[發明專利]成像畸變校正方法、裝置、計算機設備及存儲介質有效
| 申請號: | 201810921535.0 | 申請日: | 2018-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN109345467B | 公開(公告)日: | 2021-06-04 |
| 發明(設計)人: | 李健;易業昌;楊月元 | 申請(專利權)人: | 深圳市麥極客圖像技術有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/00 | 分類號: | G06T5/00;G06K9/00 |
| 代理公司: | 深圳眾鼎專利商標代理事務所(普通合伙) 44325 | 代理人: | 周燕君 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成像 畸變 校正 方法 裝置 計算機 設備 存儲 介質 | ||
1.一種成像畸變校正方法,其特征在于,包括:
根據廣角鏡頭的視場角、所述廣角鏡頭的畸變率和所述廣角鏡頭所成的圖像畸變之后的實際像高,計算所述圖像零畸變時的理論像高;
根據所述理論像高和所述視場角,生成用于對所述廣角鏡頭所成的所述圖像的畸變進行校正的第一校正函數,所述第一校正函數為:y=Ax^5+Bx^4+Cx^3+Dx^2+Ex+F,其中,所述x為理論像高,所述y為視場角,所述A為所述理論像高的第一系數,所述B為所述理論像高的第二系數,所述C為所述理論像高的第三系數,所述D為所述理論像高的第四系數,所述E為所述理論像高的第五系數,所述F為所述理論像高的第六系數;
補償所述第一校正函數,獲取用于對廣角鏡頭光學模組所成的圖像的畸變進行校正的第二校正函數,包括:
對所述第一校正函數的多項式系數進行調整,以補償所述第一校正函數,將補償之后的所述第一校正函數標記為調整函數;
通過所述調整函數校正所述廣角鏡頭光學模組所成的圖像;
檢測通過所述調整函數校正后的所述圖像的畸變率是否等于零;
在所述畸變率等于零時,確認當前調整函數為第二校正函數;
所述廣角鏡頭光學模組包括所述廣角鏡頭;
獲取所述廣角鏡頭光學模組所成的所述圖像,通過所述第二校正函數對所述廣角鏡頭光學模組所成的所述圖像進行校正。
2.如權利要求1所述的成像畸變校正方法,其特征在于,所述檢測通過所述調整函數校正后的所述圖像的畸變率是否等于零之后,還包括:
在所述畸變率不等于零時,記錄所述調整函數對應的所述圖像的畸變率。
3.如權利要求2所述的成像畸變校正方法,其特征在于,所述在所述畸變率不等于零時,記錄所述調整函數對應的所述圖像的畸變率之后,還包括:
在所有所述畸變率均不等于零時,獲取記錄的與零之間的差值的絕對值最小的所述畸變率,并將與所述畸變率對應的所述調整函數確認為第二校正函數。
4.如權利要求1所述的成像畸變校正方法,其特征在于,所述通過所述調整函數校正所述廣角鏡頭光學模組所成的圖像,包括:
在所述廣角鏡頭光學模組的所述廣角鏡頭的景深范圍內,生成電子柵格圖;
獲取所述廣角鏡頭光學模組采集所述電子柵格圖生成的圖像,并根據各所述調整函數,校正所述圖像。
5.一種成像畸變校正裝置,其特征在于,包括:
計算模塊,用于根據廣角鏡頭的視場角、所述廣角鏡頭的畸變率和所述廣角鏡頭所成的圖像畸變之后的實際像高,計算所述圖像零畸變時的理論像高;
生成模塊,用于根據所述理論像高和所述視場角,生成用于對所述廣角鏡頭所成的所述圖像的畸變進行校正的第一校正函數;所述第一校正函數為:y=Ax^5+Bx^4+Cx^3+Dx^2+Ex+F,其中,所述x為理論像高,所述y為視場角,所述A為所述理論像高的第一系數,所述B為所述理論像高的第二系數,所述C為所述理論像高的第三系數,所述D為所述理論像高的第四系數,所述E為所述理論像高的第五系數,所述F為所述理論像高的第六系數;
補償模塊,用于補償所述第一校正函數,獲取用于對廣角鏡頭光學模組所成的圖像的畸變進行校正的第二校正函數,包括:
補償子模塊,用于對所述第一校正函數的多項式系數進行調整,以補償所述第一校正函數,將補償之后的所述第一校正函數標記為調整函數;
校正子模塊,用于通過所述調整函數校正所述廣角鏡頭光學模組所成的圖像;
檢測子模塊,用于檢測通過所述調整函數校正后的所述圖像的畸變率是否等于零;
確認子模塊,用于在所述畸變率等于零時,確認當前調整函數為第二校正函數;
所述廣角鏡頭光學模組包括所述廣角鏡頭;
校正模塊,用于獲取所述廣角鏡頭光學模組所成的所述圖像,通過所述第二校正函數對所述廣角鏡頭光學模組所成的所述圖像進行校正。
6.如權利要求5所述的成像畸變校正裝置,其特征在于,所述補償模塊還包括:
記錄子模塊,用于在所述畸變率不等于零時,記錄所述調整函數對應的所述圖像的畸變率。
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