[發(fā)明專利]光學(xué)元件高反射率測量系統(tǒng)和測量方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810972476.X | 申請(qǐng)日: | 2018-08-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109100330B | 公開(公告)日: | 2021-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邵建達(dá);劉世杰;王圣浩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N21/55 | 分類號(hào): | G01N21/55 |
| 代理公司: | 上海恒慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 張寧展 |
| 地址: | 201800 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 元件 反射率 測量 系統(tǒng) 測量方法 | ||
一種光學(xué)元件高反射率測量系統(tǒng)和測量方法,系統(tǒng)包括激光光源、光電探測器、示波器、信號(hào)發(fā)生器、第一光纖、光纖隔離器、第二光纖、第三光纖、第一光纖耦合器、第四光纖、樣品臺(tái)、第一姿態(tài)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、第二姿態(tài)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、第五光纖、第二光纖耦合器和第六光纖,與現(xiàn)有普遍采用的基于高反射鏡構(gòu)成的諧振腔高反射率測量技術(shù)相比,本發(fā)明的測量靈敏度提高1000多倍,測量系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、布局靈活、抗干擾能力強(qiáng)、測量簡便的特點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及高反射率的測量領(lǐng)域,特別是一種光學(xué)元件高反射率測量系統(tǒng)和測量方法。
背景技術(shù)
具有極高反射率(高于99.9%)的反射鏡在引力波觀測、激光陀螺儀、高功率激光器等領(lǐng)域中有非常廣泛的應(yīng)用,在這些系統(tǒng)中,反射元件的反射率直接決定到了光學(xué)系統(tǒng)的一系列重要參數(shù),因此高反射率的準(zhǔn)確測量具有重要的意義[參見文獻(xiàn)[1]A.Abramovici,W.E.Althouse,R.W.P.Drever,Y.Gursel,S.Kawamura,F.J.Raab,et al.,Ligo-the Laser-Interferometer-Gravitational-Wave-Observatory,Science,vol.256,pp.325-333,1992.[2]W.W.Chow,J.Geabanacloche,L.M.Pedrotti,V.E.Sanders,W.Schleich,and M.O.Scully,The Ring Laser Gyro,Reviews of Modern Physics,vol.57,pp.61-104,1985.]。
目前國際上普遍采用的測量高反射率的光路結(jié)構(gòu)如圖1所示,主要包括光源1、光闌2、前端腔鏡3、后端腔鏡4、光電探測器5、示波器6和信號(hào)發(fā)生器7[參見文獻(xiàn):[3]Y.Gongand B.C.Li,High-reflectivity measurement with a broadband diode laser basedcavity ring-down technique,Applied Physics B-Lasers and Optics,vol.88,pp.477-482,2007.[4]H.Y.Zu,B.C.Li,Y.L.Han,and L.F.Gao,Combined cavity ring-down and spectrophotometry for measuring reflectance of optical lasercomponents,Optics Express,vol.21,pp.26735-26741,2013.[5]B.C.Li,H.Cui,Y.L.Han,L.F.Gao,C.Guo,C.M.Gao,et al.,Simultaneous determination of opticalloss,residual reflectance and transmittance of highly anti-reflectivecoatings with cavity ring down technique,Optics Express,vol.22,pp.29135-29142,2014.[6]H.Cui,B.C.Li,Y.L.Han,J.Wang,C.M.Gao,and Y.F.Wang,Extinctionmeasurement with open-path cavity ring-down technique of variable cavitylength,Optics Express,vol.24,pp.13343-13350,2016.]。在測量過程中,基于如圖1所示諧振腔,首先利用示波器測量諧振腔輸出電壓的指數(shù)式衰蕩曲線,然后擬合得到衰蕩時(shí)間因子τ0,其表達(dá)式為:
然后如圖2所示,在光路中加入待測樣品,再次利用示波器測量諧振腔輸出電壓的指數(shù)式衰蕩曲線,然后擬合得到衰蕩時(shí)間因子τ1,其表達(dá)式為:
根據(jù)公式(1)和(2),即可計(jì)算出反射元件的反射率為:
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





