形成一真空通道；以及
一標的發射器，用以沿該第一方向發射一標的，其中該標的通過該真空通道至一激發區域。
8.一種光刻方法，包括：
經由一激光真空裝置大致沿一第一方向發射一真空激光至一激發腔內，以使該激發腔內形成一真空通道；
于發射該真空激光后，經由一標的發射器沿該第一方向發射一標的，且該標的經由該真空通道至一激發區域；以及
經由一主激光發射器發射一主脈沖激光至該激發區域內的該標的。
9.如權利要求8所述的光刻方法，還包括于該主脈沖激光照射至該激發區域內的該標的之前，經由一預激光發射器發射一預脈沖激光至該激發區域內的該標的，其中該真空激光的功率小于該預脈沖激光的功率以及該主脈沖激光的功率。
10.如權利要求8所述的光刻方法，其中該真空激光離子化該激發腔內的氣體以形成該真空通道。
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