[發明專利]一種紅外帶通濾波器有效
| 申請號: | 201810921532.7 | 申請日: | 2018-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN110824599B | 公開(公告)日: | 2021-09-03 |
| 發明(設計)人: | 穆正堂;蘇佑敬 | 申請(專利權)人: | 白金科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/20 | 分類號: | G02B5/20 |
| 代理公司: | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315 | 代理人: | 許志勇;李有財 |
| 地址: | 中國臺灣桃園市龜*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紅外 帶通濾波器 | ||
本發明涉及一種紅外帶通濾波器,紅外帶通濾波器具有第一多層膜結構,第一多層膜結構包括多個Si:NH層及多個低折射率層,Si:NH層在800nm至1100nm的波長范圍內的折射率大于3.5及其消光系數小于0.0002;多個低折射率層與多個Si:NH層相互堆疊,低折射率層在800nm至1100nm的波長范圍內的折射率小于3;其中Si:NH層的折射率與低折射率層的折射率的差值大于0.5。本發明的紅外帶通濾波器具有800nm與1100nm的波長范圍內的通帶,在入射角從0度改變至30度時,通帶的中心波長的偏移幅度小于12nm,本發明的紅外帶通濾波器應用于三維成像系統時可提升三維影像解析能力。
技術領域
本發明涉及一種光學濾波的技術領域,尤其涉及一種紅外帶通濾波器。
背景技術
目前紅外帶通濾波器是將于光學基板的一表面形成多層膜結構,其另一表面形成多層抗反射層,多層膜結構通過多個高折射率層及多個低折射率層交互沉積而成,一般高折射率層的材料選用Ti3O5、Ta2O5、ZrO2、Nb2O5及TiO2中的一者,一般低折射率層的材料選用MgF2及SiO2中的一者。紅外帶通濾波器具有在800nm與1100nm的波長范圍內的通帶,在入射角從0度改變至30度時,通帶的中心波長的偏移幅度為31nm與34nm之間,如此角度改變時通帶的中心波長偏移較大,導致紅外帶通濾波器應用于三維成像系統,于大角度收光時發生無法識別或識別失敗的問題。
發明內容
針對現有技術中的不足,本發明的目的是提供一種紅外帶通濾波器。
為了解決上述技術問題,本發明揭示了一種紅外帶通濾波器,其具有第一多層膜結構,第一多層膜結構包括:多個Si:NH層,其在800nm至1100nm的波長范圍內的折射率大于3.5及其消光系數小于0.0002;以及多個低折射率層,其與多個Si:NH層相互堆疊,其在800nm至1100nm的波長范圍內的折射率小於3;其中Si:NH層的折射率與低折射率層的折射率的差值大于0.5。
根據本發明的一實施方式,上述紅外帶通濾波器更包括基板,基板設置于第一多層膜結構。
根據本發明的一實施方式,上述紅外帶通濾波器更包括第二多層膜結構,第二多層膜結構設置于基板,并與第一多層膜結構相對。
根據本發明的一實施方式,上述第二多層膜結構包括:多個Si:NH層,其在800nm至1100nm的波長范圍內的折射率大于3.5及其消光系數小于0.0002;以及多個低折射率層,其與多個所述Si:NH層相互堆疊,其在800nm至1100nm的波長范圍內的折射率小於3;其中所述Si:NH層的折射率與所述低折射率層的折射率的差值大于0.5。
根據本發明的一實施方式,上述紅外帶通濾波器具有與800nm至1100nm的波長范圍部份重疊的通帶,所述通帶的中心波長位于800nm與1100nm的波長范圍內,所述通帶外具有在400nm至1100nm的波長范圍內大于OD5的阻擋位凖。
根據本發明的一實施方式,上述紅外帶通濾波器具有與800nm至1100nm的波長范圍部份重疊的通帶,通帶的中心波長位于800nm與1100nm的波長范圍內。
根據本發明的一實施方式,上述在入射角從0度改變至30度時,通帶的中心波長的偏移幅度小于12nm。
根據本發明的一實施方式,上述Si:NH層的層數與低折射率層的層數的總和小于39層。
根據本發明的一實施方式,上述多個Si:NH層及多個低折射率層的總厚度小于4.5um。
根據本發明的一實施方式,上述紅外帶通濾波器的硬度大于莫氏硬度7。
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