[發明專利]一種釹鐵硼陶瓷表面金屬化磁控濺射鍍膜生產線

在審

• 申請號: 201810914508.0
• 申請日: 2018-08-13
• 公開（公告）號: CN108977783A
• 公開（公告）日: 2018-12-11
• 發明（設計）人: 朱選敏;郭愛云
• 申請（專利權）人: 武漢科瑞達真空科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 北京世譽鑫誠專利代理事務所(普通合伙) 11368
• 代理人: 郭官厚

本發明公開了一種釹鐵硼陶瓷表面金屬化磁控濺射鍍膜生產線，包括翻轉模塊、升降模塊、進出片模塊、真空鍍膜模塊、出片升降模塊，所述真空鍍膜模塊由多個真空腔體和多個腔體支架組成，且所有的真空腔體都安裝在腔體支架上，所述真空腔體內部設有內傳送系統，所述真空腔體上方配置有維護行車，所述腔體支架上安裝有基片回傳系統，所述真空鍍膜模塊分為進口真空段、進口緩沖真空段、進口過渡真空段、鍍膜工藝真空段、出口過渡真空段、出口緩沖真空段和出口真空段七段，本發明實現了小型陶瓷片磁控濺射金屬化鍍膜的大批量連續生產，每天的產能可以達到6萬?10萬片，尤其適合釹鐵硼磁性陶瓷片表面雙面金屬化功能膜的鍍膜，可以滿足市場化的需求。

技術領域

本發明涉及釹鐵硼陶瓷表面金屬化磁控濺射鍍膜技術領域，具體為一種釹鐵硼陶瓷表面金屬化磁控濺射鍍膜生產線。

背景技術

采用精煉、熔化鍛造、壓延加工或粉未冶金工藝制造的貴金屬及其合金的濺射靶材廣泛應用在半導體器件、顯示器件、記錄介質、磁性改性材料和波吸收改性等方面。例如Au、Pt、Pd、Ag靶材用于集成電路和大規模集成電路，CoCrPt、CoPt和CoPd等合金靶材用于磁記錄，Te(鋱)、Dy(鏑)靶材用于釹鐵硼陶瓷磁性改性等。

隨著混合動力汽車(HEV)產業的快速發展，汽車用的釹鐵硼磁鐵要求具有高的矯頑力且能高溫服役。而業界都常識是鏑/鋱(Dy/Tb)等重金屬稀有元素取代燒結釹鐵硼中Nd2Te14B晶粒中的Nd，將提高主相晶體的各向異性場，而使得磁體的矯頑力大幅度增加。但是重稀土資源稀缺價格昂貴，采用傳統的合金法提高矯頑力會大幅度增加成本，更加嚴重的是，由于重稀土離子與鐵離子之間的反磁耦合會造成原始添加后剩磁和磁能積大幅度下降。

最近采用晶界擴散滲鏑滲鋱技術對磁體進行改性處理，經過改技術處理后的磁體鏑或鋱分布在晶界周圍，形成了滲鏑或鋱的晶體改性區，避免了過多的取代主相晶體內部的釹，有效的避免了過多的使用鏑或鋱，同時在提高矯頑力的同時避免了剩磁的下降。

在釹鐵硼磁鐵陶瓷表面進行滲鏑滲鋱的技術，其工藝方案是，首先在鐵硼磁鐵陶瓷表面先采用磁控濺射的方法沉積鏑或鋱金屬膜層，然后再對陶瓷進行熱處理工藝進行滲透，形成滲鏑或鋱的晶體改性區。

近年來，由于電動汽車、風力發電、手機和無人機快速發展。采用的界擴散滲鏑滲鋱技術對磁體進行改性處理的釹鐵硼磁鐵需求量巨大，而現有的釹鐵硼陶瓷表面噴涂鋱和鏑的工藝的生產線大都不能批量化連續的生產，對人體有損害，對環境不友好，生產效率低下，難以滿足市場需求。本發明一種釹鐵硼陶瓷表面金屬化磁控濺射鍍膜生產線的試產成功，使得自動化大批量生產滲鏑滲鋱陶瓷產品成為可能。

發明內容

本發明的目的在于提供一種釹鐵硼陶瓷表面金屬化磁控濺射鍍膜生產線，它能有效的解決背景技術中存在的問題。