[發明專利]清洗光罩的裝置及其方法在審
| 申請號： | 201810956074.0 | 申請日： | 2018-08-21 |
| 公開（公告）號： | CN108873603A | 公開（公告）日： | 2018-11-23 |
| 發明（設計）人： | 王歡 | 申請（專利權）人： | 惠科股份有限公司;重慶惠科金渝光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/82 | 分類號： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228 | 代理人： | 亓贏 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市寶安區石巖街道水田村民*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光罩 清洗 清洗單元 承載單元 固定框架 加熱單元 輸送裝置 縮回 清洗頭 清洗液 一機體 移入 加熱 承載 伸出 申請 | ||
1.一種清洗光罩的裝置，其特征在于，包括：
一機體；
一輸送裝置，其包括一可承載光罩之承載單元，可將光罩移入所述機體內；
一清洗單元，設置于所述機體的固定框架中,所述清洗單元包括一可對應光罩伸出或縮回之清洗頭；以及
一加熱單元，設置于所述機體的底部,用以將清洗液加熱至適當溫度。
2.如權利要求1所述清洗光罩的裝置，其特征在于，所述加熱單元更包括一第一加熱器以及一第二加熱器,分別用以加熱清洗液。
3.如權利要求2所述清洗光罩的裝置，其特征在于，所述第一加熱器及所述第二加熱器以并聯電路方式連接。
4.如權利要求1所述清洗光罩的裝置，其特征在于，所述清洗單元進一步于清洗頭對應光罩出料一側設有一烘干單元，用于當光罩經擦拭后，可利用壓縮干燥空氣或氮氣立即烘干清洗后的光罩。
5.如權利要求4所述清洗光罩的裝置，其特征在于，所述烘干單元具有一加熱組件，使其可提供熱壓縮干燥空氣或熱氮氣，進一步增進其烘干效果。
6.一種清洗光罩的裝置，其特征在于，包括：
一機體；
一輸送裝置，其包括一可承載光罩之承載單元，可將光罩移入所述機體內；
一清洗單元，設置于所述機體的固定框架中,所述清洗單元包括一可對應光罩伸出或縮回之清洗頭；以及
一加熱單元，設置于所述機體的底部,用以將清洗液加熱至適當溫度；
其中,所述加熱單元更包括一第一加熱器以及一第二加熱器；所述第一加熱器及所述第二加熱器以并聯電路方式連接；所述清洗單元進一步于清洗頭對應光罩進料一側設有一去除單元，可于擦拭光罩前預先去除光罩上的微粒。
7.一種清洗光罩的方法，其特征在于，包括：
提供一機體；
提供一輸送裝置，其具有一可承載光罩之承載單元，可將光罩移入機體內；
提供一清洗單元，設置于所述機體的固定框架中,所述清洗單元具有一可對應光罩伸出或縮回之清洗頭；以及
提供一加熱單元，設置于所述機體的底部,用以將清洗液加熱至適當溫度。
8.如權利要求7所述清洗光罩的方法，其特征在于，所述加熱單元更包括一第一加熱器以及一第二加熱器,分別用以加熱清洗液。
9.如權利要求8所述清洗光罩的方法，其特征在于，所述第一加熱器及所述第二加熱器以并聯電路方式連接。
10.如權利要求7所述清洗光罩的方法，其特征在于，所述清洗單元進一步于清洗頭對應光罩出料一側設有一烘干單元，用于當光罩經擦拭后，可利用壓縮干燥空氣或氮氣立即烘干清洗后的光罩。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
