[發明專利]清洗光罩的裝置及其方法

在審

• 申請號: 201810956074.0
• 申請日: 2018-08-21
• 公開（公告）號: CN108873603A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 王歡
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司;重慶惠科金渝光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/82
• 分類號: G03F1/82
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228
• 代理人: 亓贏

本申請提供一種清洗光罩的裝置及其方法，所述清洗光罩的裝置，包括：一機體；一輸送裝置，其包括一可承載光罩之承載單元，可將光罩移入所述機體內；一清洗單元，設置于所述機體的固定框架中,所述清洗單元包括一可對應光罩伸出或縮回之清洗頭；以及一加熱單元，設置于所述機體的底部,用以將清洗液加熱至適當溫度。

技術領域

本申請涉及顯示領域，特別是涉及一種清洗光罩的裝置及其方法。

背景技術

在顯示技術領域，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)與有機發光二極管顯示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板顯示器己經逐步取代陰極射線管(Cathode Ray Tube，CRT)顯示器，廣泛的應用于液晶電視、手機、個人數字助理、數字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等。

玻璃光罩，也稱光罩、光掩模版、MASK、光學玻璃，常見的玻璃光罩有鉻版、干版等，是指用高品質石英玻璃或蘇打玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，把已設計好的電路圖形通過激光設備精密定位曝光在感光膠上，被曝光的區域會被顯影出來，經過蝕刻、脫膜后在金屬鉻上形成電路圖形的產品。

而在平板顯示器的制造過程中，會多次利用構圖工藝。具體為，在涂有光刻膠的基板上方放置光罩(Mask)，然后利用曝光機對基板進行曝光，具體的，曝光機通過開啟超高壓水銀燈發出紫外線(Ultraviolet，UV)光，將光罩上的圖像信息轉移到涂有光刻膠的基板表面上，基于光罩的圖案，光刻膠會有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用顯影液對光刻膠進行顯影，即可去除光刻膠被曝光的部分，保留光刻膠未被曝光的部分(正性光刻膠)，或者去除光刻膠未被曝光的部分，保留光刻膠被曝光的部分(負性光刻膠)，從而使光刻膠形成所需的圖形。

在構圖工藝的制作過程中，當UV光照射到基板上時，會造成基板上的起始劑斷鍵形成小分子，小分子與溶劑相溶性較好，會溶解在溶劑中，并隨溶劑揮發到空氣中，進而附著在光罩上，造成光罩霧化。光罩霧化后，光罩上圖案(Pattern)會產生變形，最終通過光罩形成的產品變形，影響產品品質。另外機臺內環境問題也會導致光罩上形成有雜質(particle)，同樣會影響產品品質。

光罩臟污后就需要對光罩進行清洗，目前通常采用的清洗方法為:將光罩從曝光機上拆下，再搬運到光罩清洗機上進行清洗，洗完之后再安裝到曝光機上。

關于光罩的清洗，近年來更發展出一種利用氣體或流體所產生的震波來將粒子從光罩表面去除，這種清洗技術的設備成本極高，同時因其系令微粒受震波作用而揚起，但其真空設備不見得能有效的將微粒吸走，而造成微粒進一步污染其他設備與材料。

而目前的清洗方法主要是以流體狀的清洗液配合驅動光罩旋轉而成，其是利用清洗過程中流體的牽引力造成微粒旋轉，是微粒被移除的主要物理機制，且當氫氧化鉀(KOH)混液在坦克加熱器(Tank Heater)若遇到漏液，藥液滲漏到加熱器連接線引起線路短路(如圖1所示)，燒壞加熱器導致兩支加熱器無法加熱，導致光罩在清洗過程，清潔能力下降。

雙加熱器(Heater)線路為一個串聯回路(如圖2所示)：第一，如遇線路短路等異常，兩個加熱器(Heater)將無法工作，加熱停止；第二，單一個加熱器(Heater)損壞，線路將斷路，整組加熱器(Heater)不工作，加熱停止，影響附屬設備工作效率,且雙加熱器(Heater)連接線無防腐蝕性的裝置，氫氧化鉀(KOH)混液具有腐蝕性，線路容易被混液腐蝕后漏電、斷路。

因此，本申請的主要目的在于提供一種清洗光罩的裝置及其方法，以更優化上述所提之問題。

發明內容