[發明專利]一種釹鐵硼陶瓷表面金屬化磁控濺射鍍膜生產線在審
| 申請號: | 201810914508.0 | 申請日: | 2018-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN108977783A | 公開(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發明(設計)人: | 朱選敏;郭愛云 | 申請(專利權)人: | 武漢科瑞達真空科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司: | 北京世譽鑫誠專利代理事務所(普通合伙) 11368 | 代理人: | 郭官厚 |
| 地址: | 430075 湖北省武漢市東湖高新技術開發區高新*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空段 腔體支架 真空鍍膜 真空腔體 陶瓷表面金屬化 磁控濺射鍍膜 升降模塊 釹鐵硼 緩沖 進口 金屬化鍍膜 雙面金屬化 陶瓷片表面 釹鐵硼磁性 出口真空 傳送系統 磁控濺射 鍍膜工藝 翻轉模塊 回傳系統 小型陶瓷 功能膜 體內部 真空腔 產能 出片 鍍膜 出口 行車 配置 維護 | ||
1.一種釹鐵硼陶瓷表面金屬化磁控濺射鍍膜生產線,包括翻轉模塊(1)、升降模塊(2)、進出片模塊(3)、真空鍍膜模塊(4)、出片升降模塊(5);其特征在于:所述真空鍍膜模塊(4)由多個真空腔體(6)和多個腔體支架(7)組成,且所有的真空腔體(6)都安裝在腔體支架(7)上,所述真空腔體(6)內部設有內傳送系統(12),所述真空腔體(6)上方配置有維護行車(14),所述腔體支架(7)上安裝有基片回傳系統(13),所述真空鍍膜模塊(4)分為進口真空段(41)、進口緩沖真空段(42)、進口過渡真空段(43)、鍍膜工藝真空段(44)、出口過渡真空段(45)、出口緩沖真空段(46)和出口真空段(47)七段,所述進口真空段(41)由真空腔體(6-1)和腔體支架(7-1)組成,所述真空腔體(6-1)進口處設有隔離閥(10-1),所述真空腔體(6-1)頂板上設有腔體維修門(11),所述腔體維修門(11)旁邊設有低真空前級抽氣系統(8),所述低真空前級抽氣系統(8)通過的抽氣管道(18)連接到真空腔體(6-1)的底部,所述抽氣管道(18)上設置有真空閥門(17),所述真空腔體(6-1)的側邊設計有過濾充氣裝置(19),所述進口緩沖真空段(42)由真空腔體(6-2)和腔體支架(7-2)組成,所述真空腔體(6-2)與真空腔體(6-1)連接,且連接處設有隔離閥(10-2),所述真空腔體(6-2)頂板上設有腔體維修門(11),底板上安裝有高真空抽氣系統(91),所述高真空抽氣系統(91)由不少于兩個分子泵(20)組成,所述分子泵(20)通過擋板閥(21)和管道(22)與高真空前級抽氣系統(92)連接,所述進口過渡真空段(43)由真空腔體(6-3)和腔體支架(7-3)組成,所述真空腔體(6-3)與真空腔體(6-2)連接,且連接處設有隔離閥(10-3),所述真空腔體(6-3)頂板上設有腔體維修門(11),底板上安裝有高真空抽氣系統(91),所述高真空抽氣系統(91)由不少于兩個分子泵(20)組成,所述分子泵(20)通過擋板閥(21)和管道(22)與高真空前級抽氣系統(92)連接,所述鍍膜工藝真空段(44)由不少于一個獨立的工藝真空段組成,每個獨立的工藝真空段由真空腔體(6-4)和腔體支架(7-4)組成,所述真空腔體(6-4)底板上安裝有安裝有高真空抽氣系統(91),所述高真空抽氣系統(91)由不少于兩個分子泵(20)組成,所述分子泵(20)通過擋板閥(21)和管道(22)與高真空前級抽氣系統(92)連接,所述出口過渡真空段(45)由真空腔體(6-5)和腔體支架(7-5)組成,所述真空腔體(6-5)與真空腔體(6-4)連接,且連接處設有隔離閥(10-4),所述真空腔體(6-5)的頂板上設有腔體維修門(11),底板上安裝有安裝有高真空抽氣系統(91),所述高真空抽氣系統(91)由不少于兩個分子泵(20)組成,所述分子泵(20)通過擋板閥(21)和管道(22)與高真空前級抽氣系統(92)連接,所述出口緩沖真空段(46)由真空腔體(6-6)和腔體支架(7-6)組成,所述真空腔體(6-6)與真空腔體(6-5)連接,且連接處設有隔離閥(10-5),所述真空腔體(6-6)的頂板上設有腔體維修門(11),底板上安裝有安裝有高真空抽氣系統(91),所述高真空抽氣系統(91)由不少于兩個分子泵(20)組成,所述分子泵(20)通過擋板閥(21)和管道(22)與高真空前級抽氣系統(92)連接,所述出口真空段(47)由真空腔體(6-5)和腔體支架(7-5)組成,所述真空腔體(6-5)口處設有隔離閥(10-6),所述真空腔體(6-7)頂板上設有腔體維修門(11),所述腔體維修門(11)旁邊設有低真空前級抽氣系統(8),所述低真空前級抽氣系統(8)由機械泵(15)與羅茨泵(16)組成,所述低真空前級抽氣系統(8)通過的抽氣管道(18)連接到真空腔體(6-1)的底部,所述抽氣管道(18)上設置有真空閥門(17),所述真空腔體(6-1)的側邊設計有過濾充氣裝置(19)。
2.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼陶瓷表面金屬化磁控濺射鍍膜生產線,其特征在于:所述進出片模塊(3)和真空鍍膜模塊(4)都設有上傳送系統(24)和下傳送系統(25),所述基片托盤(23)在上傳送系統(24)和下傳送系統(25)傳輸。
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