[發明專利]PERC電池背面鈍化工藝

在審

• 申請號: 201810946944.6
• 申請日: 2018-08-20
• 公開（公告）號: CN109192813A
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發明（設計）人: 程平;朱露;張凱勝;姚偉忠;孫鐵囤
• 申請（專利權）人: 常州億晶光電科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18
• 代理公司: 常州市英諾創信專利代理事務所(普通合伙) 32258
• 代理人: 鄭云

1.一種PERC電池背面鈍化工藝，其特征在于：包括以下步驟：

a、第一層鍍氧化硅層：將進行洗磷后拋光的硅片放入石墨舟進入管式PECVD鍍膜設備，爐內溫度穩定在450±50℃，向爐內通入SiH4與N2O，并開放射頻功率，完成硅片表面第一層鍍膜；

b、第二層鍍氧化鋁層：將硅片放入原子沉積腔，通入三甲基鋁和水蒸汽，在溫度200±30℃，進行原子沉積，完成硅片表面第二層鍍膜；

c、退火熱處理工藝：將硅片放入600±50℃爐管設備中，對硅片進行熱處理退火，工藝時間為600±50s；

d、第三層鍍氮化硅層：爐內溫度穩定在420±50℃，向爐內通入SiH4與NH3，并開放射頻功率，完成鍍膜；

e、第四層鍍氮化硅層：爐內溫度在420±50℃向爐內通入SiN4與NH3，并開放射頻功率，完成鍍膜；

f、第五層鍍氮化硅層：爐內溫度在420±50℃向爐內通入SiN4與NH3，并開放射頻功率，完成鍍膜；

g、第六層鍍氮化硅層：爐內溫度在420±50℃向爐內通入SiN4與NH3，并開放射頻功率，完成鍍膜；

h、抽真空：鍍膜完成后，對爐內進行抽真空，抽真空的時間控制在1min內，使爐內的壓強為零；

i、出爐：打開爐門，承載石墨舟托以600±5mm/min的速度從爐內退出，在出爐過程中向爐內通入氮氣，氮氣流量為10000±1000sccm。

2.如權利要求1所述的PERC電池背面鈍化工藝，其特征在于：步驟a中，SiH4流量為1000±300sccm，N2O流量為3000±500sccm，射頻功率為8.5±1KW，射頻開放次數60±10，壓強維持在1600±300mtorr，鍍膜時間為100±50s。

3.如權利要求1所述的PERC電池背面鈍化工藝，其特征在于：步驟b中，三甲基鋁流量為400±50sccm，H2O流量為300±50sccm，壓強維持在10±3mbar，鍍膜時間為300±50s。

4.如權利要求1所述的PERC電池背面鈍化工藝，其特征在于：步驟d中，SiH4流量為1000±300sccm，NH3流量為1000±500sccm，射頻功率為8.5±1KW，射頻開放次數60±10，壓強維持在1600±300mtorr，鍍膜時間為100±50s。

5.如權利要求1所述的PERC電池背面鈍化工藝，其特征在于：步驟e中，SiH4流量為1000±50sccm，NH3流量為3000±200sccm，射頻開放次數60±10，壓強維持在1600±400mtorr，鍍膜時間為300±100s。

6.如權利要求1所述的PERC電池背面鈍化工藝，其特征在于：步驟f中，SiH4流量為1000±50sccm，NH3流量為5000±200sccm，射頻開放次數60±10，壓強維持在1600±400mtorr，鍍膜時間為500±100s。

7.如權利要求1所述的PERC電池背面鈍化工藝，其特征在于：步驟g中，SiH4流量為1000±50sccm，NH3流量為7000±200sccm，射頻開放次數60±10，壓強維持在1600±400mtorr，鍍膜時間為700±100s。