[發(fā)明專(zhuān)利]光刻設(shè)備以及光刻方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810973109.1
• 申請(qǐng)日: 2018-08-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110858058B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張俊霖;張漢龍;傅中其;劉柏村;陳立銳;鄭博中
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 李玉鎖;章侃銥

1.一種光刻設(shè)備，包括：

一激發(fā)腔；

一標(biāo)的發(fā)射器，用以沿一第一方向朝向該激發(fā)腔內(nèi)的一激發(fā)區(qū)域發(fā)射一標(biāo)的；

一主激光發(fā)射器，用以發(fā)射一主脈沖激光至該激發(fā)區(qū)域內(nèi)的該標(biāo)的；以及

一激光真空裝置，用以大致沿該第一方向發(fā)射一真空激光至該激發(fā)腔內(nèi)，以于該激發(fā)腔內(nèi)形成一真空通道；

其中于該激光真空裝置發(fā)射該真空激光之后，該標(biāo)的發(fā)射器發(fā)射該標(biāo)的通過(guò)該真空通道進(jìn)入該激發(fā)區(qū)域。

2.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中該主激光發(fā)射器發(fā)射該主脈沖激光的頻率、該標(biāo)的發(fā)射器發(fā)射該標(biāo)的的頻率、以及該激光真空裝置發(fā)射該真空激光的頻率相同。

3.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，還包括一預(yù)激光發(fā)射器，用以發(fā)射一預(yù)脈沖激光至該激發(fā)區(qū)域內(nèi)的該標(biāo)的，其中該標(biāo)的發(fā)射器發(fā)射該標(biāo)的之后，該預(yù)脈沖激光以及該主激光發(fā)射器按序發(fā)射該預(yù)脈沖激光以及該主脈沖激光。

4.如權(quán)利要求3所述的光刻設(shè)備，其中該預(yù)激光發(fā)射器發(fā)射該預(yù)脈沖激光的頻率與該激光真空裝置發(fā)射該真空激光的頻率相同。

5.如權(quán)利要求3所述的光刻設(shè)備，其中該真空激光的功率小于該預(yù)脈沖激光的功率以及該主脈沖激光的功率。

6.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中該主激光發(fā)射器沿一第二方向發(fā)射該主脈沖激光，其中該第一方向不同于該第二方向。

7.一種光刻設(shè)備，包括：

一激光真空裝置，用以大致沿一第一方向發(fā)射一真空激光至于一激發(fā)腔內(nèi)，以使該激發(fā)腔內(nèi)形成一真空通道；以及

一標(biāo)的發(fā)射器，用以沿該第一方向發(fā)射一標(biāo)的，其中該標(biāo)的通過(guò)該真空通道至一激發(fā)區(qū)域。

8.一種光刻方法，包括：

經(jīng)由一激光真空裝置大致沿一第一方向發(fā)射一真空激光至一激發(fā)腔內(nèi)，以使該激發(fā)腔內(nèi)形成一真空通道；

于發(fā)射該真空激光后，經(jīng)由一標(biāo)的發(fā)射器沿該第一方向發(fā)射一標(biāo)的，且該標(biāo)的經(jīng)由該真空通道至一激發(fā)區(qū)域；以及

經(jīng)由一主激光發(fā)射器發(fā)射一主脈沖激光至該激發(fā)區(qū)域內(nèi)的該標(biāo)的。

9.如權(quán)利要求8所述的光刻方法，還包括于該主脈沖激光照射至該激發(fā)區(qū)域內(nèi)的該標(biāo)的之前，經(jīng)由一預(yù)激光發(fā)射器發(fā)射一預(yù)脈沖激光至該激發(fā)區(qū)域內(nèi)的該標(biāo)的，其中該真空激光的功率小于該預(yù)脈沖激光的功率以及該主脈沖激光的功率。

10.如權(quán)利要求8所述的光刻方法，其中該真空激光離子化該激發(fā)腔內(nèi)的氣體以形成該真空通道。