[發(fā)明專利]極紫外光刻掩模多層膜相位型缺陷底部形貌檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810916327.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109031894B | 公開(公告)日: | 2019-12-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 成維;李思坤;王向朝;張恒;孟澤江 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20;G03F1/62;G03F1/44 |
| 代理公司: | 31317 上海恒慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人: | 張寧展 |
| 地址: | 201800 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多層膜 空間像 極紫外光刻掩模 形貌檢測(cè) 掩模 檢測(cè) 形貌參數(shù) 光刻仿真軟件 人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò) 相干衍射成像 形貌 空白掩模 模型求解 相位恢復(fù) 掩模缺陷 照明條件 準(zhǔn)確檢測(cè) 傅里葉 建模 掃描 采集 輸出 | ||
1.一種極紫外光刻掩模多層膜相位型缺陷底部形貌檢測(cè)方法,特征在于包括如下步驟:
步驟1.仿真獲取多種照明方向下含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像的強(qiáng)度:
選取n個(gè)滿足相鄰兩點(diǎn)光源照明下所成空間像頻譜范圍之間的重疊率大于60%的點(diǎn)光源,利用光刻仿真軟件仿真得到照明角度為l1,l2…ln時(shí)含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像的強(qiáng)度Ilr1,Ilr2…Ilrn;
步驟2.恢復(fù)含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像的相位:
①設(shè)含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像的復(fù)振幅為其中,Ih為空間像的振幅,為空間像的相位,設(shè)定Ih的初始值為任意照明方向下的含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像的強(qiáng)度,的初始值為0,對(duì)含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像復(fù)振幅的初始值作傅里葉變換,將其轉(zhuǎn)化為傅里葉域的寬光譜;
②用照明角度為l1時(shí)對(duì)應(yīng)的低通濾波器對(duì)寬光譜進(jìn)行低通濾波,然后對(duì)低通濾波后的寬光譜進(jìn)行傅里葉逆變換產(chǎn)生照明角度為l1時(shí)空間像復(fù)振幅的估計(jì)值Il1為照明角度為l1時(shí)空間像強(qiáng)度的估計(jì)值,為照明角度為l1時(shí)空間像相位的估計(jì)值;
③用照明角度為l1時(shí)仿真得到的含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像的強(qiáng)度Ilr1替代照明角度為l1時(shí)空間像復(fù)振幅的估計(jì)值中的Il1得到對(duì)作傅里葉變換,替代寬光譜中照明角度為l1時(shí)對(duì)應(yīng)的低通濾波器位置處頻譜,更新寬光譜,對(duì)寬光譜進(jìn)行傅里葉逆變換,更新含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像復(fù)振幅
④對(duì)于照明角度l2,l3…ln重復(fù)步驟②,③;
⑤設(shè)定當(dāng)兩次步驟④后更新得到的含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像復(fù)振幅中的空間像相位的差異的最大值小于閾值C時(shí),判定迭代收斂,重復(fù)步驟②-④直到兩次更新之間的含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像相位的差異的最大值小于C,停止迭代,此時(shí)的中的Ih為含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像的強(qiáng)度,為恢復(fù)的含多層膜相位型缺陷空白掩模空間像的相位;
步驟3.訓(xùn)練人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò):
選取m種缺陷底部高度hbot在0-50nm范圍內(nèi),缺陷底部半高全寬ωbot在0-50nm范圍內(nèi)的缺陷表面形貌參數(shù)相同的含多層膜相位型缺陷空白掩模;
重復(fù)步驟2得到m種具有不同缺陷底部形貌參數(shù)的含多層膜相位型缺陷空白掩模的空間像的強(qiáng)度Ih,將空間像的強(qiáng)度Ih開方可得空間像的振幅Ah,取振幅圖像的最小值A(chǔ)min和半高全寬Afwhm;
重復(fù)步驟2得到m種具有不同缺陷底部形貌參數(shù)的含多層膜相位型缺陷空白掩模的空間像的相位取相位圖像的最小值Pmin和半高全寬Pfwhm;
以振幅圖像的最小值A(chǔ)min、振幅圖像的半高全寬Afwhm、相位圖像的最小值Pmin、相位圖像的半高全寬Pfwhm作為人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的輸入,對(duì)應(yīng)的掩模多層膜相位型缺陷底部高度hbot和半高全寬ωbot作為人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的輸出,采用的人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)為含多隱層的深度學(xué)習(xí)結(jié)構(gòu),先使用四輸入二輸出的人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)對(duì)掩模多層膜相位型缺陷底部高度hbot和半高全寬ωbot同時(shí)進(jìn)行訓(xùn)練,形成訓(xùn)練后人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)1;再將掩模多層膜相位型缺陷底部半高全寬ωbot與振幅圖像的最小值A(chǔ)min,振幅圖像的半高全寬Afwhm,相位圖像的最小值Pmin,相位圖像的半高全寬Pfwhm一同作為人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的輸入,掩模多層膜相位型缺陷底部高度hbot作為人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的輸出,使用五輸入一輸出的人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)對(duì)掩模多層膜相位型缺陷底部高度hbot進(jìn)行訓(xùn)練,形成訓(xùn)練后人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)2;
步驟4.檢測(cè)掩模多層膜相位型缺陷底部形貌:
將待測(cè)空白掩模置于極紫外光刻機(jī)掩模臺(tái)上,空間像傳感器置于極紫外光刻機(jī)焦面處,采用點(diǎn)光源照明,調(diào)整點(diǎn)光源的位置使得照明方向與仿真時(shí)采用的照明方向相同,計(jì)算機(jī)控制空間像傳感器獲取照明角度為l1,l2…ln時(shí)待測(cè)空白掩模空間像的強(qiáng)度Ilr1,Ilr2…Ilrn;
根據(jù)步驟2得到待測(cè)空白掩模空間像的強(qiáng)度Ih,將空間像的強(qiáng)度Ih開方可得空間像的振幅Ah,取振幅圖像的最小值A(chǔ)min和半高全寬Afwhm;
根據(jù)步驟2得到待測(cè)空白掩模空間像的相位取相位圖像的最小值Pmin和半高全寬Pfwhm;
將振幅圖像的最小值A(chǔ)min、振幅圖像的半高全寬Afwhm、相位圖像的最小值Pmin、相位圖像的半高全寬Pfwhm輸入人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)1,檢測(cè)出掩模多層膜相位型缺陷底部的半高全寬ωbot,將得到的掩模多層膜相位型缺陷底部半高全寬ωbot與振幅圖像的最小值A(chǔ)min、振幅圖像的半高全寬Afwhm、相位圖像的最小值Pmin、相位圖像的半高全寬Pfwhm一同輸入人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)2,檢測(cè)出掩模多層膜相位型缺陷底部的高度hbot,完成掩模多層膜相位型缺陷底部形貌檢測(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的極紫外光刻掩模多層膜相位型缺陷底部形貌檢測(cè)方法,其特征在于,所述閾值C的范圍為0.00001≤C≤0.001。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





