[發明專利]光學元件高反射率測量系統和測量方法有效
| 申請號: | 201810972476.X | 申請日: | 2018-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN109100330B | 公開(公告)日: | 2021-06-01 |
| 發明(設計)人: | 邵建達;劉世杰;王圣浩 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號: | G01N21/55 | 分類號: | G01N21/55 |
| 代理公司: | 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 張寧展 |
| 地址: | 201800 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 元件 反射率 測量 系統 測量方法 | ||
1.一種光學元件高反射率的測量系統,包括激光光源(1)、光電探測器(5)、示波器(6)、信號發生器(7),其特征在于還有第一光纖(9)、光纖隔離器(10)、第二光纖(11)、第三光纖(12)、第一光纖耦合器(13)、第四光纖(14)、樣品臺(15)、第一姿態調節機構(16)、第二姿態調節機構(17)、第五光纖(18)、第二光纖耦合器(19)和第六光纖(20),所述的樣品臺(15)供待測的高反射光學元件(8)設置,所述激光光源(1)的輸出端通過所述第一光纖(9)與所述光纖隔離器(10)的輸入端相連接,所述光纖隔離器(10)的輸出端通過所述第二光纖(11)與所述第一光纖耦合器(13)的第一輸入端相連,該第一光纖耦合器(13)輸出的激光經過所述第四光纖(14)的傳輸后照射在所述的待測的高反射光學元件(8)上,所述的高反射光學元件(8)反射的激光經過所述第五光纖(18)的傳輸后進入所述第二光纖耦合器(19)的輸入端,所述第二光纖耦合器(19)的第一輸出端與所述第一光纖耦合器(13)的第二輸入端相連接,所述的第二光纖耦合器(19)的第二輸出端與所述的光電探測器(5)的輸入端相連,所述的光電探測器(5)的輸出端與所述的示波器(6)的第二輸入端相連,所述的示波器(6)的第一輸入端與所述的信號發生器(7)的第二輸出端相連,所述的信號發生器(7)的第一輸出端與所述的激光光源(1)的控制端相連,所述的第一光纖耦合器(13)、第四光纖(14)、第五光纖(18)、第二光纖耦合器(19)和第三光纖(12)構成光纖環形諧振腔。
2.根據權利要求1所述的光學元件高反射率的測量系統,其特征在于所述的第三光纖(12)的長度大于1000米。
3.利用權利要求1所述的光學元件高反射率測量系統對光學元件高反射率的測量方法,其特征在于該方法包括以下步驟:
①在樣品臺(15)上放置參考樣品,參考樣品的反射率為Rref,調節第一姿態調節機構(16)和第二姿態調節機構(17),使激光經過樣品的反射后在環形諧振腔中來回振蕩,利用示波器(6)測量諧振腔輸出電壓的指數式衰蕩曲線,然后擬合得到衰蕩時間因子τ0;
②在樣品臺(15)上放置待測的高反射光學元件(8),再次利用示波器(6)測量諧振腔輸出電壓的指數式衰蕩曲線,擬合得到衰蕩時間因子τ1;
③利用如下公式計算出待測的高反射光學元件(8)的反射率:
式中,L為光纖環形諧振腔的長度,c為光速。
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