[發明專利]陣列基板的制作方法、陣列基板以及顯示裝置

有效

• 申請號: 201810966838.4
• 申請日: 2018-08-23
• 公開（公告）號: CN109166823B
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 劉軍;閆梁臣;周斌;方金鋼;李偉;宋威;胡迎賓
• 申請（專利權）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 袁禮君;闞梓瑄

本發明涉及顯示器技術領域，提出一種陣列基板的制作方法，該方法包括：形成一初始柵極，其中，所述初始柵極的邊沿具有坡面；對所述初始柵極邊沿的坡面以及所述坡面向內延伸的部分平面進行預設厚底的刻蝕，從而減小所述初始柵極坡面的坡角。本公開通過對所述初始柵極邊沿的坡面以及所述坡面向內延伸的部分平面進行預設厚底刻蝕，減小了初始柵極邊沿坡面的坡角，從而減小了初始柵極與層間絕緣層之間出現斷裂或空隙的概率。

技術領域

本公開涉及顯示器技術領域，尤其涉及一種陣列基板的制作方法、陣列基板以及顯示裝置。

背景技術

近來大尺寸OLED因其高對比度、自發光漸成電視新的增長熱點，其中大尺寸OLED中頂柵相比底柵具有高開態電流(Ion)、更高開口率和更好的穩定性而受到關注。

頂柵設計中，柵極與漏極、源極位于溝道層的同一側面，柵極與漏極、源極之間通過層間絕緣層分隔。

然而，相關技術中，柵極通常通過濕刻工藝形成，濕刻過程中，柵極的上部分在濕刻藥液中被刻蝕的時間較長，因而，通過濕刻工藝成型的柵極邊沿具有坡面結構。當該坡面的坡角較大，柵極與層間絕緣層之間容易出現斷裂或者空隙，從而導致柵極與源極或者漏極連接，影響正常顯示。

需要說明的是，在上述背景技術部分公開的信息僅用于加強對本公開的背景的理解，因此可以包括不構成對本領域普通技術人員已知的現有技術的信息。

發明內容

本公開的目的在于提供一種陣列基板的制作方法、陣列基板以及顯示裝置，進而至少在一定程度上克服相關技術中，由于柵極邊沿坡面的坡角較大，柵極與層間絕緣層之間容易出現斷裂或者空隙，從而導致柵極與源極或者漏極連接，造成顯示不良。

根據本發明的一個方面，提供一種陣列基板的制作方法，該方法包括制作頂柵TFT中柵極的過程，所述柵極的制作過程包括：首次在具有光刻膠的金屬層上使用刻蝕液進行濕法刻蝕，形成初始柵極；

該方法還包括：

對所述初始柵極進行刻蝕，使得所述初始柵極邊沿具有從頂部到底部延伸的坡度。

在本發明的一種示例性實施例中，所述首次在具有光刻膠的金屬層上使用刻蝕液進行濕法刻蝕，形成初始柵極，包括：

在柵極絕緣層上依次形成金屬層和光刻膠層；

利用半色調掩膜版對所述光刻膠層進行曝光顯影，保留待形成柵極對應區域的光刻膠層，所述半色調掩膜版使得所述待形成柵極對應區域的光刻膠層靠近所述待形成柵極的邊沿形成不漏出所述待形成柵極的凹槽；

采用刻蝕液刻蝕所述金屬層，保留光刻膠下方的所述待形成柵極作為初始柵極。

在本發明的一種示例性實施例中，所述對所述初始柵極進行刻蝕，使得所述初始柵極邊沿具有從頂部到底部延伸的坡度包括：

對所述光刻膠層進行烘烤，使得所述凹槽的側壁融化覆蓋所述初始柵極的側壁，且不露出所述初始柵極的頂部；

對所述初始柵極頂部的光刻膠進行曝光顯影刻蝕，刻蝕掉所述凹槽對應區域的光刻膠，從而露出所述初始柵極位于所述凹槽下方的側壁以及距離側壁預設距離的頂部；

對所述初始柵極進行第二次濕法刻蝕，刻蝕露出的所述初始柵極頂部以及側壁的部分金屬，使得所述初始柵極兩側具有從頂部到底部延伸的坡度。

在本發明的一種示例性實施例中，所述金屬層由銅組成，且厚度為0.4-0.5um。

在本發明的一種示例性實施例中，所述光刻膠層由正性光刻膠組成。

在本發明的一種示例性實施例中，對所述初始柵極進行刻蝕后，所述初始柵極邊沿從頂部到底部延伸的坡角為30度-40度。