[發(fā)明專利]一種新的多晶鍍膜異常片返工的方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810921899.9
• 申請(qǐng)日: 2018-08-11
• 公開（公告）號(hào): CN109216503A
• 公開（公告）日: 2019-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊飛飛;焦朋府;趙彩霞;孟漢堃;張雁東;崔龍輝;張波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山西潞安太陽能科技有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): H01L31/18
• 分類號(hào): H01L31/18
• 代理公司: 太原市科瑞達(dá)專利代理有限公司 14101
• 代理人: 李富元

1.一種新的多晶鍍膜異常片返工的方法，其特征在于：當(dāng)硅片的膜厚度大于等于65納米小于等于85納米時(shí)，屬于正常厚度膜硅片，不需要進(jìn)行PSG去膜，當(dāng)膜厚度小于65納米或者大于等于85納米時(shí)，屬于異常厚度膜硅片即異常片，對(duì)異常片返工時(shí)，按照PSG去膜→鍍膜→絲印步驟進(jìn)行，PSG去膜為將異常片放在體積比為8%的氫氟酸中酸洗，使膜厚度變?yōu)?-10納米，然后進(jìn)行水洗、烘干。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新的多晶鍍膜異常片返工的方法，其特征在于：由于鍍膜后膜越后顏色越淺，因此可以通過顏色來確定膜的厚度，首先對(duì)鍍膜后不同厚度的膜進(jìn)行CCD相機(jī)拍照，將相片顏色與對(duì)應(yīng)膜厚度輸入數(shù)據(jù)庫中，然后通過CCD相機(jī)對(duì)硅片進(jìn)行拍照，將獲得的相片與數(shù)據(jù)庫中相片進(jìn)行對(duì)比檢測，得出膜的厚度。