[發(fā)明專利]一種掩膜制作方法及系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810941403.4 | 申請日： | 2018-08-17 |
| 公開（公告）號： | CN109087319B | 公開（公告）日： | 2021-07-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 張曉菲;柯扶軍;潘清云;程科;覃衛(wèi)寧 | 申請（專利權）人： | 北京華航無線電測量研究所 |
| 主分類號： | G06T7/12 | 分類號： | G06T7/12;G01S7/41 |
| 代理公司： | 北京天達知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11386 | 代理人： | 龔頤雯;龐許倩 |
| 地址： | 100013 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 制作方法 系統(tǒng) | ||
1.一種掩膜制作方法，其特征在于，包括如下步驟：
獲取被測區(qū)域?qū)走_發(fā)射的射頻信號進行反射的回波數(shù)據(jù)；所述被測區(qū)域主要為待測水域；
將所述回波數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為圖像信息進行顯示；
對所述圖像信息中不感興趣的目標進行掩膜處理；
其中，對圖像信息中不感興趣的目標進行掩膜處理進一步包括如下子步驟：
從所述圖像信息中選擇不感興趣的目標；
用封閉圖形對所述不感興趣的目標進行封閉處理；
遍歷所述圖像信息中的所有像素點，將位于封閉圖形內(nèi)和封閉圖形外的像素置位不同的數(shù)值；
從圖像信息中選擇不感興趣的目標進一步包括如下子步驟：
從所述圖像信息中確定海岸線，將海岸線以外的目標確定為不感興趣的目標；
將海岸線以內(nèi)的最大徑向尺寸小于第一預設值的目標確定為不感興趣的目標，以及，將海岸線以內(nèi)的最大徑向尺寸大于第二預設值的目標確定為不感興趣的目標，所述徑向尺寸為距離向尺寸。
2.如權利要求1所述的掩膜制作方法，其特征在于，將回波數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為圖像信息進行顯示進一步包括：
根據(jù)預先標定好的修正量對所述回波數(shù)據(jù)進行校正；
將校正后的回波數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為圖像信息進行顯示。
3.一種掩膜制作系統(tǒng)，其特征在于，包括：
獲取模塊，用于獲取被測區(qū)域?qū)走_發(fā)射的射頻信號反射的回波數(shù)據(jù)；所述被測區(qū)域主要為待測水域；
顯示模塊，用于將所述回波數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為圖像信息進行顯示；
處理模塊，用于對所述圖像信息中不感興趣的目標進行掩膜處理；
其中，所述處理模塊還包括：
選擇子模塊，用于從所述圖像信息中選擇不感興趣的目標；
封閉子模塊，用于用封閉圖形對所述不感興趣的目標進行封閉處理；
制作子模塊，用于遍歷所述圖像信息中的所有像素點，將位于封閉圖形內(nèi)和封閉圖形外的像素置位不同的數(shù)值；
所述選擇子模塊通過執(zhí)行下述步驟從圖像信息中選擇不感興趣的目標：
從所述圖像信息中確定海岸線，將海岸線以外的目標確定為不感興趣的目標；
將海岸線以內(nèi)的最大徑向尺寸小于第一預設值的目標確定為不感興趣的目標，以及，將海岸線以內(nèi)的最大徑向尺寸大于第二預設值的目標確定為不感興趣的目標，所述徑向尺寸為距離向尺寸。
4.如權利要求3所述的掩膜制作系統(tǒng)，其特征在于，所述顯示模塊進一步包括：
校正子模塊，用于根據(jù)預先標定好的修正量對所述回波數(shù)據(jù)進行校正；
顯示子模塊，用于將校正后的回波數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為圖像信息進行顯示。
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