[發明專利]一種版圖互連線缺陷檢查系統及其檢查方法

有效

• 申請號: 201810947706.7
• 申請日: 2018-08-20
• 公開（公告）號: CN110888087B
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 謝育樺;王靜;殷惠萍;王聰;張永光;張亮;彭新朝;徐以軍;馮玉明;黃穗彪
• 申請（專利權）人: 珠海零邊界集成電路有限公司;珠海格力電器股份有限公司
• 主分類號: G06F30/398
• 分類號: G06F30/398
• 代理公司: 天津三元專利商標代理有限責任公司 12203
• 代理人: 胡婉明

1.一種版圖互連線缺陷檢查方法，所述版圖為多層金屬互連結構，相鄰兩層金屬之間通過通孔堆疊連接，其特征在于：

從水平和垂直兩個方向來查找金屬連接瓶頸的區域，其中水平方向為同層金屬Metal所在平面的方向，垂直方向為通孔堆疊Via所在平面的方向；

根據檢查目標確定網絡節點；

根據網絡節點確定各層金屬間、各通孔堆疊間、金屬層和通孔堆疊之間的連通節點，Metal n-1通過Via n-1連通Metal n，其中n為金屬層次，網絡節點通過這種方式傳遞到連通的各個金屬層，根據版圖中檢查目標網絡節點，抓取該網絡節點的所有金屬層次：Metal1，…，Metal n；由于有效通孔的區域位于上下層金屬交疊的區域內，故通孔堆疊的瓶頸區域位于上下層金屬交疊區域之內，將版圖中所有Metal1圖層和Metal2圖層相與，定義Metal1的交疊圖層為Metal1_overlap，Metal2的交疊圖層為Metal2_overlap，定義位于Metal1_overlap內的Via1圖層為Via1_overlap，位于Metal2_overlap內的Via2圖層為Via2_overlap，定義新圖層之間的連通性，Meta ln-1_overlap通過Vian-1_overlap與Meta ln_overlap連通；

依次選取金屬層按第一預設閾值A進行縮小后放大得到理論金屬層，比較選取的金屬層與對應理論金屬層得到該金屬層缺陷瓶頸，首先從中選取Metal1層次，過濾掉連接MOS管Drain或Source端的冗余圖形，得到中間圖形Metal1_tmp1，對中間圖形Metal1_tmp1按設定的第一預設閾值A進行先縮小后放大操作，此時，Metal1_tmp1中線寬閾值A的區域即瓶頸區域就會消失，得到圖形Metal1_tmp2，將Metal1_tmp1與Metal1_tmp2兩個中間圖形做非運算，得到Metal1中的瓶頸區域；接著選取Metal2層次，由于Metal2不存在連接MOS管的冗余圖形，故直接選取Metal2按設定的第一預設閾值A進行先縮小后放大操作，得到中間圖形Metal2_tmp，將Metal2與Metal2_tmp做非運算，即可得到Metal2中的瓶頸區域，以此類推，得到更高的金屬層次Metal3，…，Metal n的瓶頸區域；

依次選取通孔堆疊進行運算得到通孔堆疊的缺陷瓶頸，選取同一網絡節點的Via1_overlap和Via2_overlap的面積差異與第二預設閾值B 進行比較，對于total Via2_overlap area/totalVia1_overlap area第二預設閾值B的，認定為存在Via2瓶頸區域，得到Via2中的瓶頸區域Via2_overlap區域，對于total Via1_overlap area/total Via2_overlap area第二預設閾值B的，認定為存在Via1瓶頸區域，得到Via1中的瓶頸區域Via1_overlap區域，以此類推，得到交疊區域內Via3，…，Vian的瓶頸區域Via3_overlap，…，Vian_overlap。

2.根據權利要求1所述的版圖互連線缺陷檢查方法，其特征在于：所述的檢查目標包括電源線、地線、射頻線。

3.根據權利要求1所述的版圖互連線缺陷檢查方法，其特征在于：第一預設閾值A 根據版圖線寬和/或根據瓶頸線寬設定。

4.根據權利要求3所述的版圖互連線缺陷檢查方法，其特征在于：對于不同的連通節點可設定不同的第一預設閾值A 。

5.根據權利要求1所述的版圖互連線缺陷檢查方法，其特征在于：第二預設閾值B 根據通孔堆疊瓶頸比例設定。